ISSN 1725-5139 |
||
Dziennik Urzędowy Unii Europejskiej |
L 278 |
|
Wydanie polskie |
Legislacja |
Tom 50 |
Spis treści |
|
I Akty przyjęte na mocy Traktatów WE/Euratom, których publikacja jest obowiązkowa |
Strona |
|
|
ROZPORZĄDZENIA |
|
|
* |
PL |
Akty, których tytuły wydrukowano zwykłą czcionką, odnoszą się do bieżącego zarządzania sprawami rolnictwa i generalnie zachowują ważność przez określony czas. Tytuły wszystkich innych aktów poprzedza gwiazdka, a drukuje się je czcionką pogrubioną. |
I Akty przyjęte na mocy Traktatów WE/Euratom, których publikacja jest obowiązkowa
ROZPORZĄDZENIA
22.10.2007 |
PL |
Dziennik Urzędowy Unii Europejskiej |
L 278/1 |
ROZPORZĄDZENIE RADY (WE) NR 1183/2007
z dnia 18 września 2007 r.
zmieniające i aktualizujące rozporządzenie (WE) nr 1334/2000 ustanawiające wspólnotowy system kontroli eksportu produktów i technologii podwójnego zastosowania
RADA UNII EUROPEJSKIEJ,
uwzględniając Traktat ustanawiający Wspólnotę Europejską, w szczególności jego art. 133,
uwzględniając wniosek Komisji,
a także mając na uwadze, co następuje:
(1) |
Rozporządzenie Rady (WE) nr 1334/2000 (1) wymaga, aby produkty podwójnego zastosowania (w tym oprogramowanie i technologia) podlegały skutecznej kontroli przy wywozie ze Wspólnoty. |
(2) |
W celu umożliwienia państwom członkowskim i Wspólnocie wywiązania się ze zobowiązań międzynarodowych załącznik I do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 ustanawia wspólny wykaz produktów i technologii podwójnego zastosowania, określonych w art. 3 tego rozporządzenia, które wprowadza uzgodnione na szczeblu międzynarodowym kontrole podwójnego zastosowania, w tym porozumienie z Wassenaar, Reżim Kontrolny Technologii Rakietowych (MTCR), Grupę Dostawców Sprzętu Jądrowego (NSG), Grupę Australijską i Konwencję o zakazie broni chemicznej (CWC). |
(3) |
Artykuł 11 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 stanowi, że załączniki I i IV są aktualizowane zgodnie z odpowiednimi obowiązkami i zobowiązaniami oraz wszelkimi ich zmianami, jakie każde państwo członkowskie przyjęło jako członek międzynarodowych reżimów nieproliferacyjnych i porozumień w sprawie kontroli eksportu lub w drodze ratyfikacji stosownych traktatów międzynarodowych. |
(4) |
Należy zmienić załączniki I i IV do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 w celu uwzględnienia zmian przyjętych przez porozumienie z Wassenaar, Grupę Australijską, MTCR i NSG od czasu ostatnich zmian przeprowadzonych w tych załącznikach przez rozporządzenie (WE) nr 394/2006. |
(5) |
W celu ułatwienia stosowania odesłań przez organy i podmioty kontroli eksportu należy opublikować uaktualnioną i skonsolidowaną wersję załączników do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000. |
(6) |
Należy zatem odpowiednio zmienić rozporządzenie (WE) nr 1334/2000, |
PRZYJMUJE NINIEJSZE ROZPORZĄDZENIE:
Artykuł 1
Załączniki do rozporządzenia (WE) nr 1334/2000 zastępuje się tekstem zawartym w załączniku do niniejszego rozporządzenia.
Artykuł 2
Niniejsze rozporządzenie wchodzi w życie trzydziestego dnia po jego opublikowaniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej.
Niniejsze rozporządzenie wiąże w całości i jest bezpośrednio stosowane we wszystkich państwach członkowskich.
Sporządzono w Brukseli dnia 18 września 2007 r.
W imieniu Rady
R. PEREIRA
Przewodniczący
(1) Dz.U. L 159 z 30.6.2000, str. 1. Rozporządzenie ostatnio zmienione rozporządzeniem (WE) nr 394/2006 (Dz.U. L 74 z 13.3.2006, str. 1).
ZAŁĄCZNIK
ZAŁĄCZNIK I
WYKAZ TOWARÓW I TECHNOLOGII PODWÓJNEGO ZASTOSOWANIA
(odnoszący się do art. 3 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000)
Niniejszy wykaz wprowadza uzgodnioną na poziomie międzynarodowym kontrolę produktów i technologii podwójnego zastosowania, w tym przez porozumienie z Wassenaar, Reżim Kontrolny Technologii Rakietowych (MTCR), Grupę Dostawców Sprzętu Jądrowego (NSG), Grupę Australijską i Konwencję o zakazie broni chemicznej (CWC). Nie zostały uwzględnione produkty, które państwa członkowskie chcą umieścić w dowolnych odrębnych wykazach. Nie uwzględniono jakiejkolwiek kontroli krajowej (kontrola pochodzenia pozasystemowego), która może być wykonywana przez państwa członkowskie.
UWAGI OGÓLNE DO ZAŁĄCZNIKA I:
1. |
W przypadku towarów, które są zaprojektowane lub zmodyfikowane do zastosowań wojskowych, należy sprawdzić także odpowiedni wykaz kontrolny uzbrojenia, publikowany w danym państwie członkowskim. Odsyłacz, który mówi „Sprawdź także Wykaz uzbrojenia”, odnosi się do tych wykazów. |
2. |
Obowiązek kontroli nałożony niniejszym wykazem nie może być omijany przez eksport jakichkolwiek dóbr niepodlegających kontroli (włącznie z fabrykami) zawierających jeden lub więcej komponentów podlegających kontroli, gdy kontrolowany komponent lub komponenty są zasadniczymi elementami tych dóbr i możliwe jest ich wydzielenie i zastosowanie do innych celów. NB.: Przy rozstrzyganiu, czy kontrolowany komponent lub komponenty mają być uważane za elementy zasadnicze, konieczne jest rozważenie czynników: ilości, wartości, zawartości technologicznego know-how i innych szczególnych okoliczności, które mogą zdecydować, że kontrolowany komponent lub komponenty są zasadniczymi elementami dostarczanych dóbr. |
3. |
Towary wymienione w niniejszym wykazie obejmują zarówno towary nowe, jak i używane. |
UWAGA DO TECHNOLOGII JĄDROWEJ (UdTJ):
(Czytać łącznie z grupą E kategorii 0)
„Technologia” bezpośrednio związana z jakimikolwiek towarami wymienionymi w kategorii 0 objęta jest kontrolą zgodnie z postanowieniami kategorii 0.
„Technologia”, która jest „niezbędna” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów objętych kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów taką kontrolą nieobjętych.
Zgoda na eksport określonych towarów upoważnia również do eksportu do tego samego użytkownika minimalnej „technologii” wymaganej dla instalacji, działania, utrzymania i naprawy tych towarów.
Kontrole transferu „technologii” nie mają zastosowania do informacji „będących własnością publiczną” lub związanych z „podstawowymi badaniami naukowymi”.
UWAGA OGÓLNA DO TECHNOLOGII (UOdT):
(Czytać łącznie z grupą E kategorii od 1 do 9)
Eksport „technologii”, która jest „niezbędna” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów wymienionych w kategoriach od 1 do 9, podlega kontroli na warunkach podanych w każdej z tych kategorii.
„Technologia”, która jest „niezbędna” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów objętych kontrolą, pozostaje pod taką samą kontrolą nawet wtedy, gdy może być stosowana do towarów taką kontrolą nieobjętych.
Kontrolą eksportu nie obejmuje się minimalnej „technologii” wymaganej do instalacji, działania, utrzymania i naprawy towarów niekontrolowanych lub takich, które uzyskały odrębnie zgodę na eksport.
NB.: Powyższe nie zwalnia od kontroli „technologii” wyszczególnionych w pozycjach 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a i 8E002.b.
Kontrola transferu „technologii” nie ma zastosowania do informacji „będących własnością publiczną”, związanych z „podstawowymi badaniami naukowymi” lub minimum informacji koniecznych przy składaniu wniosków patentowych.
UWAGA OGÓLNA DO OPROGRAMOWANIA (UOdO):
(Niniejsza uwaga jest nadrzędna w stosunku do zastrzeżeń określonych w grupie D kategorii od 0 do 9)
Nie podlega kontroli „oprogramowanie” z kategorii od 0 do 9 niniejszego wykazu, które jest:
a) |
ogólnie dostępne poprzez:
NB.: Litera a) uwagi ogólnej do oprogramowania nie zwalnia od kontroli „oprogramowania” wymienionego w kategorii 5, część 2 — „Bezpieczeństwo informacji”. |
b) |
uznawane za „będące własnością publiczną”. |
DEFINICJE TERMINÓW UŻYWANYCH W WYKAZACH:
Definicje terminów w ’cudzysłowie pojedynczym’ podano w uwadze technicznej do odpowiedniej pozycji.
Definicje terminów w „cudzysłowie podwójnym” są następujące:
NB.: Odnośniki do kategorii podano w nawiasach po zdefiniowanym terminie.
|
„Adaptacyjny dynamiczny wybór trasy” (5) Automatyczna zmiana trasy w ruchu na podstawie odbieranych i analizowanych informacji o bieżących warunkach w sieci. NB.: Nie dotyczy to przypadków decyzji o zmianie trasy podejmowanych na podstawie określonych wcześniej informacji. |
|
„Algorytm asymetryczny” (5) Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się różne, powiązane matematycznie, klucze do szyfrowania i deszyfrowania. NB.: Powszechnym zastosowaniem „algorytmu asymetrycznego” jest zarządzanie kluczami. |
|
„Algorytm symetryczny” (5) Algorytm kryptograficzny, w którym stosuje się identyczne klucze do szyfrowania i deszyfrowania. NB.: Powszechnym zastosowaniem „algorytmu symetrycznego” jest utajnianie danych. |
|
„Analizatory sygnałów” (3) Urządzenia do pomiaru i pokazywania podstawowych parametrów sygnałów o jednej częstotliwości, będących składowymi sygnałów wieloczęstotliwościowych. |
|
„Analizatory sygnałów dynamicznych” (3) „Analizatory sygnałów”, w których zastosowano techniki cyfrowego próbkowania i przekształcania w celu utworzenia obrazu widma Fouriera danej postaci fali, włącznie z informacjami o jej amplitudzie i fazie. NB.: Patrz także „Analizatory sygnałów”. |
|
„APP” (4) — patrz: „Skorygowana wydajność szczytowa”. |
|
„Atomizacja gazowa” (1) Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomocą strumienia gazu o wysokim ciśnieniu. |
|
„Atomizacja próżniowa” (1) Proces rozpylania strumienia stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej poprzez szybkie uwolnienie rozpuszczonego gazu w warunkach podciśnienia. |
|
„Atomizacja rotacyjna” (1) Proces rozpylania strumienia lub jeziorka stopionego metalu na kropelki o średnicy 500 mikrometrów lub mniejszej za pomocą siły odśrodkowej. |
|
„Automatyczne śledzenie celu” (6) Technika przetwarzania umożliwiająca automatyczne określanie i podawanie na wyjściu w czasie rzeczywistym ekstrapolowanej wartości najbardziej prawdopodobnego położenia celu. |
|
„Bezzałogowy statek powietrzny” („UAV”) (9) Każdy samolot zdolny do wzniesienia się w powietrze i kontynuowania kontrolowanego lotu i nawigacji bez obecności ludzi na pokładzie. |
|
„Bicie promieniowe” (odchylenie od właściwego ruchu) (2) Promieniowe przemieszczenie głównego wrzeciona w ciągu jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do osi wrzeciona w punkcie znajdującym się na zewnętrznej lub wewnętrznej badanej powierzchni obrotowej (patrz: ISO 230 część 1–1986, paragraf 5.61). |
|
„Bicie osiowe” (2) Przemieszczenie osiowe wrzeciona głównego podczas jednego obrotu, mierzone w płaszczyźnie prostopadłej do czoła wrzeciona, w punkcie sąsiadującym z obwodem czoła wrzeciona (patrz: ISO 230 część 1–1986, paragraf 5.63). |
|
„Bezpośrednie wytłaczanie hydrauliczne” (2) Technika odkształcania, w której stosowana jest napełniona płynem odkształcalna poduszka, działająca bezpośrednio na powierzchnię obrabianego przedmiotu. |
|
„Będące własnością publiczną” (UOdT UdTJ UOdO) W odniesieniu do niniejszego dokumentu oznacza „technologię” lub „oprogramowanie” dostępne bez żadnych ograniczeń co do ich dalszego rozpowszechniania (ograniczenia wynikające z praw autorskich nie wykluczają uznania „technologii” lub „oprogramowania” za „będące własnością publiczną”). |
|
„Całkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami” („FADEC”) (7, 9) Elektroniczny system sterowania turbiną gazową lub silnikami o złożonym cyklu, wykorzystujący komputer cyfrowy do kontroli parametrów niezbędnych do regulacji siły ciągu silnika lub mocy wyjściowej na wale w całym zakresie pracy silnika, od początku dozowania paliwa do odcięcia jego dopływu. |
|
„Całkowita gęstość prądu” (3) Całkowita liczba amperozwojów w cewce (tj. suma liczby zwojów pomnożona przez maksymalne natężenie prądu przenoszone przez każdy zwój) podzielona przez całkowity przekrój poprzeczny cewki (składającej się z włókienek nadprzewodzących, matrycy metalowej, w której osadzone są włókienka nadprzewodzące, materiału stanowiącego obudowę, kanałów chłodzących itp.). |
|
„Całkowita szybkość transmisji cyfrowej” (5) Liczba bitów, włącznie z bitami kodowymi linii, bitami nieinformacyjnymi i podobnymi, przepływających w jednostce czasu pomiędzy odpowiednimi urządzeniami w cyfrowym systemie transmisji. NB.: Patrz także „szybkość przesyłania danych cyfrowych”. |
|
„CE” — patrz: „Element obliczeniowy”. |
|
„Chwilowa szerokość pasma” (3, 5, 7) Szerokość pasma, w którym moc wyjściowa pozostaje na stałym poziomie z dokładnością do 3 dB bez regulacji innych parametrów roboczych. |
|
„Cyrkulacyjne układy równoważenia momentu lub cyrkulacyjne układy sterowania kierunkiem” (7) Układy, w których przepływ powietrza wokół powierzchni aerodynamicznych jest wykorzystywany do zwiększenia powstających na nich sił albo do kierowania nimi. |
|
„Cywilny statek powietrzny” (1, 7, 9) Wyłącznie „statki powietrzne” mające świadectwa zdatności do lotu opublikowane i wydane przez zarządy lotnictwa cywilnego, zezwalające na ich używanie do celów cywilnych na liniach wewnętrznych i zewnętrznych lub zezwalające na ich stosowanie do celów cywilnych, prywatnych lub związanych z prowadzeniem działalności gospodarczej. NB.: Patrz również „statek powietrzny”. |
|
„Czas przełączania częstotliwości” (3, 5) Maksymalny czas (tj. opóźnienie), jakiego potrzebuje sygnał przy przełączaniu się z jednej wybranej częstotliwości wyjściowej na inną, żeby osiągnąć:
|
|
„Czas trwania impulsu” (6) Czas trwania impulsu „lasera” mierzony na poziomie połowy natężenia pełnej szerokości (FWHI). |
|
"Czas trwania emisji lasera" (6) Czas, w którym "laser" emituje promieniowanie "lasera", który dla "laserów impulsowych" oznacza czas emitowania pojedynczego impulsu lub serii kolejnych impulsów. |
|
„Czas ustalania” (3) Podczas przełączania przetwornika z jednego poziomu na drugi czas potrzebny do otrzymania na wyjściu wartości różniącej się o połowę bitu od wartości końcowej. |
|
„Dokładność” (2, 6) Zazwyczaj określana w kategoriach niedokładności; jest to maksymalne odchylenie, dodatnie albo ujemne, danej wartości od uznanej wartości standardowej lub prawdziwej. |
|
„Element obliczeniowy” („CE”) (4) Najmniejsza jednostka obliczeniowa, której działanie daje wynik arytmetyczny lub logiczny. |
|
„Element o podstawowym znaczeniu” (4) W odniesieniu do kategorii 4 dany element jest „elementem o podstawowym znaczeniu”, jeżeli wartość jego wymiany stanowi ponad 35 % całkowitej wartości systemu, w którego skład wchodzi. Wartość elementu jest ceną płaconą za element przez producenta systemu lub przez firmę montującą system. Wartość całkowita jest zwykłą ceną sprzedaży osobom postronnym w miejscu produkcji lub w miejscu przygotowywania wysyłek towarów. |
|
„FADEC” — patrz: „Całkowicie autonomiczny system cyfrowego sterowania silnikami”. |
|
„Formowanie ekstrakcyjne z fazy stopionej” (1) Technika "gwałtownego krzepnięcia" i ekstrahowania wyrobu stopowego podobnego do taśmy, polegająca na wkładaniu krótkiego segmentu wirującego ochłodzonego bloku do wanny stopionego stopu metalowego. NB.: "Gwałtowne krzepnięcie": krzepnięcie stopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s. |
|
„Formowanie rotacyjne z fazy stopionej” (1) Technika „gwałtownego krzepnięcia” polegająca na uderzaniu strumienia stopionego metalu w wirujący ochłodzony blok, wskutek czego powstaje wyrób w postaci płatków, wstęgi lub pręcików. NB.: „Gwałtowne krzepnięcie”: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s. |
|
„Formowanie w stanie nadplastycznym” (1, 2) Technika odkształcania termicznego metali, których wydłużenie całkowite do zerwania, mierzone w temperaturze pokojowej tradycyjnymi technikami badania wytrzymałości na rozciąganie, w normalnych warunkach, jest bardzo małe (poniżej 20 %); jej celem jest co najmniej dwukrotne powiększenie tych wartości podczas obróbki. |
|
„Gęstość zastępcza” (6) Masa elementu optycznego na jednostkę pola powierzchni optycznej rzutowanej na powierzchnię optyczną. |
|
„Gram efektywny” (0, 1) „Gram efektywny”„specjalnego materiału rozszczepialnego” oznacza:
|
|
„Hybrydowy układ scalony” (3) Dowolna kombinacja układu(-ów) scalonego(-nych) lub układu scalonego z "elementami układu" albo "składnikami dyskretnymi" połączonymi ze sobą w celu realizacji określonej(-nych) funkcji, mająca wszystkie wymienione poniżej cechy:
|
|
„Immunotoksyna” (1) Koniugat jednokomórkowego przeciwciała monoklonalnego i „toksyny” lub „podjednostki toksyny”, który wpływa selektywnie na komórki chorobowo zmienione. |
|
„Instalacje do naprowadzania” (7) Systemy scalające proces pomiaru i obliczania położenia pojazdu i jego prędkości (tj. nawigację) z obliczeniami i wysyłaniem poleceń do systemów sterowania lotem pojazdu w celu skorygowania jego toru lotu. |
|
„Instalacje produkcyjne” (7, 9) Sprzęt i specjalnie do niego opracowane oprogramowanie, scalone w instalacje w celu „rozwoju” albo do jednej lub więcej faz „produkcji”. |
|
„Inteligentna karta osobista” (5) Karta inteligentna zaopatrzona w mikroukład, zaprogramowana do konkretnego zastosowania, bez możliwości przeprogramowania przez użytkownika do jakichkolwiek innych zastosowań. |
|
„Izolacja” (9) Pojęcie stosowane do podzespołów silnika rakietowego, tj. osłony, dyszy, wlotów, zamknięć osłon, obejmujące utrwalone lub półutrwalone maty kauczukowe zawierające materiał ogniotrwały lub izolacyjny. Można je również stosować na klatki lub klapy odprężające. |
|
„Izolowane żywe kultury” (1) Żywe kultury w postaci uśpionej i suchych preparatów. |
|
„Izostatyczne zagęszczanie na gorąco” (2) Technika ciśnieniowania odlewu w temperaturach powyżej 375 K (102 °C) w zamkniętej formie za pomocą różnych czynników (gaz, ciecz, cząstki stałe itp.), której celem jest wytworzenie jednakowej siły we wszystkich kierunkach w celu zmniejszenia albo eliminacji jam wewnętrznych w odlewie. |
|
„Kable” (1) Wiązki „włókien elementarnych”, zazwyczaj w przybliżeniu równoległe. |
|
"Kąt błądzenia losowego" (7) Narastanie błędu kątowego w czasie, spowodowane białym szumem w ruchu obrotowym (IEEE STD 528–2001). |
|
„Klasy kosmicznej” (3, 6) Odnosi się do produktów projektowanych, wytwarzanych i testowanych w taki sposób, żeby spełniały specjalne wymagania elektryczne, mechaniczne lub środowiskowe, związane z ich stosowaniem podczas wystrzeliwania i wykorzystywania satelitów lub urządzeń latających na dużych wysokościach, od 100 km wzwyż. |
|
„Kod wynikowy” (9) Sprzętowo wykonywalna postać dogodnego wyrażenia jednego lub więcej procesów („kod źródłowy” (język źródłowy)), które zostały przetworzone przez system programowania. |
|
„Kod źródłowy (albo język źródłowy)” (4, 6, 7, 9) Wygodny sposób wyrażenia jednego lub kilku procesów, który może być przekształcony przez system programowania w postać dającą się wykonać na urządzeniu („kod wynikowy” (lub język wynikowy)). |
|
„Kompleksowe sterowanie lotem” (7) Automatyczne sterowanie zmiennymi stanu „statku powietrznego” i toru lotu dla zrealizowania zadania bojowego odpowiednio do zmian w czasie rzeczywistym danych dotyczących celu, zagrożeń lub innego „statku powietrznego”. |
|
Kompresja impulsów (6) Kodowanie i przetwarzanie długiego impulsowego sygnału radarowego na krótki, przy zachowaniu korzyści wynikających z wysokiej energii impulsu. |
|
„Komputer cyfrowy” (4, 5) Urządzenie zdolne do wykonywania, w postaci jednej albo kilku zmiennych dyskretnych, wszystkich poniższych funkcji:
NB.: Modyfikacje zapamiętanej sekwencji instrukcji dotyczą wymiany trwałych urządzeń pamięciowych, ale nie fizycznych zmian przewodów lub połączeń. |
|
„Komputer hybrydowy” (4) Urządzenie zdolne do wykonywania wszystkich poniższych czynności:
|
|
„Komputer neuronowy” (4) Urządzenie obliczeniowe przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do naśladowania działalności neuronu lub zbioru neuronów, tj. urządzenie obliczeniowe wyróżniające się możliwością sprzętowego modulowania znaczenia i liczby połączeń pomiędzy wieloma elementami obliczeniowymi w oparciu o poprzednie dane. |
|
„Komputer optyczny” (4) Komputer zaprojektowany lub zmodyfikowany z przeznaczeniem do używania światła jako nośnika danych oraz taki, którego elementy obliczeniowo-logiczne działają bezpośrednio na sprzężonych urządzeniach optycznych. |
|
„Komputer z dynamiczną modyfikacją tablic” (4) Komputer, w którym przepływ i modyfikacja danych są dynamicznie sterowane przez użytkownika na poziomie bramek logicznych. |
|
„Komutacja optyczna” (5) Przekazywanie lub komutacja sygnałów w postaci optycznej bez przetwarzania na sygnały elektryczne. |
|
„Krąg Równego Prawdopodobieństwa” (CEP) (7) Jest to miara dokładności wyrażana jako promień okręgu ze środkiem w miejscu znajdowania się celu, w który wpada 50 % ładunków użytecznych, przy określonym zasięgu. |
|
„Kryptografia” (5) Dziedzina wiedzy zajmująca się zasadami, narzędziami i metodami przekształcania danych w celu ukrycia zawartych w nich informacji, zapobiegania możliwości tajnego ich modyfikowania lub eliminacji dostępu do nich osobom niepowołanym. „Kryptografia” ogranicza się do przekształcania informacji za pomocą jednego lub większej liczby "tajnych parametrów" (np. szyfrów) lub związanego z tym zarządzania kluczami. NB.: "Tajny parametr": wartość stała albo klucz trzymany w tajemnicy przed osobami postronnymi albo znany wyłącznie pewnej grupie osób. |
|
„Kryptografia kwantowa” (5) Grupa technik pozwalających uzyskiwać wspólny klucz do celów „kryptografii” poprzez pomiar własności kwantowych układu fizycznego (w tym własności fizycznych jawnie zależnych od praw optyki kwantowej, kwantowej teorii pola lub elektrodynamiki kwantowej). |
|
„Laser” (0, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9) Zespół elementów wytwarzający wiązkę światła spójnego zarówno w przestrzeni, jak i w czasie, wzmocnioną za pomocą stymulowanej emisji promieniowania. NB.: Patrz również
|
|
„Laser chemiczny” (6) „Laser”, w którym wzbudzanie czynnika następuje za pomocą energii pochodzącej z reakcji chemicznej. |
|
"Laser impulsowy" (6) "Laser", w którym "czas trwania impulsu" jest równy lub mniejszy niż 0,25 s. |
|
„Laser modulowany dobrocią” (6) „Laser”, którego energia, gromadzona w postaci odwrócenia obsadzeń, jest emitowana w postaci impulsu wskutek szybkiej zmiany dobroci rezonatora optycznego. |
|
"Laser o fali ciągłej" (6) "Laser" dający nominalnie stałą energię wyjściową w czasie dłuższym niż 0,25 s. |
|
„Laser o superwysokiej mocy” („SUPL.”) (6) „Laser”, który może dostarczyć energię wyjściową (całkowitą lub częściową) powyżej 1 kJ w ciągu 50 ms albo taki, którego moc przeciętna lub moc w przypadku fali ciągłej wynosi powyżej 20 kW. |
|
