Choose the experimental features you want to try

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32019R2199R(01)

    2019 m. spalio 17 d. Komisijos deleguotojo reglamento (ES) 2019/2199, kuriuo iš dalies keičiamas Tarybos reglamentas (EB) Nr. 428/2009, nustatantis Bendrijos dvejopo naudojimo prekių eksporto, persiuntimo, susijusių tarpininkavimo paslaugų ir tranzito kontrolės režimą, klaidų ištaisymas (Europos Sąjungos oficialusis leidinys L 338, 2019 m. gruodžio 30 d.)

    OL L 51, 2020 2 25, p. 17–17 (ET)
    OL L 51, 2020 2 25, p. 13–13 (BG, ES, CS, DA, EL, IT, LV, LT, MT, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)
    OL L 51, 2020 2 25, p. 14–14 (DE, EN, FR, HR, HU, NL)

    ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2019/2199/corrigendum/2020-02-25/oj

    25.2.2020   

    LT

    Europos Sąjungos oficialusis leidinys

    L 51/13


    2019 m. spalio 17 d. Komisijos deleguotojo reglamento (ES) 2019/2199, kuriuo iš dalies keičiamas Tarybos reglamentas (EB) Nr. 428/2009, nustatantis Bendrijos dvejopo naudojimo prekių eksporto, persiuntimo, susijusių tarpininkavimo paslaugų ir tranzito kontrolės režimą, klaidų ištaisymas

    ( Europos Sąjungos oficialusis leidinys L 338, 2019 m. gruodžio 30 d. )

    129 puslapis, f punktas pakeičiamas taip:

    „f.

    litografijos įranga, išvardyta toliau:

    1.

    žingsninė tapdinimo ir eksponavimo (tiesiogiai tapdinanti ir eksponuojanti plokštelėje) arba žingsninė multiplikavimo įranga, skirta plokštelėms apdoroti fotooptiniais ar rentgeno spinduliuotės metodais, turinti bet kurią iš šių charakteristikų:

    a.

    šviesos šaltinio bangos ilgį, mažesnį kaip 193 nm, arba

    b.

    galinti sukurti paveikslus, kurių „mažiausias išskiriamo topologinio elemento matmuo“ (MRF) lygus 45 nm arba mažesnis;

    Techninė pastaba „Mažiausias išskiriamo topologinio elemento matmuo“ (MRF) yra apskaičiuojamas pagal formulę: Image 1 jeigu K faktorius = 0,35;

    2.

    litografinės spaudos įranga, kuria galima sukurti 45 nm ar mažesnes savybes;

    Pastaba. 3B001.f.2 apima:

    mikrokontaktinius spaudos įtaisus;

    karštos reljefinės spaudos įrankius;

    nanoįspaudimo litografijos įrankius;

    žingsninės („step and flash“) litografijos (S-FIL) įrankius;

    3.

    įranga, specialiai suprojektuota kaukėms, turinti visas šias charakteristikas:

    a.

    naudojanti kreipiamąjį sufokusuotą elektronų pluoštą, jonų pluoštą ar „lazerio“ pluoštą ir

    b.

    turinti bet kurią iš šių charakteristikų:

    1.

    spektrinio juostos puspločio (FWHM) dėmės matmenis, mažesnius nei 65 μm ir vaizdo įkėlimą, mažesnį nei 17 nm (vidutinė vertė + 3 sigma), arba

    2.

    nenaudojama;

    3.

    mažesnę nei 23 nm (vidutinė vertė + 3 sigma) antrojo sluoksnio kaukės tapatinimo paklaidą;

    4.

    įranga, suprojektuota įtaisams apdoroti naudojant tiesioginio įrašymo metodus, turinti visas šias charakteristikas:

    a.

    kreipiamąjį sufokusuotą elektronų pluoštą ir

    b.

    turinti bet kurią iš šių charakteristikų:

    1.

    15 nm arba mažesnį minimalų pluošto dydį arba

    2.

    mažesnę nei 27 nm (vidutinė vertė + 3 sigma) kaukės tapatinimo paklaidą;“


    Top