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Document 32022R0001R(01)

Retificação do Regulamento Delegado (UE) 2022/1 da Comissão, de 20 de outubro de 2021, que altera o Regulamento (UE) 2021/821 do Parlamento Europeu e do Conselho no que diz respeito à lista de produtos de dupla utilização («Jornal Oficial da União Europeia» L 3 de 6 de janeiro de 2022)

JO L 20 de 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

Date of document:
31/01/2022; Data de publicação
Author:
Comissão Europeia
Form:
Regulamento delegado Retificação
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Modifies:
Relation Act Comment Subdivision concerned From To
Corrigendum to 32022R0001
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31.1.2022   

PT

Jornal Oficial da União Europeia

L 20/282

Retificação do Regulamento Delegado (UE) 2022/1 da Comissão, de 20 de outubro de 2021, que altera o Regulamento (UE) 2021/821 do Parlamento Europeu e do Conselho no que diz respeito à lista de produtos de dupla utilização

( «Jornal Oficial da União Europeia» L 3 de 6 de janeiro de 2022 )

Na página 142, no anexo, o ponto 3B001.f passa a ter a seguinte redação:

«f.

Equipamentos litográficos, como se segue:

1.

Equipamentos com repetição de alinhamento e exposição (avanço em bolacha) ou avanço e varrimento (dispositivo de varrimento) para o processamento de bolachas através de métodos de raios X ou foto-óticos e com qualquer das seguintes características:

a.

Comprimento de onda da fonte de luz inferior a 193 nm; ou

b.

Capazes de produzir um padrão com ‘dimensão do Traço Mínimo Resolúvel’ (TMR) igual ou inferior a 45 nm;

Nota técnica:

A ‘dimensão do Traço Mínimo Resolúvel’ (TMR) é calculada pela seguinte fórmula:

Image 1

em que o fator K = 0,35.

2.

Equipamentos de impressão litográfica capazes de produzir traços iguais ou inferiores a 45 nm;

Nota:

3B001.f.2. abrange:

—

Instrumentação de impressão por microcontacto

—

Instrumentação de embossagem a quente

—

Ferramentas de litografia por nanoimpressão

—

Ferramentas de impressão litográfica step and flash (S-FIL)

3.

Equipamentos especialmente concebidos para a realização de máscaras com todas as seguintes características:

a.

Feixes de eletrões, iões ou "laser" focados e refletidos; e

b.

Com qualquer das seguintes características:

1.

Dimensão do ponto a partir da largura total a meia altura (FWHM) inferior a 65 nm e posicionamento da imagem inferior a 17 nm (média + 3 sigma); ou

2.

Não utilizado;

3.

Erro no recobrimento da segunda camada inferior a 23 nm (média + 3 sigma) na máscara;

4.

Equipamentos concebidos para o tratamento de dispositivos por métodos de escrita direta, com todas as seguintes características:

a.

Feixe de eletrões focado e refletido; e

b.

Com qualquer das seguintes características:

1.

Dimensão mínima do feixe igual ou inferior a 15 nm; ou

2.

Erro no recobrimento inferior a 27 nm (média + 3 sigma);».
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