„Laser z przekazaniem energii” (6) „Laser”, w którym czynnik emitujący promieniowanie laserowe jest wzbudzany dzięki transferowi energii wskutek zderzeń atomów lub molekuł, niebiorących udziału w akcji laserowej, z atomami lub molekułami czynnika emitującego promieniowanie laserowe. |
|
„Liniowość” (2) „Liniowość” (zazwyczaj określana w kategoriach nieliniowości) stanowi maksymalne odchylenie parametru rzeczywistego (przeciętnej wartości górnego i dolnego odczytu na skali), w kierunku dodatnim lub ujemnym, od linii prostej poprowadzonej w taki sposób, żeby maksymalne odchylenia zostały wyrównane i zminimalizowane. |
|
„Lokalna sieć komputerowa” (4) System przesyłania danych mający wszystkie następujące cechy charakterystyczne:
NB.: "Jednostka danych": urządzenie mające możliwość nadawania lub odbierania sekwencji informacji cyfrowych. |
|
„Łączność kanałowa” (5) Metoda przesyłania sygnałów, w której pojedynczy kanał pomiędzy centralami telefonicznymi przenosi, za pomocą komunikatów etykietowanych, informacje sygnałowe dotyczące wielu układów lub rozmów oraz inne informacje, np. stosowane do obsługi sieci. |
|
„Magnetometry” (6) Przyrządy do wykrywania pól magnetycznych źródeł zewnętrznych względem przyrządu pomiarowego. Składają się z pojedynczego czujnika pola magnetycznego i odpowiedniego układu elektronicznego, na którego wyjściu jest wartość mierzonego pola magnetycznego. |
|
„Manipulatory” (2) „Manipulatory” obejmują uchwyty, ’aktywne jednostki oprzyrządowania’ lub wszelkie inne oprzyrządowanie zamontowane na podstawowej (bazowej) płycie kończącej ramię manipulacyjne „robota”. NB.: ’Aktywne jednostki oprzyrządowania’: urządzenia do przyłożenia mocy napędowej, energii procesowej lub czujnika do przedmiotu obrabianego. |
|
„Materiał kompozytowy” (1, 2, 6, 8, 9) „Matryca” oraz dodatkowa faza lub dodatkowe fazy, składające się z cząstek, włókienek, włókien lub dowolnej ich kombinacji, dodawanych w określonym celu lub celach. |
|
„Materiały odporne na korozyjne działanie UF6” (0) Mogą nimi być miedź, stal nierdzewna, aluminium, tlenek aluminium, stopy aluminium, nikiel lub stop zawierający 60 % wagowych lub więcej niklu oraz odporne na działanie UF6 fluorowane polimery węglowodorowe, stosownie do rodzaju procesu separacji. |
|
„Materiały włókniste lub włókienkowe” (0, 1, 2, 8) Termin „materiał włóknisty lub włókienkowy” obejmuje następujące pojęcia:
|
|
„Matryca” (1, 2, 8, 9) W zasadzie faza o strukturze ciągłej wypełniająca przestrzeń pomiędzy cząstkami, wiskerami lub włóknami. |
|
„Mechanizmy robocze” (2) Do „mechanizmów roboczych” zalicza się uchwyty, ’aktywne zespoły narzędziowe’ oraz wszelkie inne narzędzia mocowane do płyty roboczej na końcu ramienia manipulatora „robota”. NB.: ’Aktywne zespoły narzędziowe’: urządzenia przekazujące obrabianemu elementowi napęd, energię potrzebną do obróbki lub określające parametry obrabianego elementu. |
|
„Mierniki gradientu magnetycznego” (6) Przyrządy do wykrywania zmian przestrzennych pól magnetycznych ze źródeł zewnętrznych w stosunku do przyrządu pomiarowego. Składają się z wielu „magnetometrów” i odpowiednich układów elektronicznych, na których wyjściu jest mierzony gradient pola magnetycznego. NB.: Patrz również „Miernik gradientu magnetycznego własnego”. |
|
„Miernik gradientu magnetycznego własnego” (6) Pojedynczy element do pomiaru gradientu pola magnetycznego oraz związane z nim urządzenia elektroniczne, służący do pomiaru gradientu pola magnetycznego. NB.: Patrz również „Miernik gradientu magnetycznego”. |
|
„Mieszanina chemiczna” (1) oznacza produkt stały, płynny lub gazowy zrobiony z dwóch lub więcej składników, które nie reagują ze sobą w warunkach, w których mieszanina jest przechowywana. |
|
„Mieszanie” (1) Mieszanie włókien materiałów termoplastycznych z włóknami materiałów wzmacniających w celu wytworzenia mieszanki włókien wzmacniających z „matrycą”, mającej w całości formę włóknistą. |
|
„Mikroorganizmy” (1, 2) Bakterie, wirusy, mikoplazmy, riketsje, chlamydie lub grzyby, naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub materiału zawierającego żywe organizmy, który rozmyślnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami. |
|
„Moc szczytowa” (6) Najwyższy poziom mocy osiągany w "czasie trwania emisji lasera". |
|
„Moduł właściwy” (0, 1, 9) Moduł Younga w paskalach, równoważny N/m2 podzielonym przez ciężar właściwy w N/m3, mierzony w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotności względnej (50 ± 5) %. |
|
„Monolityczny układ scalony” (3) Kombinacja czynnych lub biernych, albo obu, ’elementów obwodu’ o następujących cechach charakterystycznych:
NB.: ’Element obwodu’: pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, taka jak jedna dioda, tranzystor, rezystor, kondensator itp. |
|
„Monospektralne czujniki obrazowe” (6) Czujniki pozwalające na zbieranie danych obrazowych z pojedynczego pasma widma dyskretnego. |
|
„Możliwość programowania przez użytkownika” (6) Możliwość wprowadzania, modyfikacji lub wymiany „programów” przez użytkownika na innej drodze niż poprzez:
|
|
„Nadprzewodniki” (1, 3, 6, 8) Materiały: tj. metale, stopy lub związki, które mogą całkowicie stracić swoją oporność, tj. które mogą uzyskać nieskończoną przewodność elektryczną i przewodzić prąd elektryczny o bardzo wysokich natężeniach bez wytwarzania ciepła Joule’a. NB.: „Nadprzewodzący” stan materiału jest indywidualnie scharakteryzowany „temperaturą krytyczną”, krytycznym polem magnetycznym, będącym funkcją temperatury, oraz krytyczną gęstością prądu, która jest funkcją zarówno pola magnetycznego, jak i temperatury. |
|
„Nadstopy” (2, 9) Stopy na osnowie niklu, kobaltu lub żelaza o bardzo wysokiej wytrzymałości w porównaniu z innymi stopami serii AISI 300 w temperaturach powyżej 922 K (649 °C), w skrajnych warunkach środowiskowych i eksploatacyjnych. |
|
„Nawigacja na bazie danych z wielu źródeł” („DBRN”) (7) Systemy oparte na danych z wielu źródeł uprzednio zmierzonych danych geograficznych zintegrowanych w celu uzyskania dokładnych informacji nawigacyjnych w warunkach dynamicznych. Do źródeł danych należą mapy batymetryczne, mapy nieba, mapy grawitacji, mapy magnetyczne lub trójwymiarowe cyfrowe mapy terenowe. |
|
„Niepewność pomiarowa” (2) Parametr charakterystyczny określający, na poziomie ufności 95 %, w jakiej odległości od wartości prawidłowej leży zmienna pomiarowa. W jego skład wchodzą niedające się skorygować odchylenia systematyczne, niedający się skorygować luz oraz odchylenia losowe (patrz: ISO 10360–2 lub VDI/VDE 2617). |
|
„Niezbędne” (UOdT 1–9) W odniesieniu do „technologii” dotyczy tylko tej części „technologii”, która jest szczególnie odpowiedzialna za osiągnięcie lub przekroczenie wartości parametrów, właściwości lub funkcji objętych kontrolą. Taka „niezbędna”„technologia” może dotyczyć różnych produktów. |
|
„Ochrona informacji” (4, 5) Wszystkie rodzaje sposobów i funkcji zapewniających dostęp, poufność lub nienaruszalność informacji lub komunikacji, z wyłączeniem sposobów i funkcji zabezpieczających przed wadliwym działaniem. Obejmuje „kryptografię”, "kryptoanalizę", ochronę przed przypadkowym przekazywaniem sygnałów odnoszących się do tajnych informacji oraz zabezpieczanie komputerów. NB.: "Kryptoanaliza": analiza systemów łączności szyfrowej albo ich wejść lub wyjść w celu uzyskania tajnych informacji lub danych, włączając w to tajne teksty. |
|
„Odchylenie położenia kątowego” (2) Maksymalna różnica pomiędzy położeniem kątowym a rzeczywistym, bardzo dokładnie zmierzonym położeniem kątowym po obróceniu stołu montażowego od jego położenia początkowego (patrz: VDI/VDE 2617, Draft "Rotary tables on coordinate measuring machines" — Stoły obrotowe współrzędnościowych maszyn pomiarowych). |
|
„Odporność na uszkodzenia” (4) Możliwość systemu komputerowego, po dowolnym wadliwym zadziałaniu części jego sprzętu lub „oprogramowania”, do kontynuacji działalności bez interwencji człowieka, na danym poziomie usług, zapewniającym: kontynuowanie działania, zachowanie danych bez ich naruszenia oraz odzyskanie zdolności usługowych w określonym czasie. |
|
„Opóźnienie sygnału bramki podstawowej” (3) Wartość opóźnienia sygnału odpowiadająca bramce podstawowej, używanej w "rodzinie"„monolitycznych układów scalonych”. Można ją wyznaczyć, dla danej "rodziny", jako opóźnienie sygnału na bramkę typową w ramach danej "rodziny" albo jako typowe opóźnienie na bramkę w ramach danej "rodziny". NB.1: Nie należy mylić „opóźnienia sygnału bramki podstawowej” z opóźnieniem wyjścia/wejścia złożonego „monolitycznego układu scalonego”. NB.2: Do "rodziny" zalicza się wszystkie układy scalone, do których metodologii produkcyjnej i danych technicznych, z wyjątkiem ich odpowiednich funkcji, stosują się następujące punkty:
|
|
„Oprogramowanie” (wszystko UOdO) Zbiór jednego lub więcej „programów” lub "mikroprogramów", wyrażony w dowolny zrozumiały sposób. NB.: "Mikroprogram" oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwołania. |
|
„Optyczny układ scalony” (3) „Monolityczny układ scalony” lub „hybrydowy układ scalony”, zaopatrzony w jedną lub więcej części przeznaczonych do działania w roli fotoczujników lub fotoemiterów albo do wykonywania funkcji optycznych lub elektrooptycznych. |
|
„Optymalizacja toru lotu” (7) Procedura minimalizująca odchylenia od czterowymiarowej (przestrzeń i czas) planowanej trajektorii lotu, oparta na zasadzie maksymalizacji osiągów lub efektywności realizacji zadania. |
|
„Pamięć operacyjna” (4) Podstawowa pamięć na dane lub instrukcje szybko dostępna dla jednostki centralnej. Składa się z pamięci wewnętrznej „komputera cyfrowego” oraz jednej z dodatkowych pamięci o strukturze hierarchicznej, takich jak pamięć podręczna (cache) lub pamięć dodatkowa z dostępem niesekwencyjnym. |
|
"Państwa (nie-)będące Stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" (1) są to te Państwa, w których Konwencja o zakazie rozwijania, produkcji, składowania i stosowania broni chemicznej (nie) weszła w życie (patrz: www.opcw.org). |
|
„Państwo Uczestniczące” (7, 9) Każde z państw uczestniczących w porozumieniu z Wassenaar (patrz: www.wassenaar.org). |
|
„Współczynnik dryftu (żyroskopu)” (7) Składowa wyjściowa rotacji żyroskopu funkcjonalnie niezależna od rotacji wejściowej. Jest wyrażany jako prędkość kątowa (IEEE STD 528–2001). |
|
„Płaski zespół ogniskowy” (6) Płaska warstwa o strukturze liniowej lub dwuwymiarowej albo kombinacja takich płaskich warstw, złożonych z oddzielnych elementów detekcyjnych, z elektronicznym urządzeniem odczytującym lub bez, pracująca w płaszczyźnie ogniskowej. NB.: Nie chodzi tu o stos pojedynczych elementów detekcyjnych ani dwa, trzy lub cztery elementy detekcyjne opóźniające, ani o realizację integracji wewnątrz elementu. |
|
„Piksel aktywny” (6, 8) Najmniejszy (pojedynczy) element sieci elementów półprzewodnikowych mający możliwość realizacji funkcji fotoelektrycznych w odpowiedzi na promieniowanie świetlne (elektromagnetyczne). |
|
„Pociski rakietowe” (1, 3, 6, 7, 9) Kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych, zdolne do przenoszenia ładunku użytecznego o masie co najmniej 500 kg na odległość co najmniej 300 km. |
|
„Podjednostka toksyny” (1) Strukturalnie i funkcjonalnie oddzielny składnik „toksyny”. |
|
„Podłoże” (3) Płytka materiału głównego z naniesionymi połączeniami albo bez nich, na której albo wewnątrz której można umieszczać "składniki dyskretne" lub układy scalone albo oba z nich. NB.1: "Składnik dyskretny": "element obwodu" w oddzielnej obudowie z własnymi końcówkami wyjściowymi. NB.2: "Element obwodu": pojedyncza, czynna lub bierna, funkcjonalna część układu elektronicznego, taka jak jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp. |
|
„Podstawowe badania naukowe” (UOdT, UdTJ) Prace doświadczalne lub teoretyczne prowadzone głównie w celu uzyskania nowej wiedzy o podstawach danego zjawiska lub obserwowalnych jego efektach, nienakierowane bezpośrednio na konkretne cele lub zadania praktyczne. |
|
„Podstawowe sterowanie lotem” (7) Sterowanie stabilnością i manewrowością „samolotu” za pomocą generatorów typu siła/moment, tj. za pomocą aerodynamicznych powierzchni sterujących lub sterowania wektorem ciągu. |
|
„Pojazdy lżejsze od powietrza” (9) Balony i statki powietrzne, które są wypełniane gorącym powietrzem lub innymi gazami lżejszymi od powietrza, takimi jak hel lub wodór. |
|
„Połączone czujniki radarowe” (6) Co najmniej dwa czujniki radarowe są ze sobą połączone, kiedy wymieniają między sobą informacje w czasie rzeczywistym. |
|
"Powtarzalność" (7) Stopień zgodności powtarzalnych pomiarów tej samej zmiennej w tych samych warunkach operacyjnych w sytuacji, gdy pomiędzy pomiarami występują zmiany warunków lub przerwy w działaniu (patrz: IEEE STD 528–2001 (odchylenie standardowe wielkości 1 sigma)). |
|
„Poziom szumu” (6) Sygnał elektryczny rozumiany w sensie gęstości mocy widmowej. „Poziom szumów” wyrażony w wartościach całkowitych (peak-to-peak) jest określony zależnością S2 pp = 8No (f2 — f1), gdzie Spp jest wartością całkowitą (maksymalną) sygnału (np. w nanoteslach), No jest gęstością mocy widmowej (np. {nanotesle}2/Hz), a (f2 — f1) określa daną szerokość pasma. |
|
„Półprodukt podłoży” (6) Materiał monolityczny o wymiarach umożliwiających wytworzenie z niego elementów optycznych, takich jak zwierciadła albo okienka optyczne. |
|
„Prasy izostatyczne” (2) Urządzenia umożliwiające ciśnieniowanie zamkniętych komór za pomocą różnych czynników roboczych (gazu, cieczy, cząstek stałych, itp.) w celu wytwarzania w komorze we wszystkich kierunkach równych ciśnień na obrabiany element lub materiał. |
|
„Preformy włókien węglowych” (1) Uporządkowany układ powlekanych lub niepowlekanych włókien przeznaczony do tworzenia struktur składowych przed użyciem „matrycy” do tworzenia „materiału kompozytowego”. |
|
„Produkcja” (wszystkie UOdT, UdTJ) Wszystkie etapy związane z produkcją, takie jak: technologia mechaniczna, wytwarzanie, scalanie, montaż (składanie), kontrola, testowanie, zapewnienie jakości. |
|
„Profile o zmiennej geometrii” (7) Profile, w których zastosowano klapy lub inne płaszczyzny na krawędzi spływu albo sloty lub osadzone przegubowo noski na krawędzi natarcia, którymi można sterować w locie. |
|
„Program” (2, 6) Sekwencja instrukcji do realizacji procesu, mająca postać wykonywalną lub przekształcalną na wykonywalną, za pomocą komputera elektronicznego. |
|
„Przestrajalność” (6) Zdolność „lasera” do wytwarzania ciągłego sygnału wyjściowego we wszystkich długościach fal w przedziale kilku przejść „laserowych”. „Laser” z selekcją liniową wytwarza dyskretne długości fal w ramach jednego przejścia „laserowego” i nie jest uważany za „przestrajalny”. |
|
„Przetwarzanie sygnałów” (3, 4, 5, 6) Przetwarzanie sygnałów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą takich algorytmów, jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciąganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub transformaty Walsha). |
|
„Przetwarzanie w czasie rzeczywistym” (6, 7) Przetwarzanie danych przez system komputerowy, zapewniające żądany poziom realizacji zadań w funkcji dostępnych środków, w gwarantowanym czasie odpowiedzi, bez względu na obciążenie systemu, kiedy jest on stymulowany przez wydarzenia zewnętrzne. |
|
„Przetworniki ciśnienia” (2) Urządzenia przetwarzające wyniki pomiaru ciśnienia na sygnał elektryczny. |
|
„Przędza” (1) Wiązka skręconych "skrętek". NB.: "Skrętka" oznacza wiązkę „włókien elementarnych” (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle. |
|
„Przydzielone przez ITU” (3, 5) oznacza przydział pasm częstotliwości zgodnie z Przepisami radiowymi ITU (International Telecommunication Union — Międzynarodowej Unii Telekomunikacyjnej) (wydanie 1998) dla służb podstawowych, dopuszczonych i pomocniczych. NB.: Nie obejmuje przydziałów dodatkowych i alternatywnych. |
|
„Przystosowany do użycia w działaniach wojennych” (1) Dowolna modyfikacja lub dobór (np. zmieniona czystość, dopuszczalny okres magazynowania, agresywność, charakterystyki propagacji lub odporność na promieniowanie nadfioletowe) przeznaczone do wzmocnienia efektów wywoływania strat w ludności lub zwierzętach, unieszkodliwiania sprzętu lub powodujących straty w uprawach rolnych lub środowisku. |
|
„Radar o rozproszonym widmie” (6) (Patrz: „Rozproszone widmo radarowe”). |
|
„Reaktor jądrowy” (0) Obiekty znajdujące się wewnątrz lub bezpośrednio przymocowane do zbiornika reaktora, wyposażenie sterujące poziomem mocy w rdzeniu oraz znajdujące się w nim zazwyczaj składniki wchodzą w bezpośrednią styczność z chłodziwem pierwotnym rdzenia reaktora albo sterują nim. |
|
„Robot” (2, 8) Manipulator wykonujący ruchy w sposób ciągły albo poruszający się od punktu do punktu, mogący korzystać z „czujników” i mający wszystkie następujące cechy charakterystyczne:
|
|
„Rowing” (1) Wiązka (zazwyczaj 12–120 szt.) w przybliżeniu równoległych "skrętek". NB.: "Skrętka" oznacza wiązkę „włókien elementarnych” (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle. |
|
„Rozdrabnianie” (1) Technika rozczłonkowania materiału na cząstki przez miażdżenie lub rozcieranie. |
|
„Rozdzielczość” (2) Najmniejsza działka urządzenia pomiarowego; w przypadku instrumentu cyfrowego jest to najmniej znaczący bit (patrz: ANSI B-89.1.12). |
|
„Rozproszone widmo radarowe” (6) Dowolna technika modulacji służąca do rozpraszania energii sygnału o stosunkowo wąskim paśmie częstotliwości na dużo szersze pasmo częstotliwości, za pomocą kodowania losowego lub pseudolosowego. |
|
„Rozrzucanie częstotliwości” (frequency hopping) (5) Forma „rozproszenia widma” polegająca na krokowo-dyskretnej zmianie częstotliwości nośnej pojedynczego kanału telekomunikacyjnego, w sposób losowy lub pseudolosowy. |
|
„Rozrzucone geograficznie” (6) Uważa się, że czujniki są rozrzucone geograficznie w przypadku, kiedy każdy z nich znajduje się w odległości od innego większej niż 1 500 m w dowolnym kierunku. Czujniki ruchome są zawsze traktowane jako „rozrzucone geograficznie”. |
|
„Rozwój” (wszystkie UOdT, UdTJ) Odnosi się do wszystkich etapów poprzedzających produkcję seryjną, takich jak: projektowanie, badania projektowe, analiza konstrukcyjna, koncepcja projektowania, montaż i testowanie prototypów, plany produkcji pilotowej, dane projektowe, proces przetwarzania danych projektowych w produkt, projektowanie konfiguracji, projektowanie montażu całościowego, rozplanowanie. |
|
„Ruchliwość częstotliwości w radarach” (6) Dowolna technika zmiany, wg sekwencji pseudolosowej, częstotliwości nośnej impulsowego nadajnika radarowego pomiędzy impulsami lub pomiędzy grupami impulsów, o wartość równą lub większą od szerokości pasma impulsu. |
|
"Skorygowana wydajność szczytowa" (4) Skorygowana największa prędkość, z jaką "komputery cyfrowe" wykonują zmiennoprzecinkowe operacje dodawania i mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych, wyraża się w teraflopsach ważonych (WT), jednostkach wynoszących 1012 skorygowanych operacji zmiennoprzecinkowych na sekundę. NB.: Patrz kategoria 4, uwaga techniczna. |
|
"Statek powietrzny" (1, 7, 9) Stałopłat, statek z obrotowymi skrzydłami, wiropłat (helikopter), statek ze zmiennym wirnikiem lub zmiennopłat. NB.: Patrz również „cywilny statek powietrzny”. |
|
„SHPL” — patrz: „Laser o superwysokiej mocy”. |
|
„Specjalny materiał rozszczepialny” (0) „Specjalny materiał rozszczepialny” oznacza pluton-239, uran-233, „uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233” oraz dowolne, zawierające je materiały. |
|
„Stabilność” (7) Odchylenie standardowe (1 sigma) zmienności danego parametru od jego wartości wzorcowej zmierzonej w ustalonych warunkach temperaturowych. Można ją wyrażać w funkcji czasu. |
|
„Stała czasowa” (6) Czas od chwili bodźca świetlnego do wzrostu prądu do wartości stanowiącej 1–1/e-krotną wartość wielkości końcowej (tj. 63 % wartości końcowej). |
|
„Stapianie mechaniczne” (1) Technika wykonywania stopów polegająca na mechanicznym łączeniu, rozdrabnianiu i ponownym łączeniu sproszkowanych pierwiastków i głównego składnika stopowego. Jako składnik stopowy może występować substancja niemetaliczna dodawana w postaci odpowiedniego proszku. |
|
„Statek kosmiczny” (7, 9) Czynne i bierne satelity i sondy kosmiczne. |
|
„Sterowanie kształtowe” (2) Co najmniej dwa ruchy „sterowane numerycznie”, realizowane zgodnie z instrukcjami określającymi następne położenie oraz potrzebne do osiągnięcia tego położenia prędkości posuwów. Prędkości posuwów nie są jednakowe, wskutek czego powstaje wymagany kształt (patrz: ISO/DIS 2806–1980). |
|
„Sterowanie numeryczne” (2) Automatyczne sterowanie procesem wykonywane przez urządzenie korzystające z danych numerycznych zazwyczaj wprowadzanych podczas realizacji operacji (patrz: ISO 2382). |
|
„Sterowanie mocą” (7) Zmiana mocy sygnału nadawanego przez wysokościomierz w taki sposób, żeby moc odbierana w „statku powietrznym” na danej wysokości była zawsze na minimalnym poziomie niezbędnym do określenia wysokości. |
|
„Sterowany elektronicznie układ antenowy fazowany” (5, 6) Antena kształtująca wiązkę za pomocą sprzężenia fazowego, tj. kierunek wiązki jest utrzymywany za pomocą elementów promieniujących o złożonych współczynnikach wzbudzenia, przy czym kierunek takiej wiązki (azymut i (lub) podniesienie kątowe) można zmieniać za pomocą sygnału elektrycznego zarówno dla nadawania, jak i odbioru. |
|
„Sterownik dostępu do sieci” (4) Interfejs fizyczny do sieci rozproszonej. Używa się w nim wspólnego nośnika działającego z taką samą „szybkością przesyłania danych cyfrowych” w systemie transmisji z arbitrażem (np. w sensie znacznika lub nośnika). Niezależnie od innych wybiera on adresowane do niego pakiety z danymi lub grupami danych (np. IEEE 802). Jest to zespół, który może być zintegrowany z komputerem lub urządzeniem telekomunikacyjnym, z zadaniem zapewniania dostępu do łączy telekomunikacyjnych. |
|
„Sterownik toru telekomunikacyjnego” (5) Interfejs fizyczny sterujący przepływem cyfrowych informacji synchronicznych lub asynchronicznych. Jest to zespół, który może stanowić podzespół komputera lub urządzenia telekomunikacyjnego zapewniającego dostęp do łączności. |
|
„Stół obrotowo-przechylny” (2) Stół umożliwiający obracanie i przechylanie obrabianego przedmiotu względem dwóch osi nierównoległych, które mogą być równocześnie koordynowane, co umożliwia „sterowanie kształtowe”. |
|
„Strumieniowe wieloprzetwarzanie danych” (4) Technika oparta na „mikroprogramie” lub architekturze sprzętu, umożliwiająca równoczesne przetwarzanie dwóch lub więcej sekwencji danych pod kontrolą jednej lub kilku sekwencji instrukcji za pomocą takich narzędzi, jak:
