2021 m. spalio 20 d. Komisijos deleguotojo reglamento (ES) 2022/1, kuriuo dėl dvejopo naudojimo prekių sąrašo iš dalies keičiamas Europos Parlamento ir Tarybos reglamentas (ES) 2021/821, klaidų ištaisymas

( Europos Sąjungos oficialusis leidinys L 3, 2022 m. sausio 6 d. )

142 puslapis, priedas, 3B001 punkto f papunktis keičiamas taip:

„ f)

litografijos įranga, išvardyta toliau:

žingsninė tapdinimo ir eksponavimo (tiesiogiai tapdinanti ir eksponuojanti plokštelėje) arba žingsninė multiplikavimo įranga, skirta plokštelėms apdoroti fotooptiniais ar rentgeno spinduliuotės metodais, turinti bet kurią iš šių charakteristikų:

a)	šviesos šaltinio bangos ilgį, mažesnį kaip 193 nm, arba

b)	galinti sukurti paveikslus, kurių ‚mažiausias išskiriamo topologinio elemento matmuo‘ (MRF) lygus 45 nm arba mažesnis; Techninė pastaba ‚Mažiausias išskiriamo topologinio elemento matmuo‘ (MRF) yra apskaičiuojamas pagal formulę: jeigu K faktorius = 0,35;

litografinės spaudos įranga, kuria galima sukurti 45 nm ar mažesnes savybes;

Pastaba.

3B001.f.2 apima:

—	mikrokontaktinius spaudos įtaisus;

—	karštos reljefinės spaudos įrankius;

—	nanoįspaudimo litografijos įrankius;

—	žingsninės („step and flash“) litografijos (S-FIL) įrankius;

įranga, specialiai suprojektuota kaukėms, turinti visas šias charakteristikas:

a)	naudojanti kreipiamąjį sufokusuotą elektronų pluoštą, jonų pluoštą ar „lazerio“ pluoštą ir

turi bet kurią iš šių charakteristikų:

1.	spektrinio juostos puspločio (FWHM) dėmės matmenis, mažesnius nei 65 μm ir vaizdo įkėlimą, mažesnį nei 17 nm (vidutinė vertė + 3 sigma), arba

2.	nenaudojama;

3.	mažesnę nei 23 nm (vidutinė vertė + 3 sigma) antrojo sluoksnio kaukės tapatinimo paklaidą;

įranga, suprojektuota įtaisams apdoroti naudojant tiesioginio įrašymo metodus, turinti visas šias charakteristikas:

a)	kreipiamąjį sufokusuotą elektronų pluoštą ir

turi bet kurią iš šių charakteristikų:

1.	15 nm arba mažesnį minimalų pluošto dydį arba

2.	mažesnę nei 27 nm (vidutinė vertė + 3 sigma) kaukės tapatinimo paklaidą;“