|
Europeiska unionens |
SV L-serien |
|
2026/90529 |
30.6.2026 |
Rättelse till kommissionens delegerade förordning (EU) 2025/2003 av den 8 september 2025 om ändring av Europaparlamentets och rådets förordning (EU) 2021/821 vad gäller förteckningen över produkter med dubbla användningsområden
( Europeiska unionens officiella tidning L, 2025/2003, 14 november 2025 )
Sidan 9, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del I tabellen ”Akronymer och förkortningar som används i denna bilaga” andra kolumnen tredje raden
I stället för:
”Physical Vapour Deposition (kemisk förångningsdeposition)”
ska det stå:
”Physical Vapour Deposition (fysisk förångningsdeposition)”.
Sidan 46, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del III post 1C001 b
I stället för:
|
”b) |
Material som inte är genomsläppliga för synligt ljus och som är särskilt utformade för att absorbera nära infraröd strålning med en våglängd på mer än 810 nm men mindre än 2 000 nm (frekvenser på mer än 150 THz men mindre än 370 THz).” |
ska det stå:
|
”b) |
Material som inte är genomsläppliga för synligt ljus och som är särskilt utformade för att absorbera nära infraröd strålning med en våglängd som är längre än 810 nm men kortare än 2 000 nm (frekvenser på mer än 150 THz men mindre än 370 THz).” |
Sidan 82, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del IV post 2B001 e.1 b
I stället för:
|
”b) |
Elektronstrålar.” |
ska det stå:
|
”b) |
Elektronstråle.” |
Sidan 82, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del IV post 2B001 e.1 c
I stället för:
|
”c) |
’Laser’ strålar.” |
ska det stå:
|
”c) |
’Laser’-stråle.” |
Sidan 101, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del IV post 2B510 inledningsfrasen
I stället för:
”Utrustning för additiv tillverkning, konstruerad för framställning av metaller eller legeringskomponenter och som har alla följande egenskaper, samt särskilt konstruerade komponenter till dessa:”
ska det stå:
”Utrustning för additiv tillverkning, konstruerad för framställning av metall- eller legeringskomponenter och som har alla följande egenskaper, samt särskilt konstruerade komponenter till dessa:”.
Sidan 102, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del IV post 2B510 a.2
I stället för:
|
”2. |
Elektronstrålar.” |
ska det stå:
|
”2. |
Elektronstråle.” |
Sidan 105, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del IV tabellen (Ytbeläggningstekniker) första kolumnen nionde raden
I stället för:
|
”B.1 |
Fysisk förångningsdeposition (PVD): Elektronstrålar (EB-PVD)” |
ska det stå:
|
”B.1 |
Fysisk förångningsdeposition (PVD): Elektronstråle (EB-PVD)”. |
Sidan 137, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3A501 a.16, teknisk anmärkning 1 c
I stället för:
|
”c) |
’Bitlängden för operationen’ för en MAC-beräkning är den största bitlängden för ingångarna i beräkningen.” |
ska det stå:
|
”c) |
’Bitlängden för operationen’ för en MAC-beräkning är den största bitlängden för ingångarna i multiplikationsberäkningen.” |
Sidan 140, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 f.1 inledningsfrasen
I stället för:
”Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:”
ska det stå:
”Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller skanningsutrustning (scanner, step and scan) för bearbetning av wafers som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:”.
Sidan 140, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 f.3 a
I stället för:
|
”a) |
Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ’laser’ strålar.” |
ska det stå:
|
”a) |
Den använder en avlänkad fokuserad elektron-, jon- eller ’laser’-stråle.” |
Sidan 140, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 f.3 b inledningsfrasen
I stället för:
”För vilka något av följande gäller:”
ska det stå:
”För vilken något av följande gäller:”.
Sidan 140, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 f.4 a
I stället för:
|
”a) |
Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar.” |
ska det stå:
|
”a) |
Den använder en avlänkad fokuserad elektronstråle.” |
Sidan 140, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 f.4 b inledningsfrasen
I stället för:
”För vilka något av följande gäller:”
ska det stå:
”För vilken något av följande gäller:”.
Sidan 140, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 h
I stället för:
|
”h) |
Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager som inte specificeras i avsnitt 3B001.g, och som är utformade för att användas av litografisk utrustning med en ljuskälla som har en våglängd mindre än 245 nm.” |
ska det stå:
|
”h) |
Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager som inte specificeras i avsnitt 3B001.g, och som är utformade för att användas av litografisk utrustning med en ljuskälla som har en våglängd kortare än 245 nm.” |
Sidan 141, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B001 j, teknisk anmärkning
I stället för:
”I avsnitt 3B001.j avses med ’extremt ultraviolett’ (’EUV’) att det elektromagnetiska spektrumet har våglängder som är större än 5 nm och mindre än 124 nm.”
ska det stå:
”I avsnitt 3B001.j avses med ’extremt ultraviolett’ (’EUV’) att det elektromagnetiska spektrumet har våglängder som är längre än 5 nm och kortare än 124 nm.”
Sidan 141, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B501 f.1 inledningsfrasen
I stället för:
”Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:”
ska det stå:
”Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller skanningsutrustning (scanner, step and scan) för bearbetning av wafers som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:”.