NB.: „Mikroprogram” oznacza sekwencję elementarnych instrukcji, przechowywanych w specjalnej pamięci, realizowanych po wprowadzeniu do rejestru instrukcji specjalnej dla niej instrukcji odwołania. |
|
„Syntetyzator częstotliwości” (3) Dowolny rodzaj źródła częstotliwości lub generatora sygnałów, bez względu na stosowaną technikę, zapewniający uzyskanie wielu równoczesnych lub alternatywnych częstotliwości wyjściowych z jednego lub kilku wyjść sterowanych lub regulowanych za pomocą mniejszej liczby częstotliwości wzorcowych (lub głównych). |
|
„Systemy eksperckie” (4, 7) Systemy wypracowujące wyniki poprzez zastosowanie pewnych zasad do danych przechowywanych w pamięci niezależnie od „programu” i mające następujące możliwości:
|
|
"Systemy kompensacji" (6) Wzorcowy czujnik natężenia pola, jeden lub więcej czujnik odniesienia (np. magnetometr wektorowy) wraz z oprogramowaniem zezwalającym na zmniejszenie szumu ruchu obrotowego ciała sztywnego platformy. |
|
„Szczepionka” (1) Preparat medyczny w postaci wyrobu farmaceutycznego, wytworzony na licencji albo po próbach badań rynkowych lub klinicznych na podstawie upoważnienia przez władze kraju produkcji lub kraju stosowania, który wprowadzony do ustroju ludzkiego lub zwierzęcego ma za zadanie wytworzenie w nim ochronnej odporności immunologicznej w celu zapobiegania chorobom. |
|
„Szerokość pasma czasu rzeczywistego” (2, 3) W „dynamicznych analizatorach sygnałów” — największy zakres częstotliwości, jaki analizator może przesłać na wyświetlacz lub do pamięci masowej, bez jakiejkolwiek przerwy w analizowaniu danych wejściowych. W przypadku analizatorów o więcej niż jednym kanale, obliczenia należy przeprowadzić dla takiej konfiguracji kanałów, która daje największą „szerokość pasma czasu rzeczywistego”. |
|
„Szybkość przesyłania danych cyfrowych” (5) Całkowita szybkość informacji w bitach, przesyłanych bezpośrednio na dowolnym typie nośnika. NB.: Patrz także „całkowita szybkość transmisji danych cyfrowych”. |
|
„Ścieżki systemowe” (6) Przetworzone, skorelowane (połączenie radiolokacyjnych danych o celu z położeniem lecącego samolotu) i zaktualizowane dane dotyczące położenia lecącego samolotu, przekazane kontrolerom w ośrodku kontroli ruchu powietrznego. |
|
"Przeciętna moc wyjściowa" (6) Całkowita energia wyjściowa "lasera" wyrażona w dżulach podzielona przez "czas trwania emisji lasera" w sekundach. |
|
„Taśma” (1) Materiał zbudowany z przeplatanych lub jednakowo ukierunkowanych „włókien elementarnych”, "skrętek", „rowingów”, „kabli” lub „przędz” itp., zazwyczaj impregnowany żywicą. NB.: "Skrętka" oznacza wiązkę „włókien elementarnych” (zazwyczaj ponad 200) uporządkowanych w przybliżeniu równolegle. |
|
„Technologia” (wszystkie UOdT UdTJ) Specyficzny rodzaj informacji, niezbędny do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” danego wyrobu. Informacja ta ma postać "danych technologicznych" lub "pomocy technicznej". NB.1: "Pomoc techniczna" może przybierać takie formy, jak: przekazanie instrukcji, umiejętności, szkolenie, przekazanie wiedzy na temat eksploatacji oraz usługi konsultacyjne i może obejmować transfer „danych technologicznych”. NB.2: "Dane technologiczne" mogą mieć formę odbitek, planów, wykresów, modeli, wzorów, tabel, projektów technicznych i opisów, podręczników i instrukcji w formie pisemnej lub zarejestrowanej na innych nośnikach lub urządzeniach, takich jak dyski, taśmy, pamięci wyłącznie do odczytu. |
|
„Temperatura krytyczna” (1, 3, 6) „Temperatura krytyczna” (nazywana czasami „temperaturą przemiany”) danego materiału „nadprzewodzącego” jest temperaturą, w której materiał całkowicie traci oporność dla przepływu elektrycznego prądu stałego. |
|
„Toksyny” (1, 2) Toksyny w postaci celowo wyizolowanych preparatów lub mieszanek, bez względu na sposób produkcji, różne od toksyn istniejących jako zanieczyszczenia innych materiałów, takich jak próbki patogenne, plony, żywność lub posiewy „mikroorganizmów”. |
|
„Układ scalony warstwowy” (3) Układ "elementów obwodu" i metalowych łączników, wytworzony techniką osadzania grubej lub cienkiej warstwy na "podłożu" o właściwościach izolujących. NB.: "Element obwodu": pojedyncza czynna lub bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp. |
|
„Układ mikrokomputerowy” (3) „Monolityczny układ scalony” lub „wieloukład scalony”, w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji instrukcji ogólnych, zawartych w pamięci wewnętrznej, na danych znajdujących się w pamięci wewnętrznej. NB.: Pamięć wewnętrzna może być wspomagana przez pamięć zewnętrzną. |
|
„Układ mikroprocesorowy” (3) „Monolityczny układ scalony” lub „wieloukład scalony”, w którego skład wchodzi jednostka arytmetyczno-logiczna (ALU) zdolna do realizacji szeregu instrukcji ogólnych zawartych w pamięci zewnętrznej. NB.1: „Układ mikroprocesorowy” zazwyczaj nie jest wyposażony w integralną pamięć dostępną dla użytkownika, ale do realizacji jego funkcji logicznych może być wykorzystywana pamięć istniejąca w mikroukładzie. NB.2: Definicja ta obejmuje zespoły układów przeznaczone do pracy razem, w celu realizacji funkcji „układu mikroprocesorowego”. |
|
„Układy aktywnego sterowania lotem” (7) Układy zapobiegające niepożądanym ruchom lub obciążeniom konstrukcji „samolotu” lub pocisku rakietowego dzięki autonomicznemu przetwarzaniu sygnałów z wielu czujników i wydawaniu niezbędnych poleceń do realizacji sterowania automatycznego. |
|
„Układy czujników optycznych sterowania lotem” (7) Układ czujników optycznych, wykorzystujący promień „lasera” do dostarczania w czasie rzeczywistym danych sterowania lotem w celu ich przetwarzania na pokładzie. |
|
„Ultraszybkie chłodzenie” (1) Technika "gwałtownego krzepnięcia" polegająca na uderzaniu stopionego strumienia metalu w ochłodzony blok, w wyniku czego powstaje produkt w postaci płatków. NB.: „Gwałtowne krzepnięcie”: krzepnięcie roztopionego materiału podczas chłodzenia z szybkością powyżej 1 000 K/s. |
|
„Ułamkowa szerokość pasma” (3) oznacza „szerokość chwilową pasma” podzieloną przez częstotliwość środkową, wyrażoną w procentach. |
|
„Uprzednio separowane” (0, 1) Oddzielone dowolną techniką wzbogacania kontrolowanego izotopu. |
|
„Uran naturalny” (0) Uran zawierający mieszaninę izotopów występujących w naturze. |
|
„Uran wzbogacony w izotopy 235 lub 233” (0) Uran zawierający izotopy 235 lub 233, albo oba, w takich ilościach, że stosunek łącznej zawartości tych izotopów do izotopu 238 jest większy niż stosunek zawartości izotopu 235 do izotopu 238 występujący w naturze (stosunek izotopowy 0,71 procenta). |
|
„Uran zubożony” (0) Uran, w którym zawartość izotopu 235 obniżono do ilości mniejszej niż w warunkach naturalnych. |
|
„Urządzenia produkcyjne” (1, 7, 9) Oprzyrządowanie, szablony, przyrządy obróbkowe, trzpienie, formy, matryce, uchwyty, mechanizmy synchronizujące, urządzenie testujące, inne maszyny i ich wyposażenie, z ograniczeniem do urządzeń specjalnie przeznaczonych lub zmodyfikowanych z przeznaczeniem do „rozwoju” lub jednej albo więcej faz „produkcji”. |
|
„Ustalony” (5) Algorytm kodowania lub kompresji, który nie może akceptować parametrów dostarczonych z zewnątrz (np. zmiennych do szyfrowania lub kluczy) i nie może być modyfikowany przez użytkownika. |
|
„Użytkowanie” (wszystkie UOdT UdTJ) Praca, instalowanie (włącznie z montażem na miejscu), konserwacja (kontrola), naprawa, remonty i odnawianie. |
|
„Widmo rozproszone” (5) Dowolna technika służąca do rozpraszania energii sygnału ze stosunkowo wąskiego kanału telekomunikacyjnego na dużo szersze widmo energii. |
|
„Wieloukład scalony” (3) Dwa lub więcej „monolityczne układy scalone”, spojone ze wspólnym „podłożem”. |
|
„Wielospektralne analizatory obrazowe” (6) Umożliwiają równoczesne lub szeregowe odbieranie danych obrazowych z dwóch lub więcej dyskretnych pasm spektralnych. Analizatory o więcej niż dwudziestu dyskretnych pasmach spektralnych są czasami nazywane hiperspektralnymi analizatorami obrazowymi. |
|
„Włókno elementarne” (lub -włókno) (1) Najmniejszy inkrement włókna, zazwyczaj mający średnicę kilku mikrometrów. |
|
„Wrzeciono wahadłowe” (2) Wrzeciono na narzędzia, zmieniające podczas procesu obróbki położenie kątowe swojej osi względem dowolnej innej osi. |
|
„Współczynnik skalowania (żyroskopu lub przyspieszeniomierza)” (7) Stosunek zmiany wartości wyjściowej do zmiany wartości wejściowej, która ma być mierzona. Współczynnik skalowania jest na ogół szacowany jako pochylenie linii prostej, którą można poprowadzić metodą najmniejszych kwadratów pomiędzy punktami określającymi parametry wejściowe/wyjściowe, uzyskanymi poprzez cykliczną zmianę parametrów wejściowych w przedziale ich wartości. |
|
„Wszystkie dostępne kompensacje” (2) Oznacza, że w celu zminimalizowania wszystkich systematycznych błędów pozycjonowania dla określonej obrabiarki ostatecznie uwzględniane są wszystkie możliwe do wykonania środki dostępne dla producenta. |
|
„Wychylenie wstępne przyspieszeniomierza” (7) Wartość wskazywana przez przyspieszeniomierz w przypadku braku przyspieszenia. |
|
„Wykładzina wewnętrzna” (9) Warstwa pośrednia pomiędzy paliwem stałym a osłoną lub warstwą izolacyjną. Zazwyczaj jest to płynna polimerowa zawiesina materiału ogniotrwałego lub izolacyjnego, np. węgiel z wypełniaczem polibutadienowym zakończonym grupami hydroksylowymi (HTPB) lub innym polimerem z dodatkiem środków utrwalających, rozpylonych lub rozsmarowanych na wewnętrznej powierzchni osłony. |
|
„Wytrzymałość właściwa na rozciąganie” (0, 1, 9) Wytrzymałość na rozciąganie w paskalach, równoważnych N/m2, podzielona przez masę właściwą w N/m3, mierzona w temperaturze (296 ± 2) K (23 ± 2) °C i przy wilgotności względnej (50 ± 5) %. |
|
„Wzmacnianie obrazu” (4) Przetwarzanie obrazów zawierających informacje, uzyskanych ze źródeł zewnętrznych, za pomocą algorytmów, takich jak kompresja czasu, filtrowanie, wyciąganie, selekcja, korelacja, splatanie lub przemieszczanie pomiędzy domenami (np. za pomocą szybkiej transformacji Fouriera lub transformacji Walsha). Nie obejmuje algorytmów, w których stosowane są wyłącznie przekształcenia liniowe lub obrotowe pojedynczego obrazu, takie jak przesunięcie, ekstrahowanie jakiejś cechy, rejestracja lub fałszywe barwienie. |
|
„Wzmocnienie optyczne” (5) W telekomunikacji optycznej technika wzmacniania polegająca na uzyskiwaniu sygnałów optycznych generowanych przez oddzielne źródło optyczne, bez ich przetwarzania na sygnały elektryczne, tj. za pomocą półprzewodnikowych wzmacniaczy optycznych lub światłowodowych wzmacniaczy luminescencyjnych. |
|
„Zasięg przyrządowy” (6) Jednoznacznie określony zasięg radaru. |
|
„Zespół elektroniczny” (2, 3, 4, 5) Pewna liczba elementów elektronicznych (tj. ’układów elementarnych’, ’elementów dyskretnych’, układów scalonych itp.) połączonych ze sobą w celu realizacji określonej(-ych) funkcji, wymienialna w całości, która zazwyczaj może być demontowana. NB.1: ’Element obwodu’: pojedyncza czynna albo bierna funkcjonalna część układu elektronicznego, np. jedna dioda, jeden tranzystor, jeden rezystor, jeden kondensator itp. NB.2: ’Element dyskretny’: oddzielnie obudowany ’układ elementarny’ z własnymi końcówkami wyjściowymi. |
|
„Ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci” (2, 3, 8) Sterowanie za pomocą instrukcji zaprogramowanych w pamięci elektronicznej, które procesor może realizować w celu kierowania parametrami uprzednio określonych funkcji. NB.: Urządzenie może być urządzeniem „ze sterowaniem zaprogramowanym w pamięci”, bez względu na to, czy pamięć elektroniczna jest wewnętrzna, czy też zewnętrzna względem urządzenia. |
|
„Zgrzewanie dyfuzyjne” (1, 2, 9) Łączenie molekularne w stanie stałym co najmniej dwóch oddzielnych metali w jeden element, przy czym wytrzymałość miejsca połączenia jest równa wytrzymałości najsłabszego z materiałów. |
|
„Zwierciadła odkształcalne” (6) (Określa się je również adaptacyjnymi zwierciadłami optycznymi). Są to zwierciadła mające:
|
AKRONIMY I SKRÓTY UŻYWANE W NINIEJSZYM ZAŁĄCZNIKU
Akronimy lub skróty użyte jako zdefiniowany termin znajdują się w „Definicjach terminów użytych w niniejszym załączniku”.
Akronim lub skrót |
Znaczenie |
ABEC |
Komitet Inżynierów Łożysk Pierścieniowych |
AGMA |
Amerykańskie Stowarzyszenie Producentów Przekładni |
AHRS |
układy informujące o położeniu i kursie |
AISI |
Amerykański Instytut Żelaza i Stali |
ALU |
jednostka arytmetyczno-logiczna |
ANSI |
Amerykański Narodowy Instytut Normalizacji |
ASTM |
Amerykańskie Towarzystwo Materiałoznawcze |
ATC |
kontrola ruchu lotniczego |
AVLIS |
instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą „laserów” w parach atomowych |
CAD |
projektowanie wspomagane komputerowo |
CAS |
Serwis Dokumentacji Chemicznej |
CCITT |
Międzynarodowy Komitet Konsultacyjny Telegraficzny i Telefoniczny |
CDU |
jednostka sterowania i wyświetlania |
CEP |
krąg równego prawdopodobieństwa |
CNTD |
rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem |
CRISLA |
reakcja chemiczna wywołana selektywną laserową aktywacją izotopów |
CVD |
osadzanie chemiczne z pary |
CW |
wojna chemiczna |
(CW) (dotyczy laserów) |
fala ciągła (w laserach) |
DME |
radiodalmierz |
DS |
ukierunkowane krzepnięcie |
EB-PVD |
fizyczne osadzanie pary z wiązką elektronów |
EBU |
Europejska Unia Nadawców |
ECM |
elektromechaniczne techniki obróbki |
ECR |
rezonans elektronowo-cyklotronowy |
EDM |
elektroiskrowe obrabiarki |
EEPROMS |
elektronicznie wymazywalna programowana pamięć tylko do odczytu |
EIA |
Stowarzyszenie Przemysłu Elektronicznego |
EMC |
kompatybilność elektromagnetyczna |
ETSI |
Europejski Instytut Norm Telekomunikacyjnych |
FFT |
szybka transformata Fouriera |
GLONASS |
globalny system nawigacji satelitarnej |
GPS |
globalny system lokalizacji |
HBT |
tranzystory heterobipolarne |
HDDR |
cyfrowy zapis magnetyczny z dużą gęstością |
HEMT |
tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów |
ICAO |
Międzynarodowa Organizacja Lotnictwa Cywilnego |
IEC |
Międzynarodowa Komisja Elektrotechniczna |
IEEE |
Instytut Inżynierów Elektryki i Elektroniki |
IFOV |
chwilowe pole widzenia |
ILS |
system lądowania na przyrządy |
IRIG |
grupa oprzyrządowania międzyzakresowego |
ISAR |
radar z odwróconą syntezą apertury |
ISO |
Międzynarodowa Organizacja Normalizacyjna |
ITU |
Międzynarodowy Związek Telekomunikacyjny |
JIS |
Japońska Norma Przemysłowa |
JT |
Joule-Thomson |
LIDAR |
radar optyczny |
LRU |
liniowy element wymienny |
MAC |
kod uwierzytelniania wiadomości |
Mach |
stosunek prędkości obiektu do prędkości dźwięku (od nazwiska Ernsta Macha) |
MLIS |
instalacje do rozdzielania izotopów za pomocą „laserów” molekularnych |
MLS |
mikrofalowe systemy lądowania |
MOCVD |
osadzanie z par lotnych związków metaloorganicznych |
MRI |
tworzenie obrazów za pomocą rezonansu magnetycznego |
MTBF |
średni czas międzyawaryjny |
Mtops |
milion teoretycznych operacji na sekundę |
MTTF |
średni czas do awarii |
NBC |
jądrowy, biologiczny i chemiczny |
NDT |
badanie nieniszczące |
PAR |
urządzenia radiolokacyjne dokładnego podejścia do lądowania |
PIN |
osobisty numer identyfikacyjny |
ppm |
części na milion |
PSD |
gęstość widmowa mocy |
QAM |
modulacja kwadraturowa |
RF |
częstotliwość radiowa |
SACMA |
Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych |
SAR |
radar z syntezą apertury |
SC |
monokryształ |
SLAR |
radar pokładowy obserwacji bocznej |
SMPTE |
Stowarzyszenie Inżynierów Filmowych i Telewizyjnych |
SRA |
warsztatowy zespół wymienny |
SRAM |
statyczna pamięć o dostępie swobodnym |
SRM |
metody zalecane przez SACMA |
SSB |
pojedyncza wstęga boczna |
SSR |
radar wtórnego nadzorowania |
TCSEC |
kryteria oszacowania poufnych systemów komputerowych |
TIR |
całkowity wskazany odczyt |
UV |
nadfiolet |
UTS |
jednostkowa wytrzymałość na rozciąganie |
VOR |
radiolatarnia kierunkowa wysokiej częstotliwości |
YAG |
granat itrowo-aluminiowy |
KATEGORIA 0
MATERIAŁY, INSTALACJE I URZĄDZENIA JĄDROWE
0A
Systemy, urządzenia i części
0A001
Następujące "reaktory jądrowe" oraz specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do użytkowania z nimi urządzenia i podzespoły:
a) |
"reaktory jądrowe" zdolne do pracy w taki sposób, żeby mogła w nich przebiegać kontrolowana, samopodtrzymująca się reakcja łańcuchowa; |
b) |
metalowe zbiorniki lub główne części do nich, także wykonane prototypowo w warsztatach, specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do umieszczania w nich rdzenia "reaktora jądrowego", w tym górne pokrywy zbiornika ciśnieniowego reaktora; |
c) |
urządzenia manipulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do załadunku i wyładunku elementów paliwowych "reaktorów jądrowych"; |
d) |
pręty regulacyjne specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do sterowania procesem rozszczepienia w "reaktorze jądrowym", odpowiednie elementy nośne lub zawieszenia, mechanizmy napędu oraz prowadnice rurowe do prętów regulacyjnych; |
e) |
przewody ciśnieniowe reaktora specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem na elementy paliwowe i chłodziwo w "reaktorze jądrowym", wytrzymałe na ciśnienia eksploatacyjne powyżej 5,1 MPa; |
f) |
cyrkon metaliczny lub jego stopy w postaci rur lub zespołów rur specjalnie zaprojektowanych lub wykonanych z przeznaczeniem do "reaktorów jądrowych", w których stosunek wagowy hafnu do cyrkonu wynosi poniżej 1:500; |
g) |
pompy pierwotnego obiegu specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do przetaczania chłodziwa w "reaktorach jądrowych"; |
h) |
"zespoły wewnętrzne reaktora" specjalnie zaprojektowane lub wykonane z przeznaczeniem do pracy w "reaktorze jądrowym", w tym elementy nośne rdzenia, kanały paliwowe, osłony termiczne, przegrody, siatki dystansujące rdzenia i płyty rozpraszające; Uwaga: W pozycji 0A001.h ’zespoły wewnętrzne reaktora’ oznaczają dowolną większą strukturę wewnątrz zbiornika reaktora wypełniającą jedną lub więcej funkcji, takich jak podtrzymywanie rdzenia, utrzymywanie osiowania elementów paliwowych, kierowanie przepływem chłodziwa w obiegu pierwotnym, zapewnienie osłon radiacyjnych zbiornika reaktora i oprzyrządowania wewnątrzrdzeniowego. |
i) |
wymienniki ciepła (wytwornice pary) specjalnie zaprojektowane lub przystosowane do stosowania w obiegu pierwotnym "reaktora jądrowego"; |
j) |
aparatura do detekcji i pomiaru promieniowania neutronowego specjalnie zaprojektowana lub przystosowana do określenia poziomu strumienia neutronów wewnątrz rdzenia "reaktora jądrowego". |
0B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
0B001
Następujące instalacje do separacji izotopów z "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" i "specjalnych materiałów rozszczepialnych" oraz urządzenia specjalnie do nich zaprojektowane lub wykonane:
a) |
następujące instalacje specjalnie przeznaczone do separacji izotopów "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" oraz "specjalnych materiałów rozszczepialnych":
|
b) |
następujące wirówki gazowe oraz zespoły i urządzenia, specjalnie zaprojektowane lub wykonane do stosowania w procesach wzbogacania metodą wirowania gazów: Uwaga: W pozycji 0B001.b ’materiał o wysokim stosunku wytrzymałości mechanicznej do gęstości’ oznacza jeden z poniższych:
|
c) |
następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do separacji metodą dyfuzji gazowej:
|
d) |
następujące urządzenia i podzespoły specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do aerodynamicznego wzbogacania materiałów:
|
e) |
następujące urządzenia i podzespoły do nich, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany chemicznej:
|
f) |
następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów techniką wymiany jonów:
|
g) |
następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci pary metalu za pomocą "laserów" (AVLIS):
|
h) |
następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozdzielania izotopów w postaci molekularnej za pomocą "laserów" (MLIS) lub reakcji chemicznej wywołanej selektywną laserową aktywacją izotopów (CRISLA):
|
i) |
następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do plazmowego rozdzielania materiałów:
|
j) |
następujące urządzenia i podzespoły, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do wzbogacania materiałów metodami elektromagnetycznymi:
|
0B002
Następujące specjalnie zaprojektowane lub wykonane pomocnicze instalacje, urządzenia i podzespoły do instalacji separacji izotopów wymienionych w pozycji 0B001, wykonane z "materiałów odpornych na korozyjne działanie UF6" lub chronione materiałami tego typu:
a) |
autoklawy, piece lub instalacje do doprowadzania UF6 do instalacji do wzbogacania; |
b) |
desublimatory lub wymrażarki do odprowadzania UF6 z instalacji przetwórczych i dalszego jego transportu po ogrzaniu; |
c) |
instalacje do produktu lub frakcji końcowych do transportu UF6 do zbiorników; |
d) |
instalacje do skraplania lub zestalania stosowane do usuwania UF6 z procesu wzbogacania drogą sprężania i przetwarzania UF6 w ciecz lub ciało stałe; |
e) |
instalacje rurociągowe i zbiorniki specjalnie przeznaczone do transportu i manipulowania UF6 w procesach rozdzielania izotopów metodą dyfuzji, ultrawirowania lub kaskady aerodynamicznej; |
f) |
|
g) |
spektrometry masowe (źródła jonów), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do bieżącego (on-line) pobierania próbek surowca, produktu lub frakcji końcowych ze strumieni zawierających UF6, posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy:
|
0B003
Następujące instalacje do przetwarzania uranu i urządzenia specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do nich:
a) |
instalacje do przetwarzania koncentratów rudy uranowej na UO3; |
b) |
instalacje do przetwarzania UO3 na UF6; |
c) |
instalacje do przetwarzania UO3 na UO2; |
d) |
instalacje do przetwarzania UO2 na UF4; |
e) |
instalacje do przetwarzania UF4 na UF6; |
f) |
instalacje do przetwarzania UF4 na metaliczny uran; |
g) |
instalacje do przetwarzania UF6 na UO2; |
h) |
instalacje do przetwarzania UF6 na UF4; |
i) |
instalacje do przetwarzania UO2 na UCl4. |
0B004
Następujące instalacje do produkcji lub stężania ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru oraz specjalnie do nich zaprojektowane i wykonane urządzenia:
a) |
następujące instalacje do produkcji ciężkiej wody, deuteru i związków deuteru:
|
b) |
następujące urządzenia i podzespoły:
|
0B005
Instalacje specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów jądrowych" oraz specjalnie dla nich zaprojektowane lub przystosowane urządzenia.
