Rectificare la Regulamentul delegat (UE) 2018/1922 al Comisiei din 10 octombrie 2018 de modificare a Regulamentului (CE) nr. 428/2009 al Consiliului de instituire a unui regim comunitar pentru controlul exporturilor, transferului, serviciilor de intermediere și tranzitului de produse cu dublă utilizare

( Jurnalul Oficial al Uniunii Europene L 319 din 14 decembrie 2018 )

La pagina 129, la secțiunea 3B001 litera f, la punctele 3 și 4, se corectează alinierea punctelor:

în loc de:

„3.

echipamente special concepute pentru executarea măștilor care au toate caracteristicile următoare:

a.	un fascicul de electroni, de ioni sau «laser» focalizat deflectat; și

care prezintă oricare dintre următoarele caracteristici:

1.	O dimensiune a spotului mai mică de 65 nm la lățimea integrală la jumătatea înălțimii maxime (FWHM) și o plasare a imaginii mai mică de 17 nm (medie aritmetică + 3 sigma); sau

2.	neutilizate;

3.	o eroare de suprapunere la nivelul celui de-al doilea strat mai mică de 23 nm (medie + 3 sigma) pe mască;

echipamente concepute pentru prelucrarea dispozitivelor care utilizează metode directe de scriere și care au toate caracteristicile următoare:

a.	un fascicul de electroni focalizat deflectat; și

care prezintă oricare dintre următoarele caracteristici:

1.	o dimensiune minimă a fasciculului mai mică sau egală cu 15 nm; sau

2.	o eroare de suprapunere mai mică de 27 nm (medie + 3 sigma);”,

se citește:

„3.

echipamente special concepute pentru executarea măștilor care au toate caracteristicile următoare:

a.	un fascicul de electroni, de ioni sau «laser» focalizat deflectat; și

care prezintă oricare dintre următoarele caracteristici:

1.	O dimensiune a spotului mai mică de 65 nm la lățimea integrală la jumătatea înălțimii maxime (FWHM) și o plasare a imaginii mai mică de 17 nm (medie aritmetică + 3 sigma); sau

2.	neutilizate;

3.	o eroare de suprapunere la nivelul celui de-al doilea strat mai mică de 23 nm (medie + 3 sigma) pe mască;

echipamente concepute pentru prelucrarea dispozitivelor care utilizează metode directe de scriere și care au toate caracteristicile următoare:

a.	un fascicul de electroni focalizat deflectat; și

care prezintă oricare dintre următoarele caracteristici:

1.	o dimensiune minimă a fasciculului mai mică sau egală cu 15 nm; sau

2.	o eroare de suprapunere mai mică de 27 nm (medie + 3 sigma);”.