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Document 32018R1922R(04)

Retificação do Regulamento Delegado (UE) 2018/1922 da Comissão, de 10 de outubro de 2018, que altera o Regulamento (CE) n.° 428/2009 do Conselho que cria um regime comunitário de controlo das exportações, transferências, corretagem e trânsito de produtos de dupla utilização (JO L 319 de 14.12.2018)

JO L 105 de 16.4.2019, p. 67–67 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2018/1922/corrigendum/2019-04-16/oj

Date of document:
16/04/2019; Data de publicação
Author:
Comissão Europeia
Form:
Retificação Regulamento delegado
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Modifies:
Relation Act Comment Subdivision concerned From To
Corrigendum to 32018R1922
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16.4.2019   

PT

Jornal Oficial da União Europeia

L 105/67

Retificação do Regulamento Delegado (UE) 2018/1922 da Comissão, de 10 de outubro de 2018, que altera o Regulamento (CE) n.o 428/2009 do Conselho que cria um regime comunitário de controlo das exportações, transferências, corretagem e trânsito de produtos de dupla utilização

( «Jornal Oficial da União Europeia» L 319 de 14 de dezembro de 2018 )

Na página 129, na entrada 3B001.f., o alinhamento dos pontos 3 e 4 é alterado do seguinte modo:

onde se lê:

«3.

Equipamentos especialmente concebidos para a realização de máscaras com todas as seguintes características:

a.

Feixes de eletrões, iões ou “laser” focados e refletidos; e

b.

Com qualquer das seguintes características:

1.

Dimensão do ponto a partir da largura total a meia altura (FWHM) inferior a 65 nm e posicionamento da imagem inferior a 17 nm (média + 3 sigma); ou

2.

Não utilizado;

3.

Erro no recobrimento da segunda camada inferior a 23 nm (média + 3 sigma) na máscara;

4.

Equipamentos concebidos para o tratamento de dispositivos por métodos de escrita direta, com todas as seguintes características:

a.

Feixe de eletrões focado e refletido; e

b.

Com qualquer das seguintes características:

1.

Dimensão mínima do feixe igual ou inferior a 15 nm; ou

2.

Erro no recobrimento inferior a 27 nm (média + 3 sigma);»,

deve ler-se:

«3.

Equipamentos especialmente concebidos para a realização de máscaras com todas as seguintes características:

a.

Feixes de eletrões, iões ou “laser” focados e refletidos; e

b.

Com qualquer das seguintes características:

1.

Dimensão do ponto a partir da largura total a meia altura (FWHM) inferior a 65 nm e posicionamento da imagem inferior a 17 nm (média + 3 sigma); ou

2.

Não utilizado;

3.

Erro no recobrimento da segunda camada inferior a 23 nm (média + 3 sigma) na máscara;

4.

Equipamentos concebidos para o tratamento de dispositivos por métodos de escrita direta, com todas as seguintes características:

a.

Feixe de eletrões focado e refletido; e

b.

Com qualquer das seguintes características:

1.

Dimensão mínima do feixe igual ou inferior a 15 nm; ou

2.

Erro no recobrimento inferior a 27 nm (média + 3 sigma);».
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