Uwaga: Instalacje do wytwarzania elementów paliwowych do "reaktorów jądrowych" obejmujące w urządzenia, które:
a) |
pozostają w bezpośrednim kontakcie z materiałami jądrowymi albo bezpośrednio je przetwarzają lub sterują procesem ich produkcji; |
b) |
uszczelniają materiały jądrowe wewnątrz ich koszulek; |
c) |
kontrolują szczelność koszulek; lub |
d) |
kontrolują końcową obróbkę paliwa stałego. |
0B006
Instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych "reaktorów jądrowych" oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urządzenia i podzespoły.
Uwaga: Pozycja 0B006 obejmuje:
a) |
instalacje do przerobu napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) elementów paliwowych "reaktorów jądrowych", w tym urządzenia i podzespoły, które zazwyczaj wchodzą w bezpośredni kontakt z materiałami jądrowymi, służą do ich bezpośredniego przetwarzania lub sterowania ich przepływem; |
b) |
maszyny do rozdrabniania lub kruszenia elementów paliwowych, tj. zdalnie sterowane urządzenia do cięcia, rozdrabniania lub krojenia napromieniowanych (wypalonych w różnym stopniu) zespołów, wiązek lub prętów paliwowych "reaktorów jądrowych"; |
c) |
urządzenia do rozpuszczania, zbiorniki podkrytyczne (np. pierścieniowe lub płaskie zbiorniki o małych średnicach), specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do rozpuszczania napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) paliwa do "reaktorów jądrowych", odporne na działanie gorących, silnie żrących płynów oraz przystosowane do zdalnego załadunku i obsługi; |
d) |
ekstraktory przeciwprądowe i urządzenia do separacji metodą wymiany jonów, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do przerobu napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" lub "specjalnych materiałów rozszczepialnych"; |
e) |
zbiorniki technologiczne lub magazynowe, specjalnie zaprojektowane w taki sposób, że są podkrytyczne i odporne na żrące działanie kwasu azotowego; Uwaga: Zbiorniki technologiczne lub magazynowe mogą mieć następujące właściwości:
|
f) |
instrumenty do sterowania procesem przetwarzania, specjalnie przeznaczone lub wykonane z przeznaczeniem do monitorowania lub sterowania przerobem napromieniowanego (wypalonego w różnym stopniu) "uranu naturalnego", "uranu zubożonego" lub "specjalnych materiałów rozszczepialnych". |
0B007
Instalacje do przetwarzania plutonu oraz specjalnie dla nich przeznaczone lub wykonane urządzenia i podzespoły.
a) |
Instalacje do przetwarzania azotanu plutonu na tlen; |
b) |
instalacje do wytwarzania metalicznego plutonu. |
0C
Materiały
0C001
"Uran naturalny" lub "uran zubożony" lub tor w formie metalu, stopu, związku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materiału zawierającego jeden lub więcej z powyższych materiałów.
Uwaga: Pozycja 0C001 nie obejmuje kontrolą:
a) |
czterech gramów lub mniej "uranu naturalnego" lub "uranu zubożonego", jeżeli znajduje się w czujnikach instrumentów pomiarowych; |
b) |
"uranu zubożonego" specjalnie wyprodukowanego z przeznaczeniem do wyrobu następujących produktów cywilnych spoza dziedziny jądrowej:
|
c) |
stopów zawierających mniej niż 5 % toru; |
d) |
produktów ceramicznych zawierających tor, ale wykonanych do zastosowań poza dziedziną jądrową. |
0C002
"Specjalne materiały rozszczepialne"
Uwaga: Pozycja 0C002 nie obejmuje kontrolą czterech "gramów efektywnych" lub mniej, w przypadku ich stosowania w czujnikach instrumentów pomiarowych.
0C003
Deuter, ciężka woda (tlenek deuteru) i inne związki deuteru oraz ich mieszaniny i roztwory, w których stosunek liczby atomów deuteru do atomów wodoru jest większy niż 1:5 000.
0C004
Grafit klasy jądrowej, o stopniu zanieczyszczenia poniżej 5 części na milion ’ekwiwalentu boru’ oraz gęstości większej niż 1,50 g/cm3.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1C107.
Uwaga 1: Pozycja 0C004 nie obejmuje kontrolą:
a) |
wyrobów grafitowych o masie mniejszej niż 1 kg, różnych od specjalnie zaprojektowanych lub przystosowanych do wykorzystania w reaktorach jądrowych; |
b) |
proszku grafitowego. |
Uwaga 2: W pozycji 0C004 ’ekwiwalent boru’ (BE) zdefiniowany jest jako suma BEZ dla domieszek (z pominięciem BEC dla węgla, ponieważ węgiel nie jest uważany za domieszkę) z uwzględnieniem boru, gdzie:
BEZ (ppm) = CF × stężenie pierwiastka Z określane w ppm (częściach na milion)
gdzie CF jest współczynnikiem przeliczeniowym
a σB i σZ są przekrojami czynnymi na wychwyt neutronów termicznych (w barnach) odpowiednio dla boru pochodzenia naturalnego i pierwiastka Z, a AB i AZ są masami atomowymi odpowiednio boru naturalnego i pierwiastka Z.
0C005
Specjalnie wzbogacone związki lub proszki do wyrobu przegród do dyfuzji gazowej, odporne na korozyjne działanie UF6, np. nikiel lub stop zawierający 60 % wagowych lub więcej niklu, tlenek aluminium i całkowicie fluorowane polimery węglowodorowe o procentowym stopniu czystości w proporcji wagowej 99,9 lub powyżej i średniej wielkości cząstek poniżej 10 mikrometrów, mierzonej według normy Amerykańskiego Towarzystwa Materiałoznawczego (ASTM) B330 i wysokim stopniu jednorodności wymiarowej cząstek.
0D
Oprogramowanie
0D001
"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wymienionych w tej kategorii
0E
Technologia
0E001
"Technologie" według uwagi do technologii jądrowej, do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wymienionych w tej kategorii
KATEGORIA 1
MATERIAŁY, SUBSTANCJE CHEMICZNE, "MIKROORGANIZMY" I "TOKSYNY"
1A
Systemy, urządzenia i części
1A001
Następujące elementy wykonane ze związków fluorowych:
a) |
uszczelnienia, uszczelki, masy uszczelniające lub przepony w układach paliwowych, specjalnie przeznaczone do "statków powietrznych" lub rakiet kosmicznych, w których ponad 50 % zawartości wagowej stanowi jeden z materiałów objętych kontrolą według pozycji 1.C009.b lub 1C009.c; |
b) |
polimery i kopolimery piezoelektryczne wykonane z kopolimerów fluorku winylidenu wymienionych w pozycji 1C009.a:
|
c) |
uszczelnienia, uszczelki, gniazda zaworów, przepony albo membrany wykonane z elastomerów fluorowych zawierających co najmniej jeden monomer eteru winylowego, specjalnie opracowane do "statków powietrznych", rakiet kosmicznych lub ’pocisków rakietowych’. Uwaga: W pozycji 1A001.c "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych. |
1A002
Wyroby albo laminaty "kompozytowe" mające następujące właściwości:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 1A202, 9A010 i 9A110.
a) |
składające się z "matrycy" organicznej i z materiałów objętych kontrolą według pozycji 1C010.c, 1C010.d lub 1C010.e; albo |
b) |
składające się z "matrycy" metalowej lub węglowej i z jakichkolwiek z niżej wymienionych materiałów:
|
Uwaga 1: Pozycja 1A002 nie dotyczy wyrobów kompozytowych ani laminatów wykonanych z żywic epoksydowych impregnowanych węglowymi "materiałami włóknistymi lub włókienkowymi", przeznaczonych do naprawy elementów lub laminatów "cywilnych statków powietrznych", pod warunkiem że ich wielkość nie przekracza 100 cm × 100 cm.
Uwaga 2: Pozycja 1A002 nie obejmuje kontrolą całkowicie lub częściowo wykończonych produktów, specjalnie przeznaczonych do następujących, wyłącznie cywilnych, zastosowań:
a) |
sprzęt sportowy; |
b) |
przemysł samochodowy; |
c) |
przemysł obrabiarkowy; |
d) |
zastosowania medyczne. |
1A003
Wyroby z substancji polimerowych niefluorowanych, określonych w pozycji 1C008.a.3, w postaci folii, arkuszy, taśm lub wstęg, jednej z poniższych właściwości:
a) |
o grubości powyżej 0,254 mm; lub |
b) |
powlekane lub laminowane węglem, grafitem, metalami lub substancjami magnetycznymi. |
Uwaga: Pozycja 1A003 nie obejmuje kontrolą wyrobów powlekanych lub laminowanych miedzią, przeznaczonych do produkcji elektronicznych płytek drukowanych.
1A004
Następujące urządzenia, wyposażenie i części ochronne i detekcyjne, różne od objętych kontrolą na podstawie Wykazu uzbrojenia:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 2B351 i 2B352.
a) |
maski przeciwgazowe, pochłaniacze i wyposażenie dekontaminacyjne do nich, przeznaczone lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi "przystosowanymi do użycia w działaniach wojennych" lub przed chemicznymi środkami bojowymi, a także części specjalnie do nich zaprojektowane; |
b) |
ubrania, rękawice i obuwie ochronne specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi "przystosowanymi do użycia w działaniach wojennych" lub przed chemicznymi środkami bojowymi; |
c) |
jądrowe, biologiczne i chemiczne systemy detekcji specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla wykrywania lub identyfikacji czynników biologicznych i materiałów promieniotwórczych "przystosowanych do użycia w działaniach wojennych" oraz chemicznych środków bojowych, i specjalnie zaprojektowane do nich części. |
Uwaga: Pozycja 1A004 nie obejmuje kontrolą:
a) |
osobistych monitorujących dozymetrów promieniowania jądrowego; |
b) |
urządzeń i wyposażenia, ograniczonych projektowo lub funkcjonalnie do spełniania ochrony przed typowymi cywilnymi zagrożeniami przemysłowymi, np. w górnictwie, przemyśle wydobywczym, rolnictwie, przemyśle farmaceutycznym, medycynie, weterynarii, ochronie środowiska, zagospodarowaniu odpadów lub w przemyśle spożywczym. |
1A005
Kamizelki i okrycia kuloodporne oraz specjalnie zaprojektowane do nich części, różne od wykonanych według norm lub technicznych wymagań wojskowych oraz od ich odpowiedników o porównywalnych parametrach.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA.
NB.: W odniesieniu do "materiałów włóknistych lub włókienkowych", stosowanych do produkcji kamizelek kuloodpornych, patrz: 1C010.
Uwaga 1: Pozycja 1A005 nie obejmuje kontrolą indywidualnych okryć kuloodpornych ani akcesoriów do nich, kiedy służą one ich użytkownikowi do osobistej ochrony.
Uwaga 2: Pozycja 1A005 nie obejmuje kontrolą kamizelek kuloodpornych zaprojektowanych do ochrony czołowej wyłącznie zarówno przed odłamkami, jak i wybuchami ładunków i urządzeń niewojskowych.
1A102
Elementy z przesycanego pirolizowanego materiału typu węgiel-węgiel przeznaczone do pojazdów kosmicznych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.
1A202
Elementy kompozytowe, różne od wymienionych w pozycji 1A002, w postaci rur i mające obie z następujących cech:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A010 I 9A110.
a) |
średnicę wewnętrzną od 75 mm do 400 mm; i |
b) |
są wykonane z jednego z "materiałów włóknistych lub włókienkowych" wymienionych w pozycji 1C010.a, 1C010.b albo 1C210.a lub z materiałów węglowych wyspecyfikowanych w pozycji 1C210.c. |
1A225
Katalizatory platynowe specjalnie opracowane lub przygotowane do wspomagania reakcji wymiany izotopów wodoru pomiędzy wodorem a wodą w celu separacji trytu z ciężkiej wody albo w celu produkcji ciężkiej wody.
1A226
Wyspecjalizowane wkłady do oddzielania ciężkiej wody od wody zwykłej, mające obydwie z następujących cech:
a) |
są wykonane z siatek z brązu fosforowego obrabianych chemicznie dla zwiększenia nasiąkliwości; i |
b) |
są przeznaczone do stosowania w próżniowych wieżach destylacyjnych. |
1A227
Przeciwradiacyjne okna ochronne o wysokiej gęstości (ze szkła ołowiowego lub podobnych materiałów), mające wszystkie z następujących cech, oraz specjalnie do nich skonstruowane ramy:
a) |
powierzchnię w obszarze nieradioaktywnym powyżej 0,09 m2; |
b) |
gęstość powyżej 3 g/cm3; i |
c) |
grubość 100 mm lub większą. |
Uwaga techniczna:
Na użytek pozycji 1A227 termin ’obszar nieradioaktywny’ oznacza pole widzenia okna wystawionego na promieniowanie o poziomie najniższym w danym zastosowaniu.
1B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
1B001
Następujące urządzenia do produkcji włókien, materiałów do prasowania laminatów zbrojonych, preform lub "kompozytów" wymienionych w pozycji 1A002 lub 1C010 oraz specjalnie do nich skonstruowane elementy i akcesoria:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1B101 I 1B201.
a) |
maszyny nawojowe do włókien, z koordynowanymi i programowanymi w trzech lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do produkcji wyrobów "kompozytowych" lub laminatów z "materiałów włóknistych lub włókienkowych"; |
b) |
maszyny do układania taśm albo mat z włókien, z koordynowanymi i programowanymi w dwóch lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem w odpowiednim położeniu i układaniem taśm, mat lub płyt, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do "kompozytowych" elementów konstrukcyjnych płatowca samolotu lub "pocisku rakietowego"; Uwaga: W pozycji 1B001.b ’pocisk rakietowy’ oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych. |
c) |
wielokierunkowe, wielowymiarowe maszyny tkackie albo maszyny do przeplatania, włącznie z zestawami adaptacyjnymi i modyfikacyjnymi, przeznaczone do tkania, przeplatania lub oplatania włókien w celu wytworzenia elementów "kompozytowych"; Uwaga techniczna: Na użytek pozycji 1B001.c technika przeplatania obejmuje również dzianie. Uwaga: Pozycja 1B001.c nie obejmuje kontrolą maszyn tekstylnych niezmodyfikowanych do wspomnianych powyżej zastosowań końcowych. |
d) |
następujące urządzenia specjalnie skonstruowane albo przystosowane do produkcji włókien wzmocnionych:
|
e) |
urządzenia do produkcji materiałów do prasowania laminatów zbrojonych, wymienionych w pozycji 1C010.e, metodą topienia termicznego (hot melt); |
f) |
następujące urządzenia do badań nieniszczących, specjalnie skonstruowane do materiałów "kompozytowych":
|
1B002
Urządzenia specjalnie zaprojektowane w celu zabezpieczenia przed zanieczyszczeniem i skonstruowane specjalnie z przeznaczeniem do produkcji stopów metali, proszków ze stopów metali lub materiałów stopowych wg jednego z procesów wymienionych w pozycji 1C002.c.2.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1B102.
1B003
Narzędzia, matryce, formy lub osprzęt o specjalnej konstrukcji, do przetwarzania tytanu albo aluminium lub ich stopów w "stanie nadplastycznym" albo metodą "zgrzewania dyfuzyjnego" z przeznaczeniem do produkcji:
a) |
konstrukcji lotniczych i kosmicznych; |
b) |
silników do "statków powietrznych" i i rakiet kosmicznych; lub |
c) |
specjalnie skonstruowanych zespołów do wspomnianych powyżej konstrukcji lub silników. |
1B101
Następujące urządzenia, różne od wymienionych w pozycji 1B001, do "produkcji" kompozytów konstrukcyjnych oraz specjalnie do nich skonstruowane elementy i akcesoria:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1B201.
Uwaga: Do wymienionych w 1B101 elementów i akcesoriów należą formy, trzpienie, matryce, uchwyty i oprzyrządowanie do wstępnego prasowania, utrwalania, odlewania, spiekania lub spajania elementów kompozytowych, laminatów i wytworzonych z nich wyrobów.
a) |
maszyny nawojowe do włókien, z koordynowanymi i programowanymi w trzech lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem, owijaniem i nawijaniem włókien, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do produkcji wyrobów kompozytowych lub laminatów z materiałów włóknistych lub włókienkowych; |
b) |
maszyny do układania taśm z koordynowanymi i programowanymi w dwóch lub więcej osiach ruchami związanymi z ustawianiem w odpowiednim położeniu i układaniem taśm, specjalnie skonstruowane z przeznaczeniem do "kompozytowych" elementów konstrukcyjnych płatowca samolotu lub ’pocisku rakietowego’; |
c) |
następujące urządzenia specjalnie skonstruowane albo przystosowane do "produkcji""materiałów włóknistych lub włókienkowych":
|
d) |
urządzenia skonstruowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do specjalnej obróbki powierzchniowej włókien albo do wytwarzania materiałów do prasowania laminatów zbrojonych i preform wymienionych w pozycji 9C110. Uwaga: Do urządzeń ujętych w 1B101.d zalicza się rolki, naprężacze, zespoły powlekające, urządzenia do cięcia i formy zatrzaskowe. |
1B102
"Urządzenia produkcyjne" do wytwarzania proszków metali, różne od wymienionych w pozycji 1B002 i specjalnie zaprojektowane elementy do nich:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1B115.b.
a) |
nadające się do "produkcji", w kontrolowanej atmosferze, sferycznych lub pylistych materiałów wymienionych w pozycjach: 1C011.a, 1C011.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 lub w Wykazie uzbrojenia; |
b) |
specjalnie zaprojektowane elementy do "urządzeń produkcyjnych" wyszczególnionych w pozycjach 1B002 lub 1B102.a. |
Uwaga: Pozycja 1B102 obejmuje:
a) |
generatory plazmowe (na zasadzie łuku elektrycznego wysokiej częstotliwości) nadające się do otrzymywania pylistych lub sferycznych proszków metali, z organizacją procesu w środowisku argon-woda; |
b) |
urządzenia elektroimpulsowe nadające się do otrzymywania pylistych lub sferycznych proszków metali, z organizacją procesu w środowisku argon-woda; |
c) |
urządzenia nadające się do "produkcji" sferycznych proszków aluminiowych przez rozpylanie roztopionego metalu w atmosferze obojętnej (np. azocie). |
1B115
Urządzenia, różne od wymienionych w 1B002 lub 1B102, do produkcji paliw i składników paliw oraz specjalnie do nich skonstruowane podzespoły:
a) |
"urządzenia produkcyjne" do "produkcji", manipulowania i testowania odbiorczego paliw płynnych i składników paliw wymienionych w pozycji 1C011.a, 1C011.b i 1C111 lub w Wykazie uzbrojenia; |
b) |
"urządzenia produkcyjne" do "produkcji", manipulowania, mieszania, utrwalania, odlewania, prasowania, obrabiania, wytłaczania lub testowania odbiorczego paliw stałych i składników paliw wymienionych w pozycji 1C011.a, 1C011.b i 1C111 lub w Wykazie uzbrojenia. Uwaga: Pozycja 1B115.b nie obejmuje mieszarek okresowych, mieszarek ciągłych lub młynów wykorzystujących energię płynów. W sprawie kontroli mieszarek okresowych, mieszarek ciągłych lub młynów wykorzystujących energię płynów sprawdź pozycje 1B117, 1B118 i 1B119. |
Uwaga 1: Urządzenia specjalnie skonstruowane do produkcji wyrobów militarnych wymagają każdorazowo sprawdzenia Wykazu uzbrojenia.
Uwaga 2: Pozycja 1B115 nie obejmuje kontrolą urządzeń do "produkcji", manipulowania i testowania odbiorczego węgliku boru.
1B116
Dysze o specjalnej konstrukcji, przeznaczone do wytwarzania materiałów pochodzenia pirolitycznego, formowanych w matrycy, na trzpieniu albo innym podłożu, z gazów macierzystych rozkładających się w zakresie temperatur od 1 573 K (1 300 °C) do 3 173 K (2 900 °C) przy ciśnieniach w zakresie od 130 Pa do 20 kPa.
1B117
Mieszarki okresowe umożliwiające mieszanie próżniowe w zakresie od zera do 13,326 kPa, w których można regulować temperaturę w komorze mieszania, mające wszystkie z następujących cech, i specjalnie zaprojektowane do nich elementy:
a) |
całkowitą wydajność objętościową 110 litrów lub większą; i |
b) |
co najmniej jeden wał mieszający/ugniatający osadzony mimośrodowo. |
1B118
Mieszarki ciągłe umożliwiające mieszanie próżniowe w zakresie od zera do 13,326 kPa, w których można regulować temperaturę w komorze mieszania, mające wszystkie z następujących cech, i specjalnie zaprojektowane do nich elementy:
a) |
dwa lub więcej wałów mieszających/ugniatających; i |
b) |
jeden oscylujący wał obrotowy z zębami/kołkami ugniatającymi na nim, jak również wewnątrz obudowy komory mieszalniczej. |
1B119
Młyny wykorzystujące energię płynów, nadające się do rozdrabniania i mielenia substancji wymienionych w pozycjach 1C011.a, 1C011.b i 1C111 lub w Wykazie uzbrojenia, i specjalnie zaprojektowane do nich elementy.
1B201
Maszyny do nawijania włókien i związane z nimi wyposażenie, różne od wymienionych w pozycji 1B001 lub 1B101, jak następuje:
a) |
maszyny do nawijania włókien mające wszystkie z następujących cech:
|
b) |
sterowniki koordynujące i programujące do maszyn do nawijania włókien wymienionych w 1B201.a; |
c) |
trzpienie precyzyjne do maszyn do nawijania włókien wymienionych w 1B201.a. |
1B225
Ogniwa elektrolityczne do produkcji fluoru o wydajności większej niż 250 gramów fluoru na godzinę.
1B226
Elektromagnetyczne separatory izotopów, skonstruowane z przeznaczeniem do współpracy z jednym lub wieloma źródłami jonów zdolnymi do uzyskania wiązki jonów o całkowitym natężeniu rzędu 50 mA lub więcej albo wyposażone w takie źródło lub źródła.
Uwaga: Pozycja 1B226 obejmuje następujące separatory:
a) |
zdolne do wzbogacania izotopów trwałych; |
b) |
ze źródłami i kolektorami jonów zarówno w polu magnetycznym, jak i w takich instalacjach, w których zespoły te znajdują się na zewnątrz pola. |
1B227
Konwertery do syntezy amoniaku lub urządzenia do syntezy amoniaku, w których gaz do syntezy (azot lub wodór) jest odprowadzany z wysokociśnieniowej kolumny wymiennej amoniakowo-wodorowej, a zsyntetyzowany amoniak wraca do wspomnianej kolumny.
1B228
Kolumny do kriogenicznej destylacji wodoru posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy:
a) |
skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy temperaturach wewnętrznych 35 K (– 238 °C) lub mniejszych; |
b) |
skonstruowane z przeznaczeniem do pracy przy ciśnieniach wewnętrznych od 0,5 do 5 MPa (od 5 do 50 atmosfer); |
c) |
skonstruowane zarówno:
|
d) |
o średnicach wewnętrznych 1 m lub większych i długościach efektywnych 5 m lub większych. |
1B229
Kolumny półkowe do wymiany typu woda-siarkowodór oraz ’kontaktory wewnętrzne’ do nich, jak następuje:
NB.: W przypadku kolumn specjalnie skonstruowanych lub spreparowanych do produkcji ciężkiej wody patrz: 0B004.
a) |
kolumny półkowe do wymiany typu woda-siarkowodór, mające wszystkie z następujących cech:
|
b) |
’kontaktory wewnętrzne’ dla kolumn półkowych do wymiany typu woda-siarkowodór zdefiniowanych w pozycji 1B229.a. Uwaga techniczna: ’Kontaktory wewnętrzne’ w kolumnach są segmentowymi półkami o zespołowej średnicy roboczej 1,8 m lub większej, skonstruowanymi w sposób ułatwiający kontakt czynników w przepływie przeciwprądowym, wykonanymi ze stali nierdzewnej o zawartości węgla 0,03 % lub mniejszej. Mogą one mieć postać półek sitowych, półek zaworowych, półek dzwonowych lub rusztowych. |
1B230
Pompy do przetłaczania roztworów katalizatora z amidku potasu rozcieńczonego lub stężonego w ciekłym amoniaku (KNH2/NH3), posiadające wszystkie wymienione poniżej cechy:
a) |
szczelność dla powietrza (tj. hermetycznie zamknięte); |
b) |
wydajność powyżej 8,5 m3/godz.; oraz |
c) |
nadające się do:
|
1B231
Następujące urządzenia i instalacje do obróbki trytu lub ich podzespoły:
a) |
urządzenia lub instalacje do produkcji, odzyskiwania, ekstrakcji, stężania lub manipulowania trytem; |
b) |
następujące urządzenia instalacji lub fabryk trytu:
|
1B232
Turborozprężarki lub zestawy turborozprężarka-sprężarka mające obie z wymienionych niżej cech:
a) |
przeznaczone do działania przy temperaturze wylotowej poniżej 35 K (– 238 °C) lub niższej; i |
b) |
posiadające przepustowość wodoru większą lub równą 1 000 kg/godz. |
1B233
Następujące urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu lub ich podzespoły:
a) |
urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu; |
b) |
następujące podzespoły do separacji izotopów litu:
|
1C
Materiały
Uwaga techniczna:
Metale i stopy:
|
Jeżeli nie stwierdzono inaczej, terminy ’metale’ i ’stopy’ używane w pozycjach od 1C001 do 1C012 dotyczą następujących wyrobów surowych i półfabrykatów: |
wyroby surowe:
|
anody, kule, pręty (łącznie z prętami karbowanymi i ciągnionymi), kęsy, bloki, bochny, brykiety, placki, katody, kryształy, kostki, struktury, ziarna, sztaby, bryły, pastylki, surówki, proszki, podkładki, śruty, płyty, owale osadnicze, gąbki i drążki, |
półfabrykaty (zarówno powlekane, pokrywane galwanicznie, wiercone i wykrawane, jak i niepoddane żadnej z tych obróbek):
a) |
przerobione plastycznie lub obrobione materiały wyprodukowane poprzez walcowanie, wyciąganie, wytłaczanie, prasowanie, granulowanie, rozpylanie, mielenie, tj.: kątowniki, ceowniki, koła, tarcze, pyły, płatki, folie, odkuwki, płyty, proszki, wytłoczki, wypraski, wstęgi, pierścienie, pręty (w tym pręty spawalnicze, walcówki i druty walcowane), kształtowniki, arkusze, taśmy, rury, rurki (w tym rury bezszwowe, rury o przekroju kwadratowym i tuleje rurowe), druty ciągnione i tłoczone; |
b) |
materiały odlewnicze produkowane przez odlewanie w piasku, kokile, formy metalowe, gipsowe i inne, w tym odlewanie pod ciśnieniem, formy spiekane i formy wykonywane w metalurgii proszkowej. |
Przedmioty nie powinny być zwalniane z kontroli poprzez eksport form niewymienionych, uważanych za produkty finalne, ale będące w rzeczywistości formami surowymi lub półfabrykatami.