Sidan 142, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B501 k, anmärkning 2
I stället för:
|
”Anmärkning 2: |
Avsnitt 3B501.k.2 omfattar etsning med hjälp av RF-pulsexciterad plasma, pulsad exciterad plasma med hög pulskvot, plasma modifierad med pulsad spänning på elektroder, cyklisk injektion och urluftning av gaser i kombination med plasmaetsning, plasmaatomlageretsning eller plasmakvasiatomlageretsning.” |
ska det stå:
|
”Anmärkning 2: |
Avsnitt 3B501.k.2 omfattar etsning med hjälp av RF-pulsexciterad plasma, pulsad pulskvots-exciterad plasma, plasma modifierad med pulsad spänning på elektroder, cyklisk injektion och urluftning av gaser i kombination med plasmaetsning, plasmaatomlageretsning eller plasmakvasiatomlageretsning.” |
Sidan 142, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B501 l, teknisk anmärkning 2
I stället för:
|
”2. |
I avsnitt 3B501.l avses med ’extremt ultraviolett’ (’EUV’) att det elektromagnetiska spektrumet har våglängder som är större än 5 nm och mindre än 124 nm.” |
ska det stå:
|
”2. |
I avsnitt 3B501.l avses med ’extremt ultraviolett’ (’EUV’) att det elektromagnetiska spektrumet har våglängder som är längre än 5 nm och kortare än 124 nm.” |
Sidan 142, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B501 m, teknisk anmärkning 2
I stället för:
|
”2. |
I avsnitt 3B501.m avses med ’extremt ultraviolett’ (’EUV’) att det elektromagnetiska spektrumet har våglängder som är större än 5 nm och mindre än 124 nm.” |
ska det stå:
|
”2. |
I avsnitt 3B501.m avses med ’extremt ultraviolett’ (’EUV’) att det elektromagnetiska spektrumet har våglängder som är längre än 5 nm och kortare än 124 nm.” |
Sidan 144, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del V post 3B501 n.7 c.2
I stället för:
|
”2. |
Beläggning av ett koboltlager med hjälp av fysisk sprutterbeläggning och med ett processtryck över 1,33 × 10–1 Pa (1 mTorr) och under 1,33 × 101 Pa (100 mTorr), samtidigt som wafersubstratet bibehålls på en temperatur lägre än 773,15 K (500 °C).” |
ska det stå:
|
”2. |
Beläggning av ett koboltlager med hjälp av fysisk sputterbeläggningsteknik och med ett processtryck över 1,33 × 10–1 Pa (1 mTorr) och under 1,33 × 101 Pa (100 mTorr), samtidigt som wafersubstratet bibehålls på en temperatur lägre än 773,15 K (500 °C).” |
Sidan 153, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VI post 4A506 a.1, 4A506 a.2, 4A506 a.3, 4A506 a.4, 4A506 a.5, 4A506 a.6 och 4A506 a.7
I stället för:
”CNOT-fel”
ska det stå:
”C-NOT-fel”.
Sidan 154, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VI post 4A506, teknisk anmärkning 6
I stället för:
|
”6. |
’CNOT-fel’ är den genomsnittliga felfrekvensen för fysisk grind hos två fysiska kvantbitars CNOT (Controlled-NOT)-närmaste-granne-grindar.” |
ska det stå:
|
”6. |
’C-NOT-fel’ är den genomsnittliga felfrekvensen för fysisk grind hos två fysiska kvantbitars C-NOT (Controlled-NOT)-närmaste-granne-grindar.” |
Sidan 157, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VII post 5A001 b.1 d
I stället för:
|
”d) |
’Lasrar’ eller lysdioder (LED) med en utgångsvåglängd som är större än 400 nm och mindre än 700 nm, i ett ’lokalt nät’.” |
ska det stå:
|
”d) |
’Lasrar’ eller lysdioder (LED) med en utgångsvåglängd som är längre än 400 nm och kortare än 700 nm, i ett ’lokalt nät’.” |
Sidan 197, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VIII post 6A005 d.1 d.1 inledningsfrasen
I stället för:
”En våglängd på mindre än 1 400 nm och med någon av följande egenskaper:”
ska det stå:
”En våglängd kortare än 1 400 nm och med någon av följande egenskaper:”.
Sidan 197, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VIII post 6A005 d.1 d.3 inledningsfrasen
I stället för:
”En våglängd större eller lika med 1 900 nm med någon av följande egenskaper:”
ska det stå:
”En våglängd längre än eller lika med 1 900 nm med någon av följande egenskaper:”.
Sidan 200, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VIII post 6A005 f.3 a
I stället för:
|
”a) |
En ’noggrannhet’ på 0,1 μm eller mindre (bättre), för våglängder större än 1 μm.” |
ska det stå:
|
”a) |
En ’noggrannhet’ på 0,1 μm eller mindre (bättre), för våglängder längre än 1 μm.” |
Sidan 200, bilagan, som ersätter bilaga I till förordning (EU) 2021/821, del VIII post 6A005 f.3 b
I stället för:
|
”b) |
En ’noggrannhet’ på λ/10 eller mindre (bättre) vid beräknad våglängd, för våglängder lika med eller mindre än 1 μm.” |
ska det stå:
|
”b) |
En ’noggrannhet’ på λ/10 eller mindre (bättre) vid beräknad våglängd, för våglängder lika med eller kortare än 1 μm.” |
ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2025/2003/corrigendum/2026-06-30/oj
ISSN 1977-0820 (electronic edition)