Back to EUR-Lex homepage

EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search
You are here

Document 32019R2199R(01)

Rättelse till kommissionens delegerade förordning (EU) 2019/2199 av den 17 oktober 2019 om ändring av rådets förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområden (Europeiska unionens officiella tidning L 338 av den 30 december 2019)

EUT L 51, 25.2.2020, p. 17–17 (ET)
EUT L 51, 25.2.2020, p. 13–13 (BG, ES, CS, DA, EL, IT, LV, LT, MT, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)
EUT L 51, 25.2.2020, p. 14–14 (DE, EN, FR, HR, HU, NL)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2019/2199/corrigendum/2020-02-25/oj

25.2.2020   

SV

Europeiska unionens officiella tidning

L 51/13

Rättelse till kommissionens delegerade förordning (EU) 2019/2199 av den 17 oktober 2019 om ändring av rådets förordning (EG) nr 428/2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområden

( Europeiska unionens officiella tidning L 338 av den 30 december 2019 )

På sidan 129 ska led f ersättas med följande:

”f)

Litografisk utrustning enligt följande:

1.

Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:

a)

Ljuskällans våglängd är kortare än 193 nm, eller

b)

kan producera ett mönster med en ’minsta upplösning för systemdimensionen’ (MRF) på 45 nm eller mindre.

Teknisk anmärkning: Den ’minsta upplösningen för systemdimensionen’ (MRF) beräknas med följande formel: Image 1 där K är en skalfaktor = 0,35

2.

Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 45 nm eller mindre.

Anmärkning:Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:

—

Verktyg för mikrokontakttryck.

—

Verktyg för värmeprägling.

—

Verktyg för nanopräglingslitografi.

—

S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).

3.

Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser”strålar, och

b)

har något av följande:

1.

En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre 17 nm (medelvärde + 3 sigma). eller

2.

används inte.

3.

Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.

4.

Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och

b)

har något av följande:

1.

En minsta strålstorlek på högst 15 nm.

2.

Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).”
Top