1C001
Następujące materiały specjalnie opracowane z przeznaczeniem na pochłaniacze fal elektromagnetycznych albo polimery przewodzące samoistnie:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1C101.
a) |
materiały pochłaniające fale o częstotliwościach powyżej 2 × 108 Hz, ale poniżej 3 × 1012 Hz; Uwaga 1: Pozycja 1C001.a nie obejmuje kontrolą:
Uwaga 2: Żadne sformułowanie w pozycji 1C001.a nie zwalnia z kontroli materiałów magnetycznych używanych jako pochłaniacze fal w farbach. |
b) |
materiały pochłaniające fale o częstotliwościach w zakresie od 1,5 × 1014 Hz do 3,7 × 1014 Hz i nieprzezroczyste dla promieniowania widzialnego; |
c) |
materiały polimerowe przewodzące samoistnie, o objętościowej przewodności elektrycznej powyżej 10 000 S/m (simensów na metr) albo oporności powierzchniowej poniżej 100 omów/m2, których podstawowym składnikiem jest jeden z następujących polimerów:
Uwaga techniczna: ’Objętościową przewodność elektryczną’ oraz ’oporność powierzchniową’ należy określać zgodnie z normą ASTM D-257 albo jej odpowiednikami. |
1C002
Następujące stopy metali, proszki stopów metali albo materiały stopowe:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1C202.
Uwaga: Pozycja 1C002 nie obejmuje kontrolą stopów metali, proszków stopów metali ani materiałów stopowych do podłoży powlekanych.
Uwagi techniczne:
1. |
Do stopów metalu według pozycji 1C002 zalicza się takie, które zawierają wyższy procent wagowy danego metalu niż dowolnego innego pierwiastka. |
2. |
Trwałość w próbie pełzania do zerwania powinna być określana według normy ASTM E-139 lub jej krajowych odpowiedników. |
3. |
Trwałość w niskocyklowych badaniach zmęczeniowych należy określać według normy ASTM E-606 "Zalecana metoda niskocyklowego badania zmęczeniowego przy stałej amplitudzie" albo jej krajowych odpowiedników. Badania należy prowadzić przy obciążeniu skierowanym osiowo, przy średniej wartości współczynnika asymetrii cyklu 1 oraz wartości współczynnika spiętrzenia naprężeń (Kt) równej 1. Naprężenie średnie definiuje się jako różnicę naprężenia maksymalnego i minimalnego podzieloną przez naprężenie maksymalne. |
a) |
następujące glinki:
|
b) |
następujące stopy metali wykonane z materiałów wymienionych w pozycji 1C002.c:
|
c) |
proszki stopu metalu albo materiału jednorodnego mające wszystkie następujące cechy:
|
d) |
materiały stopowe mające wszystkie następujące cechy:
|
1C003
Metale magnetyczne, bez względu na typ i postać, posiadające jedną z następujących cech charakterystycznych:
a) |
początkową względną przenikalność magnetyczną 120 000 lub wyższą i grubość 0,05 mm albo mniejszą; Uwaga techniczna: Początkową względną przenikalność magnetyczną należy mierzyć na materiałach całkowicie wyżarzonych. |
b) |
stopy magnetostrykcyjne mające jedną z poniższych cech:
|
c) |
taśmy ze stopów amorficznych lub nanokrystalicznych mające wszystkie z poniższych cech:
Uwaga techniczna: Pod pojęciem "stopy nanokrystaliczne" w pozycji 1C003.c rozumie się materiały o rozmiarze ziarna krystalicznego wynoszącym 50 nm lub mniej, zmierzonym metodą dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego. |
1C004
Stopy uranowo-tytanowe lub stopy wolframu na "matrycy" z żelaza, niklu lub miedzi, posiadające wszystkie wymienione poniżej właściwości:
a) |
gęstość powyżej 17,5 g/cm3; |
b) |
granicę sprężystości powyżej 880 MPa; |
c) |
wytrzymałość na rozciąganie powyżej 1 270 MPa; oraz |
d) |
wydłużenie powyżej 8 %. |
1C005
Następujące "nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe" o długości powyżej 100 m lub masie powyżej 100 g:
a) |
"nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład wchodzi jedno albo więcej włókien niobowo-tytanowych, mające wszystkie z poniższych właściwości:
|
b) |
"nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład wchodzi jedno albo więcej włókien "nadprzewodzących" różnych od niobowo-tytanowych, mające wszystkie z poniższych właściwości:
|
c) |
"nadprzewodzące" przewodniki "kompozytowe", w których skład wchodzi jedno albo więcej włókien "nadprzewodzących", które nadal są "nadprzewodzące" powyżej 115 K (– 158,16 °C). Uwaga techniczna: Do celów pozycji 1C005 włókna mogą być w postaci drutu, cylindra, folii, taśmy lub wstęgi. |
1C006
Następujące ciecze i materiały smarne:
a) |
ciecze hydrauliczne zawierające jako składniki podstawowe dowolny z następujących związków chemicznych albo materiałów:
|
b) |
materiały smarne zawierające jako składniki podstawowe dowolny z następujących związków chemicznych albo materiałów:
|
c) |
ciecze zwilżające lub flotacyjne o czystości powyżej 99,8 %, zawierające mniej niż 25 cząstek o średnicy 200 mikrometrów lub większej w 100 ml i wykonane co najmniej w 85 % z dowolnego z następujących związków chemicznych lub materiałów:
|
d) |
fluorowęglowe elektroniczne płyny chłodzące posiadające wszystkie z poniższych cech:
|
Uwaga techniczna:
Dla celów pozycji 1C006:
a) |
temperaturę zapłonu określa się metodą Cleveland Open Cup Method (Otwartego Kubka) opisaną w normie ASTM D-92 lub jej krajowych odpowiednikach; |
b) |
temperaturę krzepnięcia określa się metodą opisaną w normie ASTM D-97 albo jej krajowych odpowiednikach; |
c) |
wskaźnik lepkości określa się metodą opisaną w normie ASTM D-2270 albo jej krajowych odpowiednikach; |
d) |
stabilność termiczną określa się według przedstawionej poniżej procedury albo jej krajowych odpowiedników:
|
e) |
temperaturę samozapłonu wyznacza się metodą opisaną w normie ASTM E-659 albo w jej krajowych odpowiednikach. |
1C007
Następujące materiały na osnowie ceramicznej, niekompozytowe materiały ceramiczne, "materiały kompozytowe" na "matrycy" ceramicznej oraz materiały macierzyste:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1C107.
a) |
materiały podłożowe z pojedynczych albo złożonych borków tytanowych, w których łączna ilość zanieczyszczeń metalicznych, z wyłączeniem dodatków zamierzonych, wynosi poniżej 5 000 ppm (części na milion), przeciętne wymiary cząstek są równe albo mniejsze niż 5 mikrometrów oraz zawierają nie więcej niż 10 % cząstek o wielkości powyżej 10 mikrometrów; |
b) |
niekompozytowe materiały ceramiczne w postaci nieprzerobionej albo półprzetworzonej, złożone z borków tytanowych o gęstości stanowiącej 98 % lub więcej gęstości teoretycznej; Uwaga: Pozycja 1C007.b nie obejmuje kontrolą materiałów ściernych. |
c) |
"materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne na "matrycy" szklanej albo tlenkowej, wzmacniane włóknami, mające wszystkie następujące cechy:
|
d) |
"materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne, z fazą metaliczną o strukturze ciągłej albo bez tej fazy, zawierające cząstki, wiskery lub włókna, w których "matrycę" stanowią węgliki albo azotki krzemu, cyrkonu lub boru; |
e) |
następujące materiały macierzyste (tj. specjalne polimery albo materiały metaloorganiczne) do wytwarzania dowolnej fazy albo faz materiałów ujętych w pozycji 1C007.c:
|
f) |
"materiały kompozytowe" ceramiczno-ceramiczne na "matrycy" szkła albo tlenkowej, wzmacniane ciągłymi włóknami wykonanymi z jednego z następujących materiałów:
Uwaga: Pozycja 1C007.f nie obejmuje kontrolą "materiałów kompozytowych" zawierających włókna z wymienionych w niej materiałów, posiadające wytrzymałość na rozciąganie mniejszą niż 700 MPa przy temperaturze 1 273 K (1 000 °C) lub odporność na pełzanie większą niż 1 % odkształcenia przy obciążeniu 100 MPa i temperaturze 1 273 K (1 000 °C) w czasie 100 godzin. |
1C008
Następujące materiały polimerowe niezawierające fluoru:
a) |
Uwaga 1: Pozycja 1C008.a obejmuje kontrolą substancje ciekłe lub stałe, w tym żywicę, proszek, granulki, folię, arkusze, taśmę lub wstęgę. Uwaga 2: Pozycja 1C008.a nie obejmuje kontrolą nietopliwych proszków do prasowania w formach ani wytłoczek. |
b) |
ciekłe kryształy z kopolimerów termoplastycznych o temperaturze ugięcia pod obciążeniem powyżej 523 K (250 °C) mierzonej według normy ISO 75–2 (2004) albo jej krajowych odpowiedników, przy obciążeniu 1,80 N/mm2, w których skład wchodzą:
|
c) |
nieużywany; |
d) |
poliketony arylenowe; |
e) |
polisiarczki arylenowe, w których grupą arylenową jest bifenylen, trifenylen albo ich kombinacja; |
f) |
polisulfon bifenylenoeterowy o temperaturze zeszklenia (Tg) przekraczającej 513 K (240 °C). |
Uwaga techniczna:
Temperatura zeszklenia (Tg) dla materiałów z pozycji 1C008 określana jest przy użyciu metody opisanej w normie ISO 11357–2 (1999) lub jej odpowiednikach krajowych.
1C009
Następujące nieprzetworzone związki fluorowe:
a) |
kopolimery fluorku winylidenu posiadające w 75 %, albo więcej, strukturę beta krystaliczną bez rozciągania; |
b) |
poliimidy fluorowane zawierające 10 % wagowych albo więcej związanego fluoru; |
c) |
fluorowane elastomery fosfazenowe zawierające 30 % wagowych albo więcej związanego fluoru. |
1C010
Następujące "materiały włókniste lub włókienkowe", które można zastosować w konstrukcjach "kompozytowych" lub laminatach z "matrycą" organiczną, metalową lub węglową:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJE 1C210 ORAZ 9C110.
a) |
organiczne materiały "włókniste lub włókienkowe" mające wszystkie z wymienionych właściwości:
Uwaga: Pozycja 1C010.a nie obejmuje kontrolą polietylenu. |
b) |
"włókniste i włókienkowe" materiały węglowe, mające wszystkie z wymienionych właściwości:
Uwaga: Pozycja 1C010.b nie dotyczy kontroli tkanin wykonanych z "materiałów włóknistych lub włókienkowych" przeznaczonych do naprawy konstrukcji lub laminatów "cywilnych statków powietrznych", pod warunkiem że wymiary pojedynczych arkuszy materiału nie przekraczają wielkości 100 cm × 100 cm. Uwaga techniczna: Właściwości materiałów ujętych w pozycji 1C010.b należy określać zalecanymi przez Stowarzyszenie Dostawców Wysokojakościowych Materiałów Kompozytowych (SACMA) metodami SRM 12 do 17 albo równoważnymi metodami badania włókien, takimi jak Japońska Norma Przemysłowa JIS-R-7601, paragraf 6.6.2, i opartymi na badaniu przeciętnej próbki z partii materiału. |
c) |
nieorganiczne "materiały włókniste lub włókienkowe", mające wszystkie z wymienionych właściwości:
Uwaga: Pozycja 1C010.c nie obejmuje kontrolą:
|
d) |
"materiały włókniste albo włókienkowe":
|
e) |
następujące włókna impregnowane żywicą lub pakiem (prepregi), włókna powlekane metalem lub węglem (preformy) lub "preformy włókien węglowych":
Uwaga: Pozycja 1C010.e nie obejmuje kontrolą:
Uwaga techniczna: Temperatura zeszklenia (Tg) dla materiałów z pozycji 1C010.e określana jest przy użyciu metody suchej, opisanej w normie ASTM D 3418. Temperatura zeszklenia dla żywic fenolowych i epoksydowych określana jest przy użyciu metody suchej, opisanej w normie ASTM D 4065, przy częstotliwości 1 Hz i szybkości nagrzewania wynoszącej 2 K (°C) na minutę. |
1C011
Następujące metale i związki:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA I POZYCJĘ 1C111.
a) |
metale o rozmiarach ziarna mniejszych niż 60 mikronów, zarówno w postaci sferycznej, rozpylanej, sferoidalnej, płatków, jak i zmielonej, wykonane z materiałów zawierających 99 % lub więcej cyrkonu, magnezu lub ich stopów; Uwaga techniczna: Naturalna zawartość hafnu w cyrkonie (typowo od 2 % do 7 %) jest liczona razem z cyrkonem. Uwaga: Metale lub stopy wymienione w pozycji 1C011.a są objęte kontrolą bez względu na to, czy są, czy też nie, zamknięte w kapsułkach z aluminium, magnezu lub berylu. |
b) |
bor i węgliki boru o czystości 85 % lub większej oraz rozmiarach ziarna 60 mikronów lub mniejszych; Uwaga: Metale lub stopy wymienione w pozycji 1C011.b są objęte kontrolą bez względu na to, czy są, czy też nie, zamknięte w kapsułkach z aluminium, magnezu lub berylu. |
c) |
azotan guanidyny; |
d) |
nitroguanidyna (NQ) (CAS 556–88–7). |
1C012
Następujące materiały:
Uwaga techniczna:
Materiały te są typowo wykorzystywane do jądrowych źródeł ciepła.
a) |
pluton w dowolnej postaci zawierający izotop pluton-238 w ilości powyżej 50 % wagowych; Uwaga: Pozycja 1C012.a nie obejmuje kontrolą:
|
b) |
uprzednio separowany neptun-237 w dowolnej formie. Uwaga: Pozycja 1C012.b nie obejmuje kontrolą dostaw zawierających neptun-237 w ilości 1 grama lub mniejszej. |
1C101
Materiały i urządzenia do obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego lub podczerwonego i śladów akustycznych, inne niż określone w pozycji 1C001, możliwe do zastosowania w ’pociskach rakietowych’, podsystemach "pocisków rakietowych" lub bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012.
Uwaga 1: Pozycja 1C101 obejmuje:
a) |
materiały strukturalne i powłoki specjalnie opracowane pod kątem zmniejszenia ich echa radarowego; |
b) |
powłoki, w tym farby, specjalnie opracowane pod kątem zmniejszenia ilości odbijanego lub emitowanego promieniowania z zakresu mikrofalowego, podczerwonego lub nadfioletowego promieniowania elektromagnetycznego. |
Uwaga 2: Pozycja 1C101 nie dotyczy powłok, pod warunkiem że są specjalnie używane do regulacji temperatur w satelitach.
Uwaga techniczna:
W pozycji 1C101 ’pocisk rakietowy’ oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.
1C102
Przesycane pyrolizowane materiały węglowo-węglowe przeznaczone do pojazdów kosmicznych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych (sondujących) wymienionych w pozycji 9A104.
1C107
Następujące materiały grafitowe i ceramiczne, różne od wymienionych w pozycji 1C007:
a) |
drobnoziarniste materiały grafitowe o gęstości nasypowej co najmniej 1,72 g/cm3 lub większej, mierzonej w temperaturze 288 K (15 °C) i o wymiarach ziarna 100 m lub mniejszych, możliwe do zastosowania w dyszach do rakiet i stożkach czołowych rakiet, umożliwiające uzyskanie w drodze obróbki następujących produktów:
NB.: PATRZ RÓWNIEŻ 0C004. |
b) |
pyrolityczne lub wzmacniane włóknami materiały grafitowe nadające się do zastosowania w dyszach rakiet i stożkach czołowych używanych w "pociskach rakietowych", kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 0C004. |
c) |
ceramiczne materiały kompozytowe (o stałej dielektrycznej poniżej 6 przy każdej częstotliwości od 100 MHz do 100 GHz), do użytku w osłonach anten radiolokatora używanych w "pociskach rakietowych", kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; |
d) |
skrawalne, niepalne materiały ceramiczne wzmacniane włóknami krzemo-węglowymi, do użytku w stożkach czołowych używanych w "pociskach rakietowych", kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; |
e) |
wzmocnione krzemo-węglowe ceramiczne materiały kompozytowe do użytku w stożkach czołowych, rakietach ponownie wchodzących w atmosferę i klapach dysz używanych w "pociskach rakietowych", kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104. |
1C111
Następujące substancje napędowe i związki chemiczne do nich, różne od wymienionych w pozycji 1C011:
a) |
substancje napędowe:
|
b) |
substancje polimerowe:
|
c) |
inne dodatki i środki do materiałów miotających:
|
Uwaga: Dla substancji miotających oraz składników chemikaliów do materiałów miotających, niewymienionych w pozycji 1C111, sprawdź także Wykaz uzbrojenia.
1C116
Stale maraging (stale ogólnie charakteryzujące się wysoką zawartością niklu, bardzo niską zawartością węgla i wykorzystaniem składników substytucyjnych lub przyspieszających, umożliwiających utwardzanie wydzielinowe), o wytrzymałości na rozciąganie równej 1500 MPa lub większej, mierzonej w temperaturze 293 °K (20 °C), w postaci blach, płyt lub rur o grubości ścianek rur lub grubości płyt mniejszej lub równej 5 mm.
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 1C216.
1C117
Wolfram, molibden oraz stopy tych metali w postaci regularnych kulek albo rozpylonych cząstek o średnicy 500 μm lub mniejszej i czystości większej lub równej 97 %, przeznaczone do produkcji zespołów silników rakietowych używanych w "pociskach rakietowych", w kosmicznych pojazdach nośnych wyszczególnionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wyszczególnionych w pozycji 9A104 (tj. osłon termicznych, podłoża dysz, przewężeń dysz i powierzchni sterowania wektorem ciągu).
1C118
Stabilizowana tytanem stal nierdzewna dupleksowa (Ti-DSS) posiadająca wszystkie z niżej wymienionych cech:
a) |
posiadająca wszystkie z niżej wymienionych charakterystyk:
|
b) |
posiadająca którąkolwiek z następujących postaci:
|
1C202
Stopy, różne od wyszczególnionych w pozycji 1C002.b.3 lub b.4, takie jak:
a) |
stopy aluminium posiadające obydwie wymienione niżej cechy:
|
b) |
stopy tytanu posiadające obydwie wymienione niżej cechy:
|
Uwaga techniczna:
Określenie stopy "zdolne do" obejmuje stopy przed lub po obróbce cieplnej.
1C210
"Materiały włókniste lub włókienkowe" lub prepregi, różne od wyszczególnionych w pozycji 1C010.a, b lub e, takie jak:
a) |
węglowe lub aramidowe "materiały włókniste lub włókienkowe" posiadające obojętnie, którą z niżej wymienionych charakterystyk:
Uwaga: Pozycja 1C210.a nie obejmuje kontrolą aramidowych "materiałów włóknistych lub włókienkowych", zawierających wagowo 0,25 % lub więcej dowolnego modyfikatora powierzchni włókien opartego na estrach. |
b) |
szklane "materiały włókniste lub włókienkowe" posiadające obydwie z niżej wymienionych cech:
|
c) |
termoutwardzalne, impregnowane żywicą, ciągłe "przędze", "niedoprzędy", "kable" lub "taśmy" o szerokości nieprzekraczającej 15 mm (prepregi), wykonane z węglowych lub szklanych "materiałów włóknistych lub włókienkowych" wyszczególnionych w pozycji 1C210.a lub b. Uwaga techniczna: Żywice tworzą matryce kompozytów. |
Uwaga: W pozycji 1C210 pojęcie "materiały włókniste lub włókienkowe" ogranicza się do ciągłych "włókien elementarnych", "przędz", "niedoprzędów", "kabli" lub "taśm".
1C216
Stal maraging, różna od wyszczególnionej w pozycji 1C116, "zdolna do" wytrzymałości na rozciąganie większej lub równej 2 050 MPa, w temperaturze 293 °K (20 °C).
Uwaga: Pozycja 1C216 nie obejmuje kontrolą form, w których wszystkie wymiary liniowe są mniejsze lub równe 75 mm.
Uwaga techniczna:
Sformułowanie stal maraging "zdolna do" obejmuje stal maraging przed lub po obróbce cieplnej.
1C225
Bor wzbogacony izotopem boru-10 (10B) w stopniu większym niż naturalna liczebność izotopowa, taki jak: bor pierwiastkowy, związki i mieszaniny zawierające bor, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.
Uwaga: W pozycji 1C225 mieszaniny zawierające bor obejmują materiały obciążone borem.
Uwaga techniczna:
Naturalna liczebność izotopowa boru-10 wynosi wagowo ok. 18,5 % (atomowo 20 %).
1C226
Wolfram, węglik wolframu oraz stopy zawierające wagowo powyżej 90 % wolframu, posiadające obydwie z niżej wymienionych cech:
a) |
w postaci form wydrążonych o symetrii cylindrycznej (włącznie z segmentami cylindrycznymi) o średnicy wewnętrznej od 100 do 300 mm; oraz |
b) |
masa większa niż 20 kg. |
Uwaga: Pozycja 1C226 nie obejmuje kontrolą wyrobów specjalnie zaprojektowanych jako odważniki lub kolimatory promieniowania gamma.
1C227
Wapń posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:
a) |
zawartość wagowa zanieczyszczeń metalami różnymi od magnezu poniżej 1 000 części na milion; oraz |
b) |
zawartość wagowa boru poniżej 10 części na milion. |
1C228
Magnez posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:
a) |
zawartość wagowa zanieczyszczeń metalami różnymi od wapnia poniżej 200 części na milion; oraz |
b) |
zawartość wagowa boru poniżej 10 części na milion. |
1C229
Bizmut posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:
a) |
czystość wagowa większa lub równa 99,99 %; oraz |
b) |
zawartość wagowa srebra poniżej 10 części na milion. |
1C230
Beryl metaliczny, stopy zawierające wagowo więcej niż 50 % berylu, związki berylu, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.
Uwaga: Pozycja 1C230 nie obejmuje kontrolą:
a) |
metalowych okien do aparatury rentgenowskiej lub do urządzeń wiertniczych; |
b) |
profili tlenkowych w postaci przetworzonej lub półprzetworzonej, zaprojektowanych specjalnie do elementów zespołów elektronicznych lub jako podłoża do obwodów elektronicznych; |
c) |
berylu (krzemianu berylu i aluminium) w postaci szmaragdów lub akwamarynów. |
1C231
Hafn metaliczny, stopy oraz związki hafnu zawierające wagowo więcej niż 60 % hafnu, wyroby oraz złom i odpady z powstałe z wyżej wymienionych.
1C232
Hel-3 (3He), mieszaniny zawierające hel-3 oraz wyroby lub urządzenia zawierające dowolne z wyżej wymienionych substancji.
Uwaga: Pozycja 1C232 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń zawierających mniej niż 1 g helu-3.
1C233
Lit wzbogacony izotopem litu-6 (6Li) w stopniu większym niż naturalna liczebność izotopowa, oraz produkty lub urządzenia zawierające wzbogacony lit takie jak: lit pierwiastkowy, stopy, związki, mieszaniny zawierające lit, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.
Uwaga: Pozycja 1C233 nie obejmuje kontrolą dozymetrów termoluminescencyjnych.
Uwaga techniczna:
Naturalna liczebność izotopowa litu-6 wynosi wagowo ok. 6,5 % (atomowo 7,5 %).
1C234
Cyrkon z zawartością wagową hafnu mniejszą niż 1 część hafnu do 500 części cyrkonu, taki jak: metal, stopy zawierające wagowo ponad 50 % cyrkonu, związki, wyroby oraz złom i odpady powstałe z wyżej wymienionych.
Uwaga: Pozycja 1C234 nie obejmuje kontrolą cyrkonu w postaci folii o grubości mniejszej lub równej 0,10 mm.
1C235
Tryt, związki trytu i mieszaniny zawierające tryt, w których stosunek atomów trytu do wodoru przewyższa 1 część na 1 000, oraz wyroby lub urządzenia zawierające wyżej wymienione substancje.
Uwaga: Pozycja 1C235 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń zawierających nie więcej niż 1,48 × 103 GBq (40 Ci) trytu.
