EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32022R0001R(01)

Διορθωτικό στον κατ’ εξουσιοδότηση κανονισμό (ΕΕ) 2022/1 της Επιτροπής, της 20ής Οκτωβρίου 2021, για την τροποποίηση του κανονισμού (ΕΕ) 2021/821 του Ευρωπαϊκού Κοινοβουλίου και του Συμβουλίου όσον αφορά τον κατάλογο ειδών διπλής χρήσης (Επίσημη Εφημερίδα της Ευρωπαϊκής Ένωσης L 3 της 6ης Ιανουαρίου 2022)

ΕΕ L 20 της 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

EL

Επίσημη Εφημερίδα της Ευρωπαϊκής Ένωσης

L 20/282


Διορθωτικό στον κατ’ εξουσιοδότηση κανονισμό (ΕΕ) 2022/1 της Επιτροπής, της 20ής Οκτωβρίου 2021, για την τροποποίηση του κανονισμού (ΕΕ) 2021/821 του Ευρωπαϊκού Κοινοβουλίου και του Συμβουλίου όσον αφορά τον κατάλογο ειδών διπλής χρήσης

( Επίσημη Εφημερίδα της Ευρωπαϊκής Ένωσης L 3 της 6ης Ιανουαρίου 2022 )

Στη σελίδα 142, στο παράρτημα, στο σημείο 3B001.στ, το κείμενο τροποποιείται ως εξής:

«στ.

Εξοπλισμός λιθογραφίας, ως εξής:

1.

Εξοπλισμός ευθυγράμμισης και έκθεσης step and repeat (με άμεσο βήμα πάνω στο πλακίδιο) ή step and scan (με σάρωση) για την επεξεργασία πλακιδίων με τη χρήση φωτοοπτικών μεθόδων ή μεθόδων ακτίνων Χ και ο οποίος έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:

α.

Μήκος κύματος φωτεινής πηγής βραχύτερο από 193 nm· ή

β.

Ικανότητα να συνθέτει σχήματα με “ελάχιστο διαχωρίσιμο μέγεθος γνωρίσματος” (MRF) 45 nm ή μικρότερο·

Τεχνική σημείωση:

Το “ελάχιστο διαχωρίσιμο μέγεθος γνωρίσματος” (MRF) υπολογίζεται με τον εξής τύπο:

Image 1

όπου ο συντελεστής K = 0,35

2.

Εξοπλισμός εντυπωτικής λιθογραφίας ικανός να παράγει λεπτομέρειες διαστάσεων 45 nm και κάτω·

Σημείωση:

Στο σημείο 3Β001.στ.2. περιλαμβάνονται:

Τα εργαλεία τυπογραφίας μικροεπαφής

Τα εργαλεία θερμοεντύπωσης

Τα εργαλεία νανοεντυπωτικής λιθογραφίας

Τα εργαλεία εντυπωτικής λιθογραφίας με βήμα και λάμψη (step-and-flash)

3.

Εξοπλισμός που έχει ειδικά σχεδιαστεί για την παραγωγή μασκών με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:

α.

Εκτρεπόμενη εστιασμένη δέσμη ηλεκτρονίων, δέσμη ιόντων ή δέσμη «λέιζερ», και

β.

Με οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:

1.

Μέγεθος κηλίδας μισό του μεγίστου και με πλήρες πλάτος (FWHM) μικρότερο των 65 nm και θέση εικόνας μικρότερη των 17 nm (μέσο σφάλμα + 3 σίγμα)· ή

2.

Δεν χρησιμοποιείται·

3.

Σφάλμα επίστρωσης δευτέρου επιπέδου μικρότερο από 23 nm (μέσο σφάλμα + 3 σίγμα) επί της μάσκας·

4.

Εξοπλισμός που έχει ειδικά σχεδιαστεί για επεξεργασία συσκευών με τη χρήση μεθόδων άμεσης εγγραφής και έχει όλα τα ακόλουθα:

α.

Εκτρεπόμενη και εστιασμένη δέσμη ηλεκτρονίων·και

β.

Με οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:

1.

Ελάχιστο μέγεθος δέσμης ίσο ή μικρότερο από 15 nm· ή

2.

Σφάλμα επικάλυψης μικρότερο από 27 nm (μέσος όρος + 3 σίγμα)·».


Top