Access to European Union law
<a href="https://eur-lex.europa.eu/content/help/eurlex-content/experimental-features.html" target="_blank">More about the experimental features corner</a>
Choose the experimental features you want to try
EUR-Lex
Access to European Union law

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

You are here
Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search

Document 32022R0001R(01)

    Berigtigelse til Kommissionens delegerede forordning (EU) 2022/1 af 20. oktober 2021 om ændring af Europa-Parlamentets og Rådets forordning (EU) 2021/821 for så vidt angår listen over produkter med dobbelt anvendelse (Den Europæiske Unions Tidende L 3 af 6. januar 2022)

    EUT L 20 af 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

    ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

    31.1.2022   

    DA

    Den Europæiske Unions Tidende

    L 20/282

    Berigtigelse til Kommissionens delegerede forordning (EU) 2022/1 af 20. oktober 2021 om ændring af Europa-Parlamentets og Rådets forordning (EU) 2021/821 for så vidt angår listen over produkter med dobbelt anvendelse

    ( Den Europæiske Unions Tidende L 3 af 6. januar 2022 )

    Side 142, Bilaget, punkt 3B001.f affattes således:

    »f.

    Følgende litografiske udstyr:

    1.

    Step and repeatudstyr (direkte waferstepper) eller step and scanudstyr (scanner) til positionering og eksponering i forbindelse med waferprocesser ved brug af foto-optiske eller røntgenmetoder og med en eller flere af følgende egenskaber:

    a.

    Lyskildebølgelængde kortere end 193 nm eller

    b.

    I stand til at frembringe et mønster med en ‘mindste detaljeopløsning’ (MRF) på 45 nm eller derunder.

    Teknisk note:

    »Mindste detaljeopløsning« (MRF) beregnes efter følgende formel:

    Image 1

    hvor K-faktor = 0,35.

    2.

    Litografiske udstyr til prægning, der kan frembringe detaljer på 45 nm eller mindre;

    Note:

    		3B001.f.2 omfatter:

    —

    Mikrokontakttrykkeredskaber

    —

    Varmeprægningsredskaber

    —

    Litografiske redskaber til nanoprægning

    —

    Litografiske (S-FIL) redskaber til step-and-flash-prægning.

    3.

    Udstyr, der er specielt konstrueret til maskefremstilling med alle følgende egenskaber:

    a.

    En afbøjet fokuseret elektronstråle, ionstråle eller » laser« stråle og

    b.

    Med en eller flere af følgende egenskaber:

    1.

    En fuld halvværdibredde (FWHM) pletstørrelse, der er mindre end 65 nm, og en billedplacering på mindre end 17 nm (gennemsnit + 3 sigma) eller

    2.

    Ikke anvendt

    3.

    En fuld halvværdibredde (FWHM) pletstørrelse, der er mindre end 65 nm, og en billedplacering på mindre end 17 nm (gennemsnit + 3 sigma).

    4.

    Udstyr, der er konstrueret til behandling af indretninger, og som bruger direkte skrivemetoder, med alle følgende egenskaber:

    a.

    En afbøjet fokuseret elektronstråle og

    b.

    Med en eller flere af følgende egenskaber:

    1.

    Stråle med en minimumstørrelse på højst 15 nm eller

    2.

    Overlay error på mindre end 27 nm (gennemsnit + 3 sigma).«
    Top