1C236
Radionuklidy emitujące cząstki alfa o okresie połowicznego rozpadu większym lub równym 10 dni, ale mniejszym niż 200 lat, występujące w poniższych postaciach:
a) |
pierwiastki; |
b) |
związki o całkowitej aktywności alfa większej lub równej 37 GBq/kg (1 Ci/kg); |
c) |
mieszaniny o całkowitej aktywności alfa większej lub równej 37 GBq/kg (1 Ci/kg); |
d) |
wyroby lub urządzenia zawierające wyżej wymienione substancje. |
Uwaga: Pozycja 1C236 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń o aktywności alfa poniżej 3,7 GBq (100 mCi).
1C237
Rad-226 (226Ra), stopy oraz związki radu-226, mieszaniny zawierające rad-226, powstałe z nich wyroby oraz produkty i urządzenia powstałe z wyżej wymienionych.
Uwaga: Pozycja 1C237 nie obejmuje kontrolą:
a) |
aplikatorów medycznych; |
b) |
wyrobów lub urządzeń zawierających mniej niż 0,37 GBq (10 mCi) radu-226. |
1C238
Trifluorek chloru (ClF3).
1C239
Kruszące materiały wybuchowe, różne od wyszczególnionych w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych, substancje lub mieszaniny zawierające wagowo więcej niż 2 % tych materiałów, o gęstości krystalicznej większej niż 1,8 g/cm3 i prędkości detonacji powyżej 8 000 m/s.
1C240
Proszek niklu lub porowaty nikiel metaliczny, różny od wyszczególnionego w pozycji 0C005, taki jak:
a) |
proszek niklu posiadający obydwie z niżej wymienionych cech:
|
b) |
porowaty nikiel metaliczny wytwarzany z materiałów wyszczególnionych w pozycji 1C240.a. |
Uwaga: Pozycja 1C240 nie obejmuje kontrolą:
a) |
włókienkowych proszków niklu; |
b) |
pojedynczych porowatych blach niklowych o polu powierzchni arkusza mniejszym lub równym 1 000 cm2. |
Uwaga techniczna:
Pozycja 1C240.b odnosi się do porowatego metalu wyrabianego metodą zagęszczania lub spiekania materiałów wyszczególnionych w pozycji 1C240.a, celem otrzymania metalu z drobnymi porami, wzajemnie łączącymi się w całości struktury.
1C350
Substancje chemiczne, które mogą być wykorzystane jako prekursory dla toksycznych środków chemicznych, oraz "mieszaniny chemiczne" zawierające jedną lub więcej z wyżej wymienionych substancji, z tego:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA ORAZ POZYCJĘ 1C450.
1) |
tiodiglikol (111–48–8); |
2) |
tlenochlorek fosforu (10025–87–3); |
3) |
metylofosfonian dimetylu (756–79–6); |
4) |
sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla difluorku metylofosfonowego (676–99–3); |
5) |
dichlorek metylofosfonowy (676–97–1); |
6) |
fosforyn dimetylu (DMP) (868–85–9); |
7) |
trichlorek fosforu (7719–12–2); |
8) |
fosforyn trimetylu (TMP) (121–45–9); |
9) |
chlorek tionylu (7719–09–7); |
10) |
3-Hydroksy-1-metylopiperydyna (3554–74–3); |
11) |
N,N-diizopropylo-(beta)-chloroetyloamina (96–79–7); |
12) |
N,N-diizopropylo-(beta)-tioloetanoamina (5842–07–9); |
13) |
3-chinuklidynol (1619–34–7); |
14) |
fluorek potasu (7789–23–3); |
15) |
2-chloroetanol (107–07–3); |
16) |
dimetyloamina (124–40–3); |
17) |
etylofosfonian dietylu (78–38–6); |
18) |
N,N-dimetylofosforoamidan dietylu (2404–03–7); |
19) |
fosfonian dietylu (762–04–9); |
20) |
chlorowodorek dimetyloaminy (506–59–2); |
21) |
dichloro(etylo)fosfina (1498–40–4); |
22) |
dichlorek etylofosfonowy (1066–50–8); |
23) |
sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla difluorku etylofosfonowego (753–98–0); |
24) |
fluorowodór (7664–39–3); |
25) |
benzilan metylu (76–89–1); |
26) |
dichloro(metylo) fosfina (676–83–5); |
27) |
N,N-diizopropylo-(beta)-amino etanol (96–80–0); |
28) |
alkohol pinakolinowy (464–07–3); |
29) |
sprawdź także Wykaz uzbrojenia dla O-etylo-2-diizopropyloaminoetylo metylofosfinin (QL) (57856–11–8); |
30) |
fosforyn trietylu (122–52–1); |
31) |
trichlorek arsenu (7784–34–1); |
32) |
kwas benzilowy (76–93–7); |
33) |
metylofosfonin dietylu (15715–41–0); |
34) |
etylofosfonian dimetylu (6163–75–3); |
35) |
etylodifluorofosfina (430–78–4); |
36) |
difluoro(metylo)fosfina (753–59–3); |
37) |
3-chinuklidynon (3731–38–2); |
38) |
pentachlorek fosforu (10026–13–8); |
39) |
pinakolon (75–97–8); |
40) |
cyjanek potasu (151–50–8); |
41) |
wodorofluorek potasu (7789–29–9); |
42) |
wodorofluorek amonu lub bifluorek amonu (1341–49–7); |
43) |
fluorek sodu (7681–49–4); |
44) |
wodorofluorek sodu (1333–83–1); |
45) |
cyjanek sodu (143–33–9); |
46) |
trietanoloamina (102–71–6); |
47) |
pentasiarczek fosforawy (1314–80–3); |
48) |
di-izopropyloamina (108–18–9); |
49) |
dietyloaminoetanol (100–37–8); |
50) |
siarczek sodu (1313–82–2); |
51) |
monochlorek siarki (10025–67–9); |
52) |
dichlorek siarki (10545–99–0); |
53) |
chlorowodorek trietanoloaminy (637–39–8); |
54) |
N,N-diizopropylo-(beta)-chloroetyloamino chlorowodorek (4261–68–1); |
55) |
kwas metylofosfonowy (993–13–5); |
56) |
metylofosfonian dietylu (683–08–9); |
57) |
dichlorek N,N-dimetylofosforoamidowy (677–43–0); |
58) |
fosforyn triisopropylu (116–17–06); |
59) |
etylodietanoloamina (139–87–7); |
60) |
O,O-dietylo fosforotionian (2465–65–8); |
61) |
O,O-dietylo fosforoditionian (298–06–6); |
62) |
heksafluorokrzemian sodu (16893–85–9); |
63) |
dichlorek metylotiofosfonowy (676–98–2). |
Uwaga 1: Dla eksportu do "Państw niebędących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 i .63, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 10 % mieszaniny.
Uwaga 2: Dla eksportu do "Państw będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wymienionych w ppkt 1C350.1, .3, .5, .11, 12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 i .63, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.
Uwaga 3: Pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, 14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61 i .62, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny.
Uwaga 4: Pozycja 1C350 nie obejmuje kontrolą wyrobów określanych jako dobra konsumpcyjne pakowane do sprzedaży detalicznej do osobistego użytku lub pakowane do indywidualnego użytku.
1C351
Ludzkie czynniki chorobotwórcze, choroby przenoszone przez zwierzęta oraz "toksyny", takie jak:
a) |
wirusy pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, takie jak:
|
b) |
riketsje pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, takie jak:
|
c) |
następujące bakterie pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został specjalnie zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami:
|
d) |
następujące "toksyny" i ich "podjednostki toksyn":
Uwaga: Pozycja 1C351.d nie obejmuje kontrolą toksyn botulinowych ani konotoksyn w postaci wyrobów spełniających wszystkie niżej wymienione kryteria:
|
e) |
następujące grzyby, naturalne, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci „izolowanych żywych kultur” lub materiału zawierającego żywe organizmy, który rozmyślnie zaszczepiono lub zakażono takimi kulturami:
|
Uwaga: Pozycja 1C351 nie obejmuje kontrolą "szczepionek" lub "immunotoksyn".
1C352
Zwierzęce czynniki chorobotwórcze, takie jak:
a) |
wirusy pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, takie jak:
|
b) |
drobnoustroje z rodzaju mykoplazma pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony drobnoustrojami z tego rodzaju.
|
Uwaga: Pozycja 1C352 nie obejmuje kontrolą "szczepionek".
1C353
Elementy genetyczne oraz zmodyfikowane genetycznie "organizmy":
a) |
zmodyfikowane genetycznie "organizmy" lub elementy genetyczne zawierające sekwencje kwasów nukleinowych połączone z czynnikami chorobotwórczymi organizmów wyszczególnionych w pozycjach 1C351.a., 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 lub 1C354; |
b) |
zmodyfikowane genetycznie "organizmy" lub elementy genetyczne zawierające sekwencje kwasów nukleinowych przypisanych do jakiejkolwiek z "toksyn" wyszczególnionych w pozycji 1C351.d lub należące do nich "podjednostki toksyn". |
Uwagi techniczne:
1. |
Elementy genetyczne zawierają między innymi chromosomy, genomy, plazmidy, transpozony oraz wektory, bez względu na to, czy są modyfikowane genetycznie, czy nie. |
2. |
Sekwencje kwasów nukleinowych połączone z czynnikami chorobotwórczymi mikroorganizmów wyszczególnionych w pozycjach 1C351.a, 1C351.b, 1C351.c, 1C351.e, 1C352 lub 1C354 oznaczają wszelkie sekwencje właściwe dla określonych mikroorganizmów, które:
|
Uwaga: Pozycji 1C353 nie stosuje się do sekwencji kwasów nukleinowych połączonych z czynnikami chorobotwórczymi pałeczki okrężnicy o odmianie serologicznej O157 oraz innych werotoksyn wytwarzających odmiany serologiczne innych niż te przypisane do werotoksyn lub ich podjednostek.
1C354
Szczepy chorobotwórcze, takie jak:
a) |
wirusy pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, jak:
|
b) |
bakterie pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, jak:
|
c) |
grzyby pochodzenia naturalnego, wzmocnione lub zmodyfikowane, w postaci "izolowanych żywych kultur" lub jako materiał włącznie z materiałem żywym, który został celowo zaszczepiony lub zakażony takimi kulturami, jak:
|
1C450
Toksyczne związki chemiczne, prekursory toksycznych związków chemicznych oraz "mieszaniny chemiczne" zawierające jedną lub więcej z tych substancji, takie jak:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJE 1C350, 1C351.D ORAZ WYKAZ UZBROJENIA.
a) |
toksyczne związki chemiczne, takie jak:
Uwaga 1: Dla eksportu do "Państw niebędących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C450.a.1 oraz .a.2, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 1 % mieszaniny. Uwaga 2: Dla eksportu do "Państw będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C450.a.1 oraz .a.2, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny. Uwaga 3: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C450.a.4, .a.5, .a.6 oraz .a.7, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny. Uwaga 4: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą wyrobów określanych jako artykuły konsumpcyjne pakowane do sprzedaży detalicznej do osobistego użytku lub pakowane do indywidualnego użytku. |
b) |
prekursory toksycznych związków chemicznych, takie jak:
Uwaga 1: Dla eksportu do "Państw niebędących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5, oraz .b.6, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 10 % mieszaniny. Uwaga 2: Dla eksportu do "Państw będących stronami Konwencji o zakazie broni chemicznej" pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w ppkt 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5, oraz .b.6, w których żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny Uwaga 3: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą "mieszanin chemicznych" zawierających jedną lub więcej substancji chemicznych wyszczególnionych w podpunkcie 1C450.b.8, w którym żadna z indywidualnie wyszczególnionych substancji chemicznych nie stanowi wagowo więcej niż 30 % mieszaniny. Uwaga 4: Pozycja 1C450 nie obejmuje kontrolą wyrobów określanych jako artykuły konsumpcyjne pakowane do sprzedaży detalicznej do osobistego użytku lub pakowane do indywidualnego użytku. |
1D
Oprogramowanie
1D001
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" albo "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach od 1B001 do 1B003.
1D002
"Oprogramowanie" do "rozwoju""matryc" organicznych, "matryc" metalowych, "matryc" węglowych do laminatów oraz "kompozytów".
1D003
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane aby umożliwić wyposażeniu wypełnianie funkcji wyposażenia wyszczególnionych w pozycji 1A004.c.
1D101
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycji 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 lub 1B119.
1D103
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do badania obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego/podczerwonego oraz śladów akustycznych.
1D201
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycji 1B201.
1E
Technologia
1E001
"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu lub materiałów wyszczególnionych w pozycji 1A001.b, 1A001.c, 1A002 do 1A005, 1B lub 1C.
1E002
Inne "technologie", takie jak:
a) |
"technologia" do "rozwoju" lub "produkcji" polibenzotiazoli lub polibenzoksazoli; |
b) |
"technologia" do "rozwoju" lub "produkcji" związków elastomerów fluorowych, zawierających co najmniej jeden monomer eteru winylowego; |
c) |
"technologia" do projektowania lub "produkcji" materiałów podstawowych albo nie-"kompozytowych" materiałów ceramicznych, takich jak:
|
d) |
"technologia" do "produkcji" włókien z poliamidów aromatycznych; |
e) |
"technologia" do instalacji, obsługiwania lub naprawy materiałów wyszczególnionych w pozycji 1C001; |
f) |
"technologia" do naprawy struktur "kompozytowych", laminatów lub materiałów wyszczególnionych w pozycji 1A002, 1C007.c lub 1C007.d; Uwaga: Pozycja 1E002.f nie obejmuje kontrolą "technologii" do naprawy struktur "cywilnych statków powietrznych" za pomocą węglowych "materiałów włóknistych lub włókienkowych" oraz żywic epoksydowych, zawartych w instrukcjach producenta "statku powietrznego". |
g) |
"biblioteki (parametryczne techniczne bazy danych)" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane aby umożliwić urządzeniom wypełnianie funkcji urządzeń wyszczególnionych w pozycji 1A004.c. Uwaga techniczna: Do celów pozycji 1E002.g termin "biblioteka (parametryczna techniczna baza danych)" oznacza zbiór informacji technicznych, którego wykorzystanie może poprawić wyniki osiągane przez odpowiednie systemy lub sprzęt. |
1E101
"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 do 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 do 1C118, 1D101 lub 1D103.
1E102
"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju""oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 1D001, 1D101 lub 1D103.
1E103
"Technologia" do regulacji temperatur, ciśnień lub atmosfery w autoklawach lub hydroklawach w przypadku wykorzystania do "produkcji""kompozytów" lub "kompozytów" częściowo przetworzonych.
1E104
"Technologia" związana z "produkcją" pirolitycznie wytwarzanych materiałów, formowanych za pomocą form, walcowania trzpieniowego lub innego podłoża z gazów prekursorowych, ulegających rozkładowi w temperaturach od 1 573 K (1 300 °C) do 3 173 K (2 900 °C) przy ciśnieniach od 130 Pa do 20 kPa.
Uwaga: Pozycja 1E104 obejmuje "technologię" do łączenia gazów prekursorowych, wartości natężeń przepływu, harmonogramy oraz parametry sterowania procesem.
1E201
"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach 1A002, 1A202, 1A225 do 1A227, 1B201, 1B225 do 1B233, 1C002.b.3 lub .b.4, 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 do 1C240 lub 1D201.
1E202
"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju" lub "produkcji" wyrobów wyszczególnionych w pozycjach 1A202 lub 1A225 do 1A227.
1E203
"Technologia", stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju""oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 1D201.
KATEGORIA 2
PRZETWARZANIE MATERIAŁÓW
2A
Systemy, sprzęt oraz komponenty
NB.: Dla łożysk bezgłośnych patrz: uregulowania dotyczące towarów wojskowych.
2A001
Łożyska, zespoły łożysk oraz ich części składowe:
Uwaga: Pozycja 2A001 nie obejmuje kontrolą kulek o tolerancji, określanej przez producenta zgodnie z normą ISO 3290, klasy 5 lub gorszej.
a) |
łożyska kulkowe lub pełne wałeczkowe o tolerancjach, określonych przez producenta zgodnie z normą ISO 492, 4 klasy tolerancji (lub normą ANSI/ABMA Std 20 — klasa tolerancji ABEC 7 lub RBEC 7, albo według innych narodowych odpowiedników) lub lepszej, oraz posiadające pierścienie oraz elementy toczne (ISO 5593) wykonane z monelu lub berylu; Uwaga: Pozycja 2A001.a nie obejmuje kontrolą łożysk z wałeczkami stożkowymi. |
b) |
inne łożyska kulkowe lub pełne wałeczkowe o tolerancjach, określonych przez producenta zgodnie z normą ISO 492, 2 klasy tolerancji (lub normą ANSI/ABMA Std 20 — klasa tolerancji ABEC 9 lub RBEC 97, albo według innych narodowych odpowiedników) lub lepszej; Uwaga: Pozycja 2A001.b nie obejmuje kontrolą łożysk z wałeczkami stożkowymi. |
c) |
aktywne zespoły łożysk magnetycznych, wykorzystujące, co najmniej jeden z niżej wymienionych elementów:
|
2A225
Tygle, wykonane z materiałów odpornych na płynne aktynowce, takie jak:
a) |
tygle posiadające obydwie z następujących cech charakterystycznych:
|
b) |
tygle posiadające obydwie z następujących cech charakterystycznych:
|
c) |
tygle posiadające wszystkie z następujących cech charakterystycznych:
|
2A226
Zawory posiadające wszystkie z następujących cech charakterystycznych:
a) |
"wymiar nominalny" 5 mm lub większy; |
b) |
wyposażone w uszczelnienia mieszkowe; oraz |
c) |
w całości wykonane lub pokryte aluminium, stopem aluminium, niklem lub stopem niklu zawierającym wagowo 60 % lub więcej niklu. |
Uwaga techniczna:
Dla zaworów o różnych średnicach otworu wlotowego i wylotowego pojęcie "wymiar nominalny" w pozycji 2A226 odnosi się do najmniejszych średnic.
2B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
Uwagi techniczne:
1. |
Pomocnicze, równoległe osie konturowe (np. oś "w" w wiertarkach poziomych, albo pomocnicza oś obrotowa, której linia centralna biegnie równolegle do głównej osi obrotu) nie są zaliczane do całkowitej liczby osi kształtowych. Osie obrotowe nie muszą obracać się o 360°. Oś obrotowa może być napędzana za pomocą urządzenia liniowego (np. śruby albo mechanizmu zębatkowego). |
2. |
Dla celów pozycji 2B za liczbę osi, które mogą być koordynowane jednocześnie w celu "sterowania kształtowego", uznaje się liczbę osi w trakcie obrabiania przedmiotu wzdłuż lub dookoła których wykonywane są ruchy jednoczesne i wzajemnie powiązane pomiędzy obrabianym przedmiotem a narzędziem. Nie obejmuje to jakichkolwiek dodatkowych osi, wzdłuż lub dookoła których wykonywane są inne ruchy względne maszyny, takich jak:
|
3. |
Nazewnictwo osi powinno być zgodne z Międzynarodową Normą ISO 841, "Maszyny sterowane numerycznie — Nazewnictwo osi i ruchów". |
4. |
Na potrzeby pozycji 2B001 do 2B009 "wrzeciono wahliwe" jest zaliczane do osi obrotowych. |
5. |
Zamiast indywidualnych testów dla każdego modelu obrabiarki można stosować poziomy gwarantowanej dokładności pozycjonowania, ustalone przy pomiarach wykonanych stosownie do ISO 230/2 (1988) (1) lub narodowego odpowiednika. Poziom gwarantowanej dokładności pozycjonowania, oznacza wartość dokładności, przyjętą przez właściwe organy państwa członkowskiego, w którym eksporter jest zarejestrowany, jako reprezentatywną dokładność modelu maszyny. Określenie gwarantowanej dokładności:
|
2B001
Obrabiarki oraz ich różne kombinacje, do skrawania (albo cięcia) metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytów" które, według danych technicznych producenta, mogą być wyposażone w urządzenia elektroniczne do "sterowania numerycznego" oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, w tym:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B201.
Uwaga 1: Pozycja 2B001 nie obejmuje kontrolą obrabiarek do specjalizowanych zastosowań ograniczonych do wytwarzania kół zębatych. Dla takich maszyn patrz: pozycja 2B003.
Uwaga 2: Pozycja 2B001 nie obejmuje kontrolą obrabiarek do specjalizowanych zastosowań ograniczonych do wytwarzania dowolnych z następujących części:
a) |
wałów korbowych i rozrządowych; |
b) |
narzędzi lub noży do obrabiarek; |
c) |
ślimaków do wytłaczarek; |
d) |
grawerowanych lub szlifowanych części biżuterii. |
Uwaga 3: Obrabiarki posiadające, co najmniej dwie z trzech następujących zdolności: toczenia, frezowania lub szlifowania (np. tokarka ze zdolnością do frezowania), muszą być oszacowane stosownie odpowiednio do każdej pozycji 2B001.a,.b lub.c.
a) |
tokarki posiadające wszystkie z następujących cech charakterystycznych:
Uwaga: Pozycja 2B001.a nie obejmuje kontrolą tokarek specjalnie zaprojektowanych do wytwarzania soczewek kontaktowych, posiadających wszystkie następujące cechy charakterystyczne:
|
b) |
frezarki posiadające dowolne z następujących cech charakterystycznych:
|
c) |
szlifierki posiadające dowolne z następujących cech charakterystycznych:
Uwaga: Pozycja 2B001.c nie obejmuje kontrolą następujących szlifierek:
|
d) |
obrabiarki elektroiskrowe (EDM), niedrutowe, posiadające dwie albo więcej osi obrotowych, które można jednocześnie koordynować w celu "sterowania kształtowego"; |
e) |
obrabiarki do obróbki metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytowych", posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
f) |
wiertarki do głębokich otworów i tokarki, zmodyfikowane do wiercenia głębokich otworów, posiadające maksymalną zdolność do wiercenia otworów o głębokości przekraczającej 5 000 mm, oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty. |
2B002
Obrabiarki sterowane numerycznie wykorzystujące optyczną obróbkę wykańczającą (MRF), umożliwiające uzyskiwanie powierzchni asferycznych, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:
a) |
obróbka wykańczająca z tolerancją mniejszą (lepszą) niż 1,0 μm; |
b) |
obróbka wykańczająca pozwalająca na uzyskanie chropowatości mniejszej (lepszej) niż 100 nm (wartość średnia kwadratowa); |
c) |
trzy lub więcej osi, które mogą być koordynowane jednocześnie w celu "sterowania kształtowego"; oraz |
d) |
przy wykorzystaniu jakiegokolwiek z następujących procesów:
|
Uwaga techniczna:
Dla celów pozycji 2B002, "MRF" oznacza proces usuwania materiału, wykorzystujący ścierny płyn magnetyczny, którego lepkość kontrolowana jest przez pole magnetyczne. "ERF" oznacza proces usuwania materiału, wykorzystujący ścierny płyn, którego lepkość sterowana jest polem elektrycznym. "Obróbka wykończeniowa wiązką cząstek wysokoenergetycznych" wykorzystuje plazmy atomów reaktywnych (RAP) lub wiązki jonowe do selektywnego usuwania materiału.
2B003
Obrabiarki "sterowane numerycznie" lub ręcznie, oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, urządzenia sterujące i oprzyrządowanie, specjalnie opracowane do skrawania, obróbki, wykańczania, szlifowania albo gładzenia hartowanych (Rc = 40 lub więcej), kół zębatych o zębach prostych, kół zębatych śrubowych i daszkowych o średnicy toczonej powyżej 1 250 mm i szerokości wieńca wynoszącej 15 % średnicy toczonej lub większej, wykończone do jakości AGMA 14 albo wyższej (równoważnej Klasie 3 normy ISO 1328).
2B004
Pracujące na gorąco "prasy izostatyczne" posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne, oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty i akcesoria, takie jak:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJE 2B104 I 2B204.
a) |
posiadające możliwość regulacji warunków termicznych w zamkniętej formie oraz wyposażone w komorę formy o średnicy wewnętrznej 406 mm albo większej; oraz |
b) |
posiadają jedną z poniższych właściwości:
|
Uwaga techniczna:
Termin wewnętrznego wymiaru oznacza wymiar komory, w którym osiąga się zarówno temperaturę roboczą jak i ciśnienie robocze, termin nie obejmuje osprzętu. Wymiar ten będzie mniejszą ze średnic wewnętrznych komory ciśnieniowej lub izolowanej komory paleniskowej, w zależności od tego, która z tych komór jest umieszczona wewnątrz drugiej.
NB.: W przypadku specjalnie zaprojektowanych matryc, form i oprzyrządowania patrz: pozycje 1B003, 9B009 oraz uregulowania dotyczące towarów wojskowych.
2B005
Sprzęt specjalnie zaprojektowany do osadzania, przetwarzania i automatycznej kontroli w czasie obróbki pokryć i powłok nieorganicznych oraz modyfikacji warstw powierzchniowych, przeznaczony do wytwarzania podłoży nieelektronicznych, technikami wymienionymi w tabeli oraz dowiązanych uwagach, umieszczonych po pozycji 2E003.f, oraz specjalnie do nich opracowane zautomatyzowane komponenty do obsługiwania, ustalania położenia, manipulowania i sterowania, w tym:
a) |
sprzęt produkcyjny do chemicznego osadzania warstw z faz gazowych (CVD) posiadający wszystkie niżej wymienione cechy: NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B1O5.
|
b) |
sprzęt produkcyjny do implantacji jonów o natężeniu wiązki 5 mA lub większym; |
c) |
sprzęt produkcyjny do elektronowego naparowywania próżniowego (EB-PVD) zaopatrzony w układy zasilania o mocy powyżej 80 kW, posiadający jakikolwiek z niżej wymienionych podzespołów:
|
d) |
sprzęt produkcyjny do napylania plazmowego posiadający jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
|
e) |
sprzęt produkcyjny do napylania jonowego zdolny do osiągania prądu o gęstości 0,1 mA/mm2 lub większej przy wydajności napylania 15 μm/h lub wyższej; |
f) |
sprzęt produkcyjny do napylania łukowo-katodowego zawierający siatki elektromagnesów do sterowania łukiem na katodzie; |
g) |
sprzęt produkcyjny do powlekania jonowego umożliwiający przeprowadzenie, na miejscu, pomiaru jednego niżej wymienionych parametrów:
|
Uwaga: Pozycja 2B005 nie obejmuje kontrolą urządzeń chemicznego osadzania warstw z faz gazowych, napylania katodowego, napylania jonowego, jonowego powlekania lub implantacji jonów, specjalnie zaprojektowanych do narzędzi tnących i skrawających.
