Berigtigelse til Kommissionens delegerede forordning (EU) 2018/1922 af 10. oktober 2018 om ændring af Rådets forordning (EF) nr. 428/2009 om en fællesskabsordning for kontrol med udførsel, overførsel, mæglervirksomhed og transit i forbindelse med produkter med dobbelt anvendelse

( Den Europæiske Unions Tidende L 319 af 14. december 2018 )

Side 129, bilag I, under 3B001, litra f, berigtiges indrykningen for nr. 3 og 4:

I stedet for:

»3.

Udstyr, der er specielt konstrueret til maskefremstilling med alle følgende egenskaber:

a.	En afbøjet fokuseret elektronstråle, ionstråle eller ”laser”stråle og

En eller flere af følgende egenskaber:

1.	En fuld halvværdibredde (FWHM) pletstørrelse, der er mindre end 65 nm, og en billedplacering på mindre end 17 nm (gennemsnit + 3 sigma) eller

2.	Ikke anvendt

3.	Second-layer overlay error på mindre end 23 nm (gennemsnit + 3 sigma) på masken

Udstyr, der er konstrueret til behandling af indretninger, og som bruger direkte skrivemetoder, med alle følgende egenskaber:

a.	En afbøjet fokuseret elektronstråle og

En eller flere af følgende egenskaber:

1.	Stråle med en minimumstørrelse på højst 15 nm eller

2.	Overlay error på mindre end 27 nm (gennemsnit + 3 sigma)«

læses:

»3.

Udstyr, der er specielt konstrueret til maskefremstilling med alle følgende egenskaber:

a.	En afbøjet fokuseret elektronstråle, ionstråle eller ”laser”stråle og

En eller flere af følgende egenskaber:

1.	En fuld halvværdibredde (FWHM) pletstørrelse, der er mindre end 65 nm, og en billedplacering på mindre end 17 nm (gennemsnit + 3 sigma) eller

2.	Ikke anvendt

3.	Second-layer overlay error på mindre end 23 nm (gennemsnit + 3 sigma) på masken

Udstyr, der er konstrueret til behandling af indretninger, og som bruger direkte skrivemetoder, med alle følgende egenskaber:

a.	En afbøjet fokuseret elektronstråle og

En eller flere af følgende egenskaber:

1.	Stråle med en minimumstørrelse på højst 15 nm eller

2.	Overlay error på mindre end 27 nm (gennemsnit + 3 sigma)«.