EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32022R0001R(01)

Rectificare la Regulamentul delegat (UE) 2022/1 al Comisiei din 20 octombrie 2021 de modificare a Regulamentului (UE) 2021/821 al Parlamentului European și al Consiliului în ceea ce privește lista produselor cu dublă utilizare (Jurnalul Oficial al Uniunii Europene L 3 din 6 ianuarie 2022)

JO L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

RO

Jurnalul Oficial al Uniunii Europene

L 20/282


Rectificare la Regulamentul delegat (UE) 2022/1 al Comisiei din 20 octombrie 2021 de modificare a Regulamentului (UE) 2021/821 al Parlamentului European și al Consiliului în ceea ce privește lista produselor cu dublă utilizare

( Jurnalul Oficial al Uniunii Europene L 3 din 6 ianuarie 2022 )

La pagina 142, în anexă, punctul 3B001.f se înlocuiește cu următorul text:

„f.

echipamente litografice, după cum urmează:

1.

echipamente de aliniere și expunere cu repetiție secvențială (cu repetiție directă pe plachetă) sau cu repetiție și scanare (scanere), pentru prelucrarea plachetelor utilizând metode foto-optice sau cu raze X și care au oricare dintre următoarele caracteristici:

a.

o lungime de undă a sursei de lumină mai mică de 193 nm; sau

b.

capabile să producă un eșantion cu o „dimensiune a elementului de rezoluție minimă” (MRF) mai mică sau egală cu 45 nm;

Notă tehnică:

„Dimensiunea elementului de rezoluție minimă” (MRF) se calculează cu ajutorul formulei următoare:

Image 1

unde factorul K = 0,35

2.

echipamente de litografie cu imprimare, capabile să producă elemente mai mici sau egale cu 45 nm;

Notă:

3B001.f.2. include:

unelte de imprimare cu microcontact

unelte de embosare la cald

unelte de nanoimprimare litografică

unelte de litografie cu imprimare de tip „step and flash” (S-FIL)

3.

echipamente special concepute pentru executarea măștilor care au toate caracteristicile următoare:

a.

un fascicul de electroni, de ioni sau „laser” focalizat deflectat; și

b.

care prezintă oricare dintre următoarele caracteristici:

1.

o dimensiune a spotului mai mică de 65 nm la lățimea integrală la jumătatea înălțimii maxime (FWHM) și o plasare a imaginii mai mică de 17 nm (medie aritmetică + 3 sigma); sau

2.

neutilizat;

3.

o eroare de suprapunere la nivelul celui de-al doilea strat mai mică de 23 nm (medie + 3 sigma) pe mască;

4.

echipamente concepute pentru prelucrarea dispozitivelor care utilizează metode directe de scriere și care au toate caracteristicile următoare:

a.

un fascicul de electroni focalizat deflectat; și

b.

care prezintă oricare dintre următoarele caracteristici:

1.

o dimensiune minimă a fasciculului mai mică sau egală cu 15 nm; sau

2.

o eroare de suprapunere mai mică de 27 nm (medie + 3 sigma);”.


Top