2B006
Systemy, sprzęt oraz "zespoły elektroniczne" do kontroli wymiarowej lub pomiarów, takie jak:
a) |
sterowane komputerowo lub "sterowane numerycznie" urządzenia do pomiaru współrzędnych (CMM), posiadające maksymalny dopuszczalny błąd wskazania (MPEE), wzdłuż trzech osi (objętościowy), w dowolnym punkcie zakresu roboczego maszyny (tj. w długości osi) równy lub mniejszy (lepszy) niż (1,7 + L/1 000) μm (gdzie L długością, mierzoną w mm), badane stosownie do ISO 10360–2 (2001); NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B206. |
b) |
przyrządy do pomiaru odchylenia liniowego i kątowego:
|
c) |
sprzęt do pomiaru nieregularności powierzchni, poprzez pomiar rozproszenia światła w funkcji kąta, o czułości 0,5 nm lub mniejszej (lepszej). |
Uwaga: Obrabiarki, które można wykorzystać do celów pomiarowych, są objęte kontrolą, jeżeli spełniają lub przewyższają kryteria określone dla funkcji obrabiarki lub funkcji maszyny pomiarowej.
2B007
"Roboty" posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych oraz specjalnie zaprojektowane do nich urządzenia sterujące i "manipulatory", w tym;
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B207.
a) |
posiadające możliwość pełnego trójwymiarowego przetwarzania obrazów lub pełnej trójwymiarowej "analizy obrazów" w czasie rzeczywistym, w celu tworzenia albo modyfikacji "programów" lub tworzenia lub modyfikacji numerycznych danych programowych; Uwaga techniczna: Ograniczenie dotyczące "analizy obrazów" nie obejmuje aproksymacji trzeciego wymiaru poprzez rzutowanie pod zadanym kątem, ani stosowanego w ograniczonym zakresie cieniowania według skali szarości, wykorzystywanego do spostrzegania głębi lub tekstury dla określonych zadań (2 1/2 D). |
b) |
specjalnie zaprojektowane w celu spełniania wymagań narodowych norm bezpieczeństwa, stosowanych do środowiskach środków wybuchowych; oraz |
c) |
specjalnie zaprojektowane lub odpowiednio wzmocnione przed promieniowaniem, w celu przeciwstawienia się dawce promieniowania wynoszącej 5 × 103 Gy (Si) bez pogorszenia parametrów działania; lub Uwaga techniczna: Termin Gy (Si) odnosi się do energii w dżulach na kilogram zaabsorbowanej przez nieekranowaną próbkę krzemu poddaną promieniowaniu jonizującemu. |
d) |
specjalnie zaprojektowana do działania na wysokościach przekraczających 30 000 m. |
2B008
Zespoły lub podzespoły specjalnie zaprojektowane do obrabiarek, systemów i sprzętu do kontroli wymiarów oraz systemów pomiarowych i sprzętu pomiarowego, takie jak:
a) |
podzespoły położenia liniowego ze sprzężeniem zwrotnym (np. urządzenia typu indukcyjnego, z podziałką stopniową, systemy na podczerwień lub "laserowe" posiadające całkowitą "dokładność" mniejszą (lepszą) niż (800 + (600 × L × 10–3)) nm (gdzie L równa się efektywnej długości w mm); NB.: Dla systemów "laserowych" patrz także uwaga do pozycji 2B006.b.1. |
b) |
podzespoły położenia obrotowego ze sprzężeniem zwrotnym (np. urządzenia typu indukcyjnego, z podziałką stopniową, systemy na podczerwień lub "laserowe" posiadające całkowitą "dokładność" mniejszą (lepszą) niż 0,00025°; NB.: Dla systemów "laserowych" patrz także uwaga do pozycji 2B006.b.1. |
c) |
"stoły obrotowo-przechylne" oraz "wrzeciona wychylne" umożliwiające, stosownie do danych technicznych producenta, polepszenie parametrów obrabiarek do albo ponad poziomy określone w pozycji 2B. |
2B009
Maszyny do wyoblania i tłoczenia kształtowego, które stosownie do danych technicznych producenta, mogą być wyposażone w zespoły "sterowania numerycznego" lub komputerowego oraz posiadające wszystkie z niżej wymienionych cech:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJE 2B109 I 2B209.
a) |
dwie lub więcej osi sterowanych, z których przynajmniej dwie mogą być równocześnie koordynowane w celu "sterowania kształtowego"; oraz |
b) |
nacisk wałka większy niż 60 kN. |
Uwaga techniczna:
Maszyny łączące funkcje wyoblania i tłoczenia kształtowego są na potrzeby pozycji 2B009 traktowane jako urządzenia do tłoczenia kształtowego.
2B104
"Prasy izostatyczne", różne od wyszczególnionych w pozycji 2B004, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B204.
a) |
maksymalne ciśnienie robocze 69 MPa lub większe; |
b) |
skonstruowane dla osiągnięcia i utrzymania środowiska o regulowanych parametrach termicznych rzędu 873 °K (600 °C) lub większych; oraz |
c) |
posiadają komorę o średnicy wewnętrznej 254 mm lub większej. |
2B105
Piece do CVD (chemical vapour deposition — chemiczne osadzanie warstw z faz gazowych), inne niż wyszczególnione w pozycji 2B005.a, zaprojektowane lub zmodyfikowane dla zagęszczania kompozytów węglowo-węglowych.
2B109
Maszyny do tłoczenia kształtowego, różne od wyszczególnionych w pozycji 2B009 oraz specjalnie zaprojektowane komponenty, takie jak:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B209.
a) |
maszyny do tłoczenia kształtowego posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:
|
b) |
specjalnie zaprojektowane komponenty do maszyn tłoczenia kształtowego, wymienionych w pozycjach 2B009 i 2B109.a. |
Uwaga: Pozycja 2B109 nie obejmuje kontrolą maszyn nienadających się do produkcji komponentów i sprzętu napędowego (np. osłon silników) do systemów wyszczególnionych w pozycjach 9A005, 9A007.a lub 9A105.a.
Uwaga techniczna:
Maszyny łączące funkcje wyoblania i tłoczenia kształtowego są na potrzeby pozycji 2B109 traktowane jako urządzenia do tłoczenia kształtowego.
2B116
Systemy do badań wibracyjnych, sprzęt i komponenty z nimi związane, z tego:
a) |
systemy do badań wibracyjnych, wykorzystujące techniki sprzężenia zwrotnego lub pętli zamkniętej, zawierające sterowniki cyfrowe przystosowane do przyspieszenia o wartości 10 g między 20 Hz a 2 kHz i przekazujące siły równe lub większe niż 50 kN, mierzone na ’nagim stole’; |
b) |
sterowniki cyfrowe współpracujące ze specjalnie opracowanym oprogramowaniem do badań wibracyjnych, cechujące się "pasmem czasu rzeczywistego" powyżej 5 kHz, zaprojektowane do użytku w systemach do badań wibracyjnych wyszczególnionych w pozycji 2B116.a; |
c) |
mechanizmy do wymuszania wibracji (wstrząsarki) wyposażone, albo nie, w odpowiednie wzmacniacze, zdolne do przekazywania sił 50 kN lub większych, mierzonych na ’nagim stole’, używane w systemach do badań wibracyjnych wyszczególnionych w pozycji 2B116.a; |
d) |
konstrukcje podtrzymujące próbki do badań oraz urządzenia elektroniczne, zaprojektowane do łączenia wielu wstrząsarek w system umożliwiający uzyskanie łącznej siły skutecznej 50 kN, lub większej, mierzonych na ’nagim stole’, i nadające się do użytku w systemach do badań wibracyjnych wyszczególnionych w pozycji 2B116.a. |
Uwaga techniczna:
W pozycji 2B116 pojęcie ’nagi stół’ oznacza płaski stół lub powierzchnię bez osprzętu i wyposażenia.
2B117
Środki do sterowania sprzętem i przebiegiem procesów, różne od wyszczególnionych w pozycjach 2B004, 2B005.a, 2B104 lub 2B105, zaprojektowane lub zmodyfikowane dla zagęszczania i pirolizy kompozytów strukturalnych dysz rakietowych oraz głowic powracających do atmosfery.
2B119
Maszyny do wyważania i powiązany z nimi sprzęt, z tego:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 2B219.
a) |
maszyny do wyważania, posiadające wszystkie wymienione niżej cechy charakterystyczne:
Uwaga: Pozycja 2B119 nie obejmuje kontrolą wyważarek zaprojektowanych lub zmodyfikowanych dla urządzeń dentystycznych i innego sprzętu medycznego. |
b) |
głowice wskaźników zaprojektowane lub zmodyfikowane do wykorzystania w maszynach wyszczególnionych w pozycji 2B119.a. Uwaga techniczna: Głowice wskaźników określane są czasami jako oprzyrządowanie wyważające. |
2B120
Symulatory ruchu lub stoły obrotowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:
a) |
dwie lub więcej osi; |
b) |
pierścienie ślizgowe do przekazywania zasilania elektrycznego i/lub informacji sygnałowych; oraz |
c) |
posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
Uwaga: Pozycja 2B120 nie obejmuje kontrolą stołów obrotowych przeznaczonych lub zmodyfikowanych dla obrabiarek lub sprzętu medycznego. Dla uregulowań dotyczących obrabiarkowych stołów obrotowych patrz: pozycja 2B008. |
2B121
Stoły pozycjonujące (sprzęt zdolny do precyzyjnego określania położenia kątowego w dowolnej osi), inne niż wyszczególnione w pozycji 2B120, posiadające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:
a) |
dwie lub więcej osi; |
b) |
dokładność wyznaczania położenia równą lub lepszą niż 5 sekund kątowych. |
Uwaga: Pozycja 2B121 nie obejmuje kontrolą stołów obrotowych przeznaczonych lub zmodyfikowanych dla obrabiarek lub sprzętu medycznego. Dla uregulowań dotyczących obrabiarkowych stołów obrotowych patrz: pozycja 2B008.
2B122
Wirówki umożliwiające nadanie przyśpieszenia ponad 100 g i posiadające pierścienie ślizgowe zdolne do przekazywania zasilania elektrycznego i/lub informacji sygnałowych.
2B201
Obrabiarki i wszelkie ich zestawy poza wymienionymi poniżej w pozycji 2B001, do skrawania lub cięcia metali, materiałów ceramicznych lub "kompozytowych", które stosownie do specyfikacji technicznej producenta mogą być wyposażone w urządzenia elektroniczne do jednoczesnej "sterowania kształtowego" w dwóch lub więcej osiach:
a) |
frezarki posiadające jakąkolwiek z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
b) |
szlifierki posiadające jakąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
Uwaga: Pozycja 2B201.b nie obejmuje kontrolą następujących szlifierek:
Uwaga 1: Pozycja 2B201 nie obejmuje kontrolą obrabiarek do specjalizowanych zastosowań ograniczonych do wytwarzania dowolnych z następujących części:
Uwaga 2: Obrabiarki mogące wykonywać co najmniej dwie z trzech funkcji obejmujących: toczenie, frezowanie lub szlifowanie (np. tokarka z możliwością frezowania) podlegają ocenie na podstawie kryteriów dotyczących każdej stosownej pozycji 2B001.a, 2B201.a lub b. |
2B204
"Prasy izostatyczne", różne od wyszczególnionych w pozycjach 2B004, lub 2B104 i sprzęt z nimi związany, w tym:
a) |
"prasy izostatyczne" posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
b) |
matryce, formy i zespoły sterujące specjalnie zaprojektowane do "pras izostatycznych" wyszczególnionych w pozycji 2B204.a. |
Uwaga techniczna:
W pozycji 2B204 termin wewnętrznego wymiaru komory oznacza wymiar, w którym osiąga się zarówno temperaturę roboczą, jak i ciśnienie robocze, termin nie obejmuje osprzętu. Wymiar ten będzie mniejszą ze średnic wewnętrznych komory ciśnieniowej lub izolowanej komory paleniskowej, w zależności od tego, która z tych komór jest umieszczona wewnątrz drugiej.
2B206
Maszyny, przyrządy oraz systemy do kontroli wymiarowej, różne od wyszczególnionych w pozycji 2B006, takie jak:
a) |
sterowane komputerowo lub "sterowane numerycznie" maszyny do kontroli wymiarowej posiadające obie z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
|
b) |
systemy do jednoczesnej liniowo-kątowej kontroli półpowłok, posiadające obie z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
|
Uwaga 1: Obrabiarki, które można wykorzystać do celów pomiarowych, są objęte kontrolą, jeżeli spełniają albo przekraczają kryteria określone dla funkcji obrabiarki lub maszyny pomiarowej.
Uwaga 2: Maszyna wyszczególniona w pozycji 2B206 jest objęta kontrolą, jeżeli jej zakres pracy przekracza w jakikolwiek sposób próg objęcia kontrolą.
Uwagi techniczne:
1. |
Czujnik używany do określenia "niepewności pomiarowej" systemów do kontroli wymiarowej powinien być opisany w częściach 2, 3 i 4 VDI/VDE 2617. |
2. |
Wszystkie parametry wartości pomiarowych w pozycji 2B206 reprezentują wartości plus/minus, tj. pasmo niepełne. |
2B207
"Roboty", „manipulatory" i jednostki sterujące, różne od wyszczególnionych w pozycji 2B007, takie jak:
a) |
"roboty", "manipulatory" specjalnie zaprojektowane przy spełnieniu narodowych norm bezpieczeństwa stosowanych do obsługiwania kruszących materiałów wybuchowych (np. spełniające warunki ujęte w przepisach elektrycznych, stosowanych do kruszących materiałów wybuchowych); |
b) |
jednostki sterujące, specjalnie zaprojektowane do "robotów" i "manipulatorów" wyszczególnionych w pozycji 2B207.a. |
2B209
Maszyny do tłoczenia kształtowego, maszyny do wyoblania kształtowego posiadające możliwość realizacji funkcji tłoczenia kształtowego, różne od wyszczególnionych w pozycjach 2B009 lub 2B109, lub trzpienie, z tego:
a) |
maszyny posiadające obydwie, niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
b) |
trzpienie do formowania wirników zaprojektowane do formowania wirników cylindrycznych o średnicy wewnętrznej pomiędzy 75 mm a 400 mm. |
Uwaga: Pozycja 2B209.a obejmuje maszyny posiadające tylko pojedynczy wałek zaprojektowany do deformowania metalu oraz dwa pomocnicze wałki podtrzymujące trzpień, ale nieuczestniczące bezpośrednio w procesie deformacji.
2B219
Odśrodkowe maszyny do wielopłaszczyznowego wyważania, stałe lub przenośne, poziome lub pionowe, z tego:
a) |
wyważarki odśrodkowe zaprojektowane do wyważania elastycznego wirników o długości 600 mm lub większej, posiadających wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
b) |
wyważarki odśrodkowe zaprojektowane do wyważania cylindrycznych zespołów wirnika, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
2B225
Zdalnie sterowane manipulatory, które mogą być stosowane do zdalnego wykonywania prac podczas rozdzielania radiochemicznego oraz w komorach gorących, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
możliwość pokonania ściany komory gorącej o grubości 0,6 m lub większej (dla operacji wykonywanych poprzez ścianę); lub |
b) |
możliwość zmostkowania ponad szczytem ściany komory gorącej o grubości 0,6 m lub większej (dla operacji wykonywanych ponad ścianą). |
Uwaga techniczna:
Zdalnie sterowane manipulatory przekształcają działanie człowieka — operatora, na ramię robocze i uchwyt końcowy. Mogą występować jako typu "master/slave" lub posiadać sterowanie przez joystick lub klawiaturę.
2B226
Piece indukcyjne z regulowaną atmosferą (próżniowe lub z gazem obojętnym) i instalacje do ich zasilania, takie jak:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 3B.
a) |
piece posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
b) |
instalacje zasilające, o wydajności nominalnej 5 kW lub większej, specjalnie zaprojektowane do pieców wyszczególnionych w pozycji 2B226.a. |
Uwaga: Pozycja 2B226.a nie obejmuje kontrolą pieców przeznaczonych do przetwarzania płytek półprzewodnikowych.
2B227
Próżniowe oraz posiadające inną regulowaną atmosferę, roztapiające i odlewnicze piece metalurgiczne, oraz sprzęt z nimi związany, w tym:
a) |
piece łukowe do przetapiania i odlewania, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
b) |
piece do topienia wiązką elektronów oraz plazmowe piece do atomizacji i topienia, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
c) |
komputerowe systemy do sterowania i śledzenia przebiegu procesów, specjalnie skonfigurowane do jakichkolwiek pieców wyszczególnionych w pozycji 2B227.a lub b. |
2B228
Sprzęt do wytwarzania, montażu oraz prostowania wirników, trzpienie i matryce do formowania mieszków, w tym:
a) |
sprzęt do montażu wirników, przeznaczony do montażu sekcji rurowych wirników odśrodkowych wirówek gazowych, przegród oraz pokryw; Uwaga: Pozycja 2B228.a obejmuje precyzyjne trzpienie, zaciski i maszyny do pasowania skurczowego. |
b) |
sprzęt prostowania wirników, przeznaczony do osiowania sekcji rurowych wirników odśrodkowych wirówek gazowych na wspólnej osi; Uwaga techniczna: W pozycji 2B228.b taki sprzęt składa się zazwyczaj z dokładnych czujników pomiarowych, podłączonych do komputera, sterującego następnie pracą, np. pneumatycznego bijaka wykorzystywanego do ustawiania sekcji rurowych wirnika. |
c) |
trzpienie i matryce do formowania mieszków, służące do wytwarzania mieszków jednozwojowych. Uwaga techniczna: Mieszki, o których mowa w pozycji 2B228.c, posiadają wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
2B230
"Przetworniki ciśnienia" zdolne do pomiaru ciśnienia bezwzględnego w dowolnym punkcie z przedziału od 0 do 13 kPa, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
wyposażone w czujniki ciśnień wykonane z aluminium, stopów aluminium, niklu lub stopów niklu o zawartości wagowej niklu ponad 60 %, lub też zabezpieczone tymi materiałami; oraz |
b) |
posiadające którąś z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
|
Uwaga techniczna:
Na potrzeby pozycji 2B230 pojęcie ’dokładność’ obejmuje nieliniowość, histerezę i powtarzalność w temperaturze otoczenia.
2B231
Pompy próżniowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
gardziel wlotową o średnicy równej lub większej 380 mm; |
b) |
wydajność pompowania równą lub większą 15 m3/s; oraz |
c) |
zdolne do wytwarzania próżni końcowej o ciśnieniu lepszej niż 13 mPa. |
Uwagi techniczne:
1. |
Wydajność pompowania jest określona poprzez pomiar z użyciem azotu lub powietrza. |
2. |
Próżnia końcowa jest określana na wlocie do pompy po jego zatkaniu. |
2B232
Wielostopniowe lekkie działa gazowe lub inne wysokoprędkościowe systemy miotające (cewkowe, elektromagnetyczne, elektrotermiczne lub inne rozwinięte systemy) zdolne do przyspieszania pocisków do prędkości 2 km/s lub większej.
2B350
Instalacje do produkcji substancji chemicznych, sprzęt i komponenty, z tego:
a) |
zbiorniki reakcyjne lub reaktory, wyposażone lub niewyposażone w mieszadła, o całkowitej pojemności wewnętrznej (geometrycznej) powyżej 0,1 m3 (100 litrów) i poniżej 20 m3 (20 000 litrów), w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
b) |
mieszadła do zbiorników reakcyjnych lub reaktorów, wyszczególnionych w pozycji 2B350.a, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
c) |
zbiorniki magazynowe, zasobniki lub odbiorniki o całkowitej pojemności wewnętrznej (geometrycznej) powyżej 0,1 m3 (100 litrów), w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
d) |
wymienniki ciepła lub skraplacze o polu powierzchni wymiany ciepła powyżej 0,15 m2 oraz poniżej 20 m2, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
e) |
kolumny destylacyjne lub absorpcyjne o średnicy wewnętrznej powyżej 0,1 m, oraz rozdzielacze cieczy i par, kolektory cieczy, zaprojektowane do takich kolumn destylacyjnych lub absorpcyjnych, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
f) |
zdalnie sterowany sprzęt napełniający, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
g) |
zawory o wymiarach znamionowych większych niż 10 mm oraz obudowy (korpusy zaworów) lub wstępnie uformowane wkładki doosłonowe, zaprojektowane do takich zaworów, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
h) |
rury wielościenne, zawierające okna do wykrywania nieszczelności, w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
i) |
pompy wielokrotnie uszczelnione i nieuszczelnione, o maksymalnym natężeniu przepływu, według specyfikacji producenta, powyżej 0,6 m3/h, lub pompy próżniowe o maksymalnym natężeniu przepływu, według specyfikacji producenta, powyżej 5 m3/h (w warunkach znormalizowanej temperatury (273 °K (0 °C)) oraz ciśnienia (101,3 kPa)), w których wszystkie powierzchnie posiadające bezpośredni kontakt z przetwarzanym lub znajdującym się w nich środkiem chemicznym (środkami chemicznymi), wykonane są z jednego z następujących materiałów:
|
j) |
piece do spopielania, zaprojektowane do niszczenia substancji chemicznych wyszczególnionych w pozycji 1C350, posiadające specjalnie zaprojektowane systemy doprowadzania odpadów, specjalne urządzenia obsługujące oraz przeciętną temperaturę w komorze spalania powyżej 1 273 °K (1 000 °C), w których wszystkie powierzchnie w systemie doprowadzania odpadów posiadające bezpośredni kontakt z odpadami wykonane są z jednego z następujących materiałów lub nim pokryte:
|
Uwaga techniczna:
’Grafit węglowy’ jest substancją składającą się z węgla amorficznego i grafitu, w której zawartość wagowa składnika, jakim jest grafit, wynosi 8 % lub więcej.
2B351
Systemy monitorowania gazów toksycznych oraz przeznaczone do nich czujniki, w tym:
a) |
przeznaczone do ciągłej pracy i wykorzystywane do wykrywania bojowych środków chemicznych lub środków chemicznych wyszczególnionych w pozycji 1C350, w stężeniach poniżej 0,3 mg/m3; lub |
b) |
przeznaczone do wykrywania aktywności wstrzymującej cholinoesterazę. |
2B352
Sprzęt zdolny do wykorzystania przy obsługiwaniu materiałów biologicznych, taki jak:
a) |
kompletne biologiczne obudowy zabezpieczające dla P3, P4 poziomu zabezpieczenia; Uwaga techniczna: Poziomy zabezpieczenia P3 lub P4 (BL3, BL4, L3, L4) są wyszczególnione w instrukcji WHO dotyczącej bezpieczeństwa biologicznego laboratoriów (wydanie drugie, Genewa 1993). |
b) |
kadzie fermentacyjne, pozwalające na namnażanie "mikroorganizmów" chorobotwórczych i wirusów lub umożliwiające produkcję "toksyn", bez rozprzestrzeniania aerozoli, posiadające pojemność całkowitą równą 20 litrów lub większą; Uwaga techniczna: Do kadzi fermentacyjnych zalicza się bioreaktory, chemostaty oraz instalacje o przepływie ciągłym. |
c) |
separatory odśrodkowe, zdolne do ciągłego oddzielania bez rozprzestrzeniania aerozoli, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
Uwaga techniczna: Do separatorów odśrodkowych zalicza się również dekantery. |
d) |
sprzęt filtrujący o poprzecznym (stycznym) przepływie oraz komponenty, w tym:
Uwaga: Pozycja 2B352.d nie obejmuje kontrolą sprzętu odwracania osmozy, jako określonego przez producenta. |
e) |
sterylizowany parą wodną sprzęt do liofilizacji o wydajności kondensora przekraczającej 10 kg lodu w ciągu 24 godzin i mniejszej do 1 000 kg lodu w ciągu 24 godzin; |
f) |
sprzęt zabezpieczenia i obudowy, taki jak:
|
g) |
komory zaprojektowane do testowania tożsamości aerozoli zawierających "mikroorganizmy", wirusy lub "toksyny" oraz posiadające pojemność 1 m3 lub większą. |
2C
Materiały
Żadne.
2D
Oprogramowanie
2D001
"Oprogramowanie" różne od wyszczególnionego w pozycji 2D002, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń wyszczególnionych w pozycjach 2A001 lub 2B001 do 2B009.
2D002
"Oprogramowanie" urządzeń elektronicznych, nawet rezydujące w elementach elektronicznych urządzenia lub systemu, pozwalające działać tym urządzeniom lub systemom jako jednostki "sterowania numerycznego", umożliwiające jednoczesną koordynację więcej niż czterech osi w celu "sterowania kształtowego".
Uwaga 1: Pozycja 2D002 nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" specjalnie zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do użytkowania obrabiarek niewyszczególnionych w kategorii 2.
Uwaga 2: Pozycja 2D002 nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" do obiektów wyszczególnionych w pozycji 2B002. Patrz: pozycja 2D001 dla uregulowań dotyczących "oprogramowania" do obiektów wyszczególnionych w pozycji 2B002.
2D101
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycjach 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 lub 2B119 do 2B122.
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9D004.
2D201
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycjach 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 lub 2B227.
2D202
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 2B201.
2E
Technologia
2E001
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "rozwoju" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 2A, 2B lub 2D.
