Helyesbítés az (EU) 2021/821 európai parlamenti és tanácsi rendeletnek a kettős felhasználású termékek jegyzéke tekintetében történő módosításáról szóló, 2021. október 20-i felhatalmazáson alapuló bizottsági rendelethez

( Az Európai Unió Hivatalos Lapja L 3., 2022. január 6. )

A 142. oldalon, a melléklet 3B001.f pontja helyébe a következő szöveg lép:

„f.

Litográfiai berendezés, az alábbiak szerint:

A fotóoptikai vagy röntgen módszerrel történő szeletfeldolgozásra szolgáló irányzó, exponáló és ismétlő (közvetlen szeletre fotózás) vagy exponáló és letapogató (letapogatás) berendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:

a.	a fényforrás hullámhosszúsága rövidebb, mint 193 nm; vagy

b.	képes 45 nm, vagy annál kisebb 'minimális felbontási méretű' (MRF) minta létrehozására. Műszaki megjegyzés: A 'minimális felbontási méret' (MRF) kiszámítása a következők szerint történik: ahol a „K” faktor = 0,35

45 nm vagy annál kisebb felbontási méretű minta létrehozására képes imprinting litográfiai berendezés;

Megjegyzés:

A 3B001.f.2. pont magában foglalja az alábbiakat:

—	mikrokontaktus-nyomtatók

—	forró dombornyomásra szolgáló eszközök

—	nano-imprinting litográfiai eszközök

—	Step and Flesh imprinting litográfiai (S-FIL) eszközök

Kifejezetten maszkkészítésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbiak mindegyikével:

a.	eltérített fókuszált elektronsugár, ionsugár, vagy „lézer” sugár; és

rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.	a félértékszélességű sugárpont mérete kisebb, mint 65 nm és a képelhelyezés kisebb, mint 17 nm (számtani közép + 3 szigma); vagy

2.	nem használt;

3.	a maszkon a második rétegi átfedési hibája kisebb, mint 23 nm (számtani közép + 3 szigma);

Eszköz gyártására tervezett berendezés, amely közvetlen írásos módszert alkalmaz, és amely rendelkezik az alábbi jellemzők mindegyikével:

a.	eltérített fókuszált elektronsugár; és

rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.	a sugár minimális mérete 15 nm vagy annál kisebb; vagy

2.	az átfedési hiba kisebb, mint 27 nm (számtani közép + 3 szigma);”