Choose the experimental features you want to try

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32018R1922R(04)

    Oprava nařízení Komise v přenesené pravomoci (EU) 2018/1922 ze dne 10. října 2018, kterým se mění nařízení Rady (ES) č. 428/2009, kterým se zavádí režim Společenství pro kontrolu vývozu, přepravy, zprostředkování a tranzitu zboží dvojího užití (Úř. věst. L 319, 14.12.2018)

    Úř. věst. L 105, 16.4.2019, p. 67–67 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

    ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2018/1922/corrigendum/2019-04-16/oj

    16.4.2019   

    CS

    Úřední věstník Evropské unie

    L 105/67


    Oprava nařízení Komise v přenesené pravomoci (EU) 2018/1922 ze dne 10. října 2018, kterým se mění nařízení Rady (ES) č. 428/2009, kterým se zavádí režim Společenství pro kontrolu vývozu, přepravy, zprostředkování a tranzitu zboží dvojího užití

    ( Úřední věstník Evropské unie L 319 ze dne 14. prosince 2018 )

    Strana 129, položka 3B001.f., body 3 a 4: opravuje se zarovnání bodů:

    místo:

    „3.

    Zařízení speciálně konstruovaná pro výrobu masek, která mají všechny tyto vlastnosti:

    a.

    využívají vychylovaného zaostřeného elektronového paprsku, iontového paprsku nebo „laserového“ paprsku; a

    b.

    mají některou z těchto vlastností:

    1.

    stopa paprsku o šířce v polovině maxima (full-width at half maximum (FWHM)) menší než 65 nm a umístění obrazu menší než 17 nm (střed + 3 sigma); nebo

    2.

    nevyužito;

    3.

    chyba překrytí masky druhou vrstvou menší než 23 nm (střed + 3 sigma);

    4.

    zařízení konstruovaná pro zpracování součástek za použití metod přímého zápisu, která mají všechny tyto vlastnosti:

    a.

    mají vychylovaný zaostřený elektronový paprsek; a

    b.

    mají některou z těchto vlastností:

    1.

    minimální velikost paprsku nejvýše 15 nm; nebo

    2.

    chyba překrytí menší než 27 nm (střední hodnota + 3 sigma);“,

    má být:

    „3.

    Zařízení speciálně konstruovaná pro výrobu masek, která mají všechny tyto vlastnosti:

    a.

    využívají vychylovaného zaostřeného elektronového paprsku, iontového paprsku nebo „laserového“ paprsku; a

    b.

    mají některou z těchto vlastností:

    1.

    stopa paprsku o šířce v polovině maxima (full-width at half maximum (FWHM)) menší než 65 nm a umístění obrazu menší než 17 nm (střed + 3 sigma); nebo

    2.

    nevyužito;

    3.

    chyba překrytí masky druhou vrstvou menší než 23 nm (střed + 3 sigma);

    4.

    zařízení konstruovaná pro zpracování součástek za použití metod přímého zápisu, která mají všechny tyto vlastnosti:

    a.

    mají vychylovaný zaostřený elektronový paprsek; a

    b.

    mají některou z těchto vlastností:

    1.

    minimální velikost paprsku nejvýše 15 nm; nebo

    2.

    chyba překrytí menší než 27 nm (střední hodnota + 3 sigma);“.


    Top