Choose the experimental features you want to try

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32022R0001R(01)

Oikaisu komission delegoituun asetukseen (EU) 2022/1, annettu 20 päivänä lokakuuta 2021, Euroopan parlamentin ja neuvoston asetuksen (EU) 2021/821 muuttamisesta kaksikäyttötuotteiden luettelon osalta (Euroopan unionin virallinen lehti L 3, 6. tammikuuta 2022)

EUVL L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

FI

Euroopan unionin virallinen lehti

L 20/282


Oikaisu komission delegoituun asetukseen (EU) 2022/1, annettu 20 päivänä lokakuuta 2021, Euroopan parlamentin ja neuvoston asetuksen (EU) 2021/821 muuttamisesta kaksikäyttötuotteiden luettelon osalta

( Euroopan unionin virallinen lehti L 3, 6. tammikuuta 2022 )

Sivulla 142, liitteessä, kohta 3B001.f korvataan seuraavasti:

”f.

Seuraavat litografialaitteet:

1.

Askeltavat kohdistus- ja valotuslaitteet (suora kohdistus kiekkoon) tai kohdistus- ja pyyhkäisy- (skanneri) laitteet kiekkojen prosessointia varten, jotka käyttävät foto-optisia tai röntgenmenetelmiä ja joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:

a.

Valolähteen aallonpituus lyhyempi kuin 193 nm; tai

b.

Ne kykenevät tuottamaan kuvion, jonka ’pienin erottuva kuvion koko’ (MRF) on enintään 45 nm;

Tekn. huom.:

’Pienin erottuva kuvion koko’ (MRF) lasketaan seuraavalla kaavalla, jossa:

Image 1

jossa K-kerroin = 0,35

2.

Kohokuviointilaitteet, jotka kykenevät tuottamaan kuvioita, joiden koko on enintään 45 nm;

Huom.:

3B001.f.2 kohtaan sisältyvät:

Pehmytkuviointivälineet

Kuumapakotusvälineet

Nanomuokkauskuviointivälineet

Step and flash -kuviointi (S-FIL) -välineet

3.

Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu maskien valmistukseen ja joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:

a.

Poikkeutettu ja fokusoitu elektronisuihku, ionisuihku tai „laser” säde; ja

b.

Niillä on jokin seuraavista ominaisuuksista:

1.

Puoliarvoleveyden (FWHM) pistekoko pienempi kuin 65 m ja kuvan sijoitus alle 17 nm (keskiarvo + 3 sigmaa); tai

2.

Ei käytössä;

3.

Toisen kerroksen kohdistusvirhe alle 23 nm (keskiarvo + 3 sigmaa) maskissa;

4.

Laitteet, jotka on suunniteltu laitteiden prosessointiin käyttäen suoria kirjoitusjärjestelmiä (direct writing methods), joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:

a.

Poikkeutettu ja fokusoitu elektronisuihku; ja

b.

Niillä on jokin seuraavista ominaisuuksista:

1.

Suihkun vähimmäiskoko enintään 15 nm; tai

2.

Kohdistusvirhe alle 27 nm (keskiarvo + 3 sigmaa);”


Top