Choose the experimental features you want to try

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32018R1922R(04)

Rättelse till kommissionens delegerade förordning (EU) 2018/1922 av den 10 oktober 2018 om ändring av rådets förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområden (EUT L 319, 14.12.2018)

EUT L 105, 16.4.2019, p. 67–67 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2018/1922/corrigendum/2019-04-16/oj

16.4.2019   

SV

Europeiska unionens officiella tidning

L 105/67


Rättelse till kommissionens delegerade förordning (EU) 2018/1922 av den 10 oktober 2018 om ändring av rådets förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområden

( Europeiska unionens officiella tidning L 319 av den 14 december 2018 )

På sidan 129, under avsnitt 3B001 f, har uppställningen av punkterna 3 och 4 rättats.

I stället för:

”3.

Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser”strålar, och

b)

har något av följande:

1.

En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre 17 nm (medelvärde + 3 sigma).

2.

Används inte.

3.

Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.

4.

Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och

b)

har något av följande:

1.

En minsta strålstorlek på högst 15 nm.

2.

Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).”

ska det stå:

”3.

Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser”strålar, och

b)

har något av följande:

1.

En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre 17 nm (medelvärde + 3 sigma).

2.

Används inte.

3.

Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.

4.

Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och

b)

har något av följande:

1.

En minsta strålstorlek på högst 15 nm.

2.

Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).”


Top