2E002
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "produkcji" sprzętu wyszczególnionego w pozycjach 2A lub 2B.
2E003
Inna "technologia", taka jak:
a) |
"technologia" do "rozwoju" grafiki interakcyjnej jako integralnej części jednostek "sterowanych numerycznie" przeznaczonych do przygotowania lub modyfikacji programów obróbki części; |
b) |
"technologia" do procesów wytwarzania obróbką metali:
|
c) |
"technologia" do "rozwoju" lub "produkcji" obciągarek hydraulicznych i form do nich, wykorzystywanych do wytwarzania struktur płatowca; |
d) |
"technologia" do "rozwoju" generatorów instrukcji dla obrabiarek (np. programów do obróbki części) na podstawie danych konstrukcyjnych rezydujących w urządzeniach "sterowanych numerycznie"; |
e) |
"technologia" do "rozwoju" zintegrowanego "oprogramowania" do wprowadzania systemów eksperckich do wspomagania procesu decyzyjnego pracy warsztatowej, przeznaczonego do urządzeń "sterowanych numerycznie"; |
f) |
"technologia" do stosowania pokryć powłokami nieorganicznymi lub powłokami nieorganicznymi modyfikowanymi powierzchniowo (wyszczególnionymi w kolumnie 3 poniższej tabeli) na podłoża nieelektroniczne (wyszczególnione w kolumnie 2 poniższej tabeli) za pomocą procesów wyszczególnionych w kolumnie 1 poniższej tabeli i zdefiniowanych w uwadze technicznej. Uwaga: Tabela i uwaga techniczna znajdują się za pozycją 2E3001. |
2E101
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 2B004, 2B104, 2B109, 2B116 2B119 do 2B122 lub 2D101.
2E201
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycjach 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 do 2B232, 2D201 lub 2D202.
2E301
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii przeznaczona do "użytkowania" towarów wyszczególnionych w pozycjach 2B350 do 2B352.
Tabela
Techniki powlekania
|
|
|
||||||
|
"Nadstopy" |
Glinki na kanały wewnętrzne |
||||||
Podłoża ceramiczne (19) i szkło o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) |
Krzemki Węgliki Warstwy dielektryczne (15) Diament Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Krzemki Węgliki Metale ogniotrwałe Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Glinki Glinki stopowe (2) Azotek boru |
|||||||
Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu (18) |
Węgliki Wolfram Mieszanki powyższych (4) Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Molibden i stopy molibdenu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Beryl i stopy berylu |
Warstwy dielektryczne (15) Diament Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
Materiały na okienka wziernikowe (9) |
Warstwy dielektryczne (15) Diament Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
|
|
|
||||||
|
"Nadstopy" |
Krzemki stopowe Glinki stopowe (2) MCrAlX (5) Zmodyfikowany cyrkon (12) Krzemki Glinki Ich mieszaniny (4) |
||||||
Podłoża ceramiczne (19) i szkło o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Stale odporne na korozję (7) |
MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Ich mieszaniny (4) |
|||||||
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Krzemki Węgliki Metale ognioodporne Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Azotek boru |
|||||||
Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu (18) |
Węgliki Wolfram Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Molibden i stopy molibdenu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Beryl i stopy berylu |
Warstwy dielektryczne (15) Borki Beryl |
|||||||
Materiały na okienka wziernikowe (9) |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Stopy tytanu (13) |
Borki Azotki |
|||||||
|
Podłoża ceramiczne (19) i szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) |
Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |
||||||
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Molibden i stopy molibdenu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Beryl i stopy berylu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Materiały na okienka wziernikowe (9) |
Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
|
Podłoża ceramiczne (19) i szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) |
Krzemki Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |
||||||
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Molibden i stopy molibdenu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Beryl i stopy berylu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Materiały na okienka wziernikowe (9) |
Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
|
"Nadstopy" |
Krzemki stopowe Glinki stopowe (2) MCrAlX (5) |
||||||
"Polimery" (11) oraz "materiały kompozytowe" na "matrycy" organicznej |
Borki Węgliki Azotki Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
|
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Krzemki Węgliki Ich mieszaniny (4) |
||||||
Stopy tytanu (13) |
Krzemki Glinki Glinki stopowe (2) |
|||||||
Metale i stopy ognioodporne (8) |
Krzemki Tlenki |
|||||||
|
Nadstopy |
MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Ich mieszaniny (4) Materiał ścierny nikiel-grafit Materiał ścierny Ni-Cr-Al-Bentonit Materiał ścierny Al-Si-Poliester Glinki stopowe (2) |
||||||
Stopy aluminium (6) |
MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Krzemki Ich mieszaniny (4) |
|||||||
Metale i stopy ognioodporne (8) |
Glinki Krzemki Węgliki |
|||||||
Stale odporne na korozję (7) |
Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) MCrAlX (5) Ich mieszaniny (4) |
|||||||
Stopy tytanu (13) |
Węgliki Glinki Krzemki Glinki stopowe (2) Materiały ścierne nikiel-grafit Materiały ścierne Ni-Cr-Al Materiały ścierne Al-Si-Poliester |
|||||||
|
Metale i stopy ognioodporne (8) |
Krzemki stopione Glinki stopione z wyjątkiem elementów do nagrzewania oporowego |
||||||
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Krzemki Węgliki Ich mieszaniny (4) |
|||||||
|
"Nadstopy" |
Krzemki stopowe Glinki stopowe (2) Glinki zmodyfikowane metalem szlachetnym (3) MCrAlX (5) Zmodyfikowany tlenek cyrkonowy (12) Platyna Ich mieszaniny (4) |
||||||
Materiały ceramiczne i szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej (14) |
Krzemki Platyna Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
Stopy tytanu (13) |
Borki Azotki Tlenki Krzemki Glinki Glinki stopowe (2) Węgliki |
|||||||
"Materiały kompozytowe" na "matrycy" węgiel-węgiel, ceramicznej i metalowej |
Krzemki Węgliki Metale ognioodporne Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Azotek boru |
|||||||
Spiekane węgliki wolframu (16), węglik krzemu (18) |
Węgliki Wolfram Ich mieszaniny (4) Warstwy dielektryczne (15) Azotek boru |
|||||||
Molibden i stopy molibdenu |
Warstwy dielektryczne (15) |
|||||||
Beryl i stopy berylu |
Borki Warstwy dielektryczne (15) Beryl |
|||||||
Materiały na okienka wziernikowe (9) |
Warstwy dielektryczne (15) Węgiel diamentopodobny (17) |
|||||||
Metale i stopy ognioodporne (8) |
Glinki Krzemki Tlenki Węgliki |
|||||||
|
Żarowytrzymałe stale łożyskowe |
Dodatki chromu, tantalu lub niobu |
||||||
Stopy tytanu (13) |
Borki Azotki |
|||||||
Beryl i stopy berylu |
Borki |
|||||||
Spiekany węglik wolframu (16) |
Węgliki Azotki |
Uwagi do tabeli technik powlekania
1. |
Termin "technika powlekania" obejmuje zarówno naprawę i odnawianie powłok, jak i nakładanie nowych. |
2. |
Termin "powłoka z glinku stopowego" obejmuje powłoki uzyskane w procesie jedno- albo wieloetapowym, w którym każdy pierwiastek albo pierwiastki są nakładane przed albo podczas nakładania powłoki glinkowej, nawet, jeżeli pierwiastki te są nakładane podczas innego procesu powlekania. Jednakże nie obejmuje to przypadku wieloetapowego stosowania jednostopniowych procesów osadzania fluidyzacyjnego, mającego na celu uzyskanie glinków stopowych. |
3. |
Termin "powłoka z glinku modyfikowanego metalem szlachetnym" obejmuje powłoki wytwarzane w procesie wieloetapowym, podczas którego przed położeniem powłoki z glinku na podłoże nakładany jest, w innym procesie powlekania, jeden albo kilka metali szlachetnych. |
4. |
Termin "ich mieszaniny" obejmuje kombinacje, zawierające przesycony materiał powłoki podłoża, składników pośrednich, materiału współosadzonego oraz wielowarstwowego materiału osadzonego i będące wytwarzane jedną albo kilku technikami powlekania, wymienionymi w tabeli. |
5. |
Przez termin "MCrAlX" należy rozumieć powłokę stopową, w której M oznacza kobalt, żelazo, nikiel lub ich kombinację, a X hafn, itr, krzem, tantal w dowolnych lub innych zamierzonych ilościach dodatkowych, wynoszących wagowo powyżej 0,01 % w różnych proporcjach i kombinacjach, z wyjątkiem:
|
6. |
Termin "stopy aluminium" dotyczy stopów, których wytrzymałość na rozciąganie, mierzona w temperaturze 293 °K (20 °C), wynosi 190 MPa lub więcej. |
7. |
Termin "stale odporne na korozję" odnosi się do stali serii 300 według AISI (American Iron and Steel Institute) lub równoważnych norm narodowych. |
8. |
Do metali żarowytrzymałych zalicza się następujące metale i ich stopy: niob, molibden, wolfram i tantal. |
9. |
"Materiały na okienka wziernikowe", takie jak: tlenek glinu, krzem, german, siarczek cynku, selenek cynku, arsenek galu, diament, fosforek galu oraz następujące halogenki metali: materiały na okienka wziernikowe o średnicy powyżej 40 mm z fluorku cyrkonu i fluorku hafnu. |
10. |
Kategoria 2 nie obejmuje kontrolą "technologii" jednoetapowego utwardzania techniką cieplno-chemiczną litych profili aerodynamicznych. |
11. |
Polimery, takie jak: poliimidy, poliestry, polisiarczki, poliwęglany i poliuretany. |
12. |
Termin "zmodyfikowany tlenek cyrkonowy" odnosi się do tlenku cyrkonowego z dodatkami innych tlenków metali, np. tlenku wapnia, tlenku magnezu, tlenku itru, tlenku hafnu, tlenków lantanowców itp. dodanymi w celu stabilizacji pewnych faz krystalicznych i składników faz. Powłoki przeciwtermiczne wykonane z tlenku cyrkonowego modyfikowanego poprzez mieszanie albo stapianie z tlenkiem wapnia albo magnezu, nie są objęte kontrolą. |
13. |
Termin "stopy tytanu" odnosi się jedynie do stopów stosowanych w technice kosmicznej, których wytrzymałość na rozciąganie, mierzona w temperaturze 293 °K (20 °C), wynosi 900 MPa lub więcej. |
14. |
Termin "szkła o małym współczynniku rozszerzalności cieplnej" odnosi się do szkieł, dla których wartość współczynnika rozszerzalności cieplnej, mierzona w temperaturze 293 °K (20 °C), wynosi 1 × 10–7 K-1 lub mniej. |
15. |
Termin "warstwy dielektryczne" odnosi się do powłok wielowarstwowych z materiałów izolacyjnych, w których interferencyjne właściwości konstrukcji złożonej z materiałów o różnych współczynnikach załamania są wykorzystywane do odbijania, przepuszczania lub pochłaniania fal o różnych długościach. Warstwy dielektryczne odnoszą się do materiałów składających się z więcej niż czterech warstw dielektrycznych lub warstw "kompozytów" dielektryk/metal. |
16. |
"Spiekany węglik wolframu" nie obejmuje materiałów na narzędzia skrawające i formujące wykonane z węglika wolframu/(kobaltu, niklu), węglika tytanu/(kobaltu, niklu), węglika chromu/nikiel-chrom i węglika chromu/nikiel. |
17. |
"Technologia" specjalnie zaprojektowana do nakładania węgla diamentopodobnego na jakikolwiek z niżej wymienionych produktów nie podlega kontroli:
|
18. |
"Węglik krzemu" nie obejmuje materiałów dla narzędzi do cięcia i formowania. |
19. |
Podłoża ceramiczne, w rozumieniu tej pozycji nie obejmują materiałów ceramicznych zawierających wagowo 5 % lub więcej gliny lub cementu, zarówno w postaci oddzielnych składników, jak i ich kombinacji. |
Definicje procesów wymienionych w kolumnie 1 tabeli:
a) |
osadzanie z pary lotnej (CVD) jest procesem nakładania powłoki albo modyfikacji powierzchni podłoża, polegającym na osadzaniu na rozgrzanym podłożu metalu, stopu, "kompozytu", dielektryka albo materiału ceramicznego. W sąsiedztwie podłoża następuje rozkład albo łączenie gazowych substratów reakcji, wskutek czego osadza się na nim pożądany pierwiastek, stop albo związek. Potrzebna do rozkładu związków albo do reakcji chemicznych energia może być dostarczana przez rozgrzane podłoże, plazmę z wyładowań jarzeniowych lub za pomocą "lasera"; NB. 1: CVD obejmuje następujące procesy: osadzanie w ukierunkowanym przepływie gazów bez zanurzania w proszku, CVD pulsujące, rozkład termiczny z regulowanym zarodkowaniem (CNTD), CVD intensyfikowane albo wspomagane za pomocą plazmy. NB. 2: Zanurzanie w proszku polega na zanurzaniu podłoża w mieszaninie sproszkowanych substancji. NB. 3: Gazowe substraty reakcji, wykorzystywane w technice, w której nie stosuje się zanurzania w proszku, są wytwarzane podczas takich samych reakcji podstawowych i przy takich samych parametrach jak w przypadku osadzania fluidyzacyjnego: z tym wyjątkiem, że powlekane podłoże nie styka się z mieszaniną proszku. |
b) |
naparowywanie termiczne — fizyczne osadzanie par (TE-PVD) jest procesem powlekania w próżni przy ciśnieniach poniżej 0,1 Pa, w której do odparowania materiału powlekającego używa się energii termicznej. Rezultatem tego procesu jest kondensacja albo osadzenie odparowanych składników na odpowiednio usytuowanych powierzchniach. Zwykle proces ten jest modyfikowany poprzez wpuszczanie dodatkowych gazów do komory próżniowej podczas powlekania, co umożliwia wytwarzanie powłok o złożonym składzie. Innym powszechnie stosowanym sposobem jego modyfikacji jest używanie wiązki jonów albo elektronów lub plazmy do intensyfikacji albo wspomagania osadzania powłoki. W technice tej można stosować monitory do bieżącego pomiaru parametrów optycznych i grubości powłoki. Wyróżnia się szczególne procesy TE-PVD, takie jak:
|
c) |
osadzanie fluidyzacyjne jest procesem powlekania albo modyfikacji powierzchni podłoża, w której podłoże jest zanurzane w mieszaninie proszków, składającej się z:
Podłoże wraz z mieszaniną proszków znajduje się w retorcie, która jest podgrzewana do temperatury od 1 030 °K (757 °C) do 1 375 °K (1 102 °C) przez okres wystarczający do osadzenia powłoki; |
d) |
napylanie plazmowe jest procesem powlekania, w którym do pistoletu (pistoletu natryskowego) służącego do wytwarzania i sterowania strumieniem plazmy jest doprowadzany materiał do powlekania w postaci proszku albo pręta. Pistolet topi materiał i wyrzuca go na podłoże, na którym powstaje silnie z nim związana powłoka. Odmianami tego procesu jest napylanie plazmowe niskociśnieniowe oraz napylanie plazmowe z wysoką prędkością; NB. 1: Niskociśnieniowe oznacza pod ciśnieniem niższym od ciśnienia atmosferycznego otoczenia. NB. 2: Wysoka prędkość odnosi się do prędkości gazów na wylocie z dyszy przekraczającej wartość 750 m/s w temperaturze 293 °K (20 °C) i ciśnieniu 0,1 MPa. |
e) |
osadzanie zawiesinowe jest procesem powlekania albo modyfikacji powierzchni, w której stosowana jest zawiesina proszku metalicznego lub ceramicznego ze spoiwem organicznym w cieczy, nakładana na podłoże techniką natryskiwania, zanurzania lub malowania. Następnym etapem jest suszenie w powietrzu albo w piecu i obróbka cieplna, w wyniku czego powstaje powłoka o odpowiedniej charakterystyce; |
f) |
rozpylanie jonowe jest procesem powlekania, opartym na zjawisku przenoszenia pędu, w której naładowane dodatnio jony są przyspieszane przez pole elektryczne w kierunku powierzchni docelowej (materiał powłokowy). Energia kinetyczna padających jonów jest wystarczająca do wyrwania atomów z powierzchni materiału powłokowego i osadzenia ich na odpowiednio usytuowanej powierzchni podłoża; NB. 1: Tabela dotyczy tylko rozpylania jonowego za pomocą triody, magnetronowego i reakcyjnego, które jest wykorzystywane do zwiększania przyczepności powłoki i wydajności osadzania oraz do rozpylania jonowego wspomaganego prądami wysokiej częstotliwości, wykorzystywanego do intensyfikacji odparowania niemetalicznych materiałów powłokowych. NB. 2: Do aktywacji osadzania można zastosować wiązki jonów o niskiej energii (poniżej 5 keV). |
g) |
implantacja jonowa jest procesem modyfikacji powierzchni polegającym na jonizacji pierwiastka, który ma być stopiony, przyspieszaniu go za pomocą różnicy potencjałów i wstrzeliwaniu w odpowiedni obszar powierzchni podłoża. Technika ta może być stosowana równocześnie z napylaniem jonowym wspomaganym za pomocą wiązki elektronów albo rozpylaniem jonowym. |
KATEGORIA 3
ELEKTRONIKA
3A
Systemy, urządzenia i części
Uwaga 1: Poziom kontroli sprzętu i komponentów opisanych w pozycjach 3A001 lub 3A002, innych niż opisane w pozycji 3A001.a.3 do 3A001.a.10 lub 3A001.a.12, specjalnie do nich zaprojektowanych albo posiadających te same cechy funkcjonalne co inny sprzęt, jest taki sam jak poziom kontroli innego sprzętu.
Uwaga 2: Poziom kontroli układów scalonych opisanych w pozycjach 3A001.a.3 do 3A001.a.9 lub 3A001.a.12, zaprogramowanych na stałe bez możliwości wprowadzenia zmian albo przeznaczonych do specjalnych funkcji dla innego sprzętu, jest taki sam jak poziom kontroli innego sprzętu.
NB.: W razie gdy producent lub wnioskodawca nie jest w stanie określić poziomu kontroli innego sprzętu, poziom kontroli danych układów scalonych jest określony w pozycjach 3A001.a.3 do 3A001.a.9 i 3A001.a.12.
Jeżeli układ scalony jest krzemowym "układem mikrokomputerowym" lub mikrosterownikiem opisanym w pozycji 3A001.a.3 o długości słowa operanda (danych) 8 bitów lub mniej, poziom kontroli układu scalonego jest określony w pozycji 3A001.a.3.
3A001
Komponenty elektroniczne, takie jak:
a) |
układy scalone ogólnego przeznaczenia, takie jak: Uwaga 1: Poziom kontroli płytek (gotowych albo niegotowych) posiadających wyznaczoną funkcję należy określać na podstawie parametrów podanych w pozycji 3A001.a. Uwaga 2: Wśród układów scalonych rozróżnia się następujące typy:
|
b) |
komponenty mikrofalowe lub pracujące na falach milimetrowych, takie jak:
|
c) |
urządzenia wykorzystujące fale akustyczne oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty, w tym:
|
d) |
urządzenia lub układy elektroniczne, zawierające komponenty wykonane z materiałów "nadprzewodzących", specjalnie zaprojektowane do pracy w temperaturach poniżej "temperatury krytycznej" co najmniej jednego z elementów "nadprzewodzących", posiadające którąkolwiek z następujących cech:
|
e) |
urządzenia wysokoenergetyczne, takie jak:
|
f) |
urządzenia kodujące bezwzględne położenie wału, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:
|
g) |
półprzewodnikowe impulsowe tyrystorowe wyłączniki zasilania i ’moduły tyrystorowe’ oparte na metodach wyłączania sterowanych elektrycznie, optycznie lub promieniowaniem elektronowym, mające którąkolwiek z poniższych cech:
Uwaga 1: Pozycja 3A001.g obejmuje:
Uwaga 2: Pozycja 3A001.g nie obejmuje kontrolą urządzeń tyrystorowych i ’modułów tyrystorowych’ wbudowanych w urządzenia przeznaczone do zastosowań w kolejnictwie cywilnym lub "cywilnych statkach powietrznych". Uwaga techniczna: Do celów pozycji 3A001.g ’moduł tyrystorowy’ zawiera co najmniej jedno urządzenie tyrystorowe. |
3A002
Sprzęt elektroniczny ogólnego przeznaczenia, taki jak:
a) |
sprzęt do rejestracji i specjalnie zaprojektowane do nich taśmy testowe:
|
b) |
"elektroniczne zespoły""syntezatorów częstotliwości" posiadające "czas przełączania częstotliwości" z jednej wybranej wartości na drugą mniejszy niż 1 ms; Uwaga: Poziom kontroli analizatorów sygnałów, generatorów sygnałowych, analizatorów sieci i kontrolnych odbiorników mikrofalowych jako przyrządów autonomicznych określony jest, odpowiednio, w pozycjach 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e i 3A002.f. |
c) |
"analizatory sygnałów" o częstotliwościach radiowych, takie jak:
|
d) |
generatory sygnałowe z syntezą częstotliwości, wytwarzające częstotliwości wyjściowe, których dokładność oraz stabilność krótko- i długo- terminowa, podlega regulacji, powstające lub wymuszane przez wewnętrzny podstawowy oscylator referencyjny, posiadające jedną z niżej wymienionych cech:
Uwaga 1: Do celów pozycji 3A002.d.1. pojęcie generatorów sygnałowych z syntezą częstotliwości obejmuje generatory funkcji i przebiegów arbitralnych. Uwaga 2: Pozycja 3A002.d nie obejmuje kontrolą sprzętu, w którym częstotliwość wyjściowa jest wytwarzana poprzez dodawanie albo odejmowanie dwóch lub więcej częstotliwości oscylatorów kwarcowych, bądź poprzez dodawanie lub odejmowanie, a następnie mnożenie uzyskanego wyniku. Uwagi techniczne:
|
e) |
analizatory sieci o maksymalnej częstotliwości roboczej przewyższającej 43,5 GHz; |
f) |
kontrolne odbiorniki mikrofalowe posiadające wszystkie niżej wymienione cechy:
|
g) |
atomowe wzorce częstotliwości posiadające jedną z niżej wymienionych cech:
Uwaga: Pozycja 3A002.g.1 nie obejmuje kontrolą rubidowych wzorców częstotliwości, niebędących "klasy kosmicznej". |
3A003
Systemy zarządzania termicznym chłodzeniem natryskowym, wykorzystującym sprzęt do obsługi i przywracania stanu z zamkniętym obiegiem cieczy, umieszczone w uszczelnionych obudowach, w których płyn dielektryczny, przy użyciu specjalnie zaprojektowanych dysz, jest rozpylany na elementy elektroniczne, w celu utrzymania ich w dopuszczalnym przedziale temperatur pracy, oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty.
3A101
Sprzęt, przyrządy i elementy elektroniczne, różne od wyszczególnionych w pozycji 3A001, takie jak:
a) |
przetworniki analogowo-cyfrowe, wykorzystywane w "pociskach rakietowych", spełniające wymagania wojskowe dla urządzeń odpornych na wstrząsy; |
b) |
akceleratory zdolne do generowania promieniowania elektromagnetycznego, wytwarzanego w wyniku hamowania elektronów o energii 2 MeV lub większej, oraz systemy zawierające takie akceleratory. Uwaga: Pozycja 3A101.b nie określa sprzętu specjalnie zaprojektowanego do zastosowań medycznych. |
3A102
"Baterie termiczne" zaprojektowane lub zmodyfikowane dla "pocisków rakietowych"
Uwagi techniczne:
1. |
W pozycji 3A102 "baterie termiczne" oznaczaja baterie jednorazowego użycia zawierające jako elektrolit nieprzewodzący sól nieorganiczną w stanie stałym. Baterie te zawierają materiał pirolityczny, który po zapaleniu topi elektrolit i uruchamia baterię. |
2. |
W pozycji 3A102 "pociski rakietowe" oznaczają kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych, o zasięgu przekraczającym 300 km. |
3A201
Podzespoły elektroniczne, różne od wyszczególnionych w pozycji 3A001, takie jak:
a) |
kondensatory posiadające jeden z następujących zestawów cech:
|
b) |
nadprzewodnikowe elektromagnesy solenoidalne posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
Uwaga: Pozycja 3A201.b nie obejmuje kontrolą magnesów specjalnie zaprojektowanych i eksportowanych "jako części" medycznych systemów do obrazowania metodą jądrowego rezonansu magnetycznego (NMR). Sformułowanie "jako części" niekoniecznie oznacza fizyczną część wchodzącą w skład tej samej partii wysyłanego wyrobu; dopuszcza się możliwość oddzielnych wysyłek z różnych źródeł, pod warunkiem, że w towarzyszącej im dokumentacji eksportowej wyraźnie określa się, że wysyłane wyroby są dostarczane "jako część" systemu obrazowania. |
c) |
generatory błyskowe promieniowania rentgenowskiego lub impulsowe akceleratory elektronów posiadajace jeden z następujących zestawów cech:
Uwaga: Pozycja 3A201.c nie obejmuje kontrolą akceleratorów stanowiących elementy składowe urządzeń zaprojektowanych do innych celów, niż wytwarzania wiązek elektronów lub promieniowania rentgenowskiego (np. mikroskopy elektronowe) oraz urządzeń zaprojektowanych do zastosowań medycznych. Uwagi techniczne:
|
3A225
Przemienniki częstotliwości lub generatory, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B001.b.13, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
wyjście wielofazowe umożliwiające uzyskanie mocy równej 40 W lub większej; |
b) |
zdolność do pracy w zakresie częstotliwości pomiędzy 600 a 2 000 Hz; |
c) |
całkowite zniekształcenia harmoniczne lepsze (mniej) niż 10 %; oraz |
d) |
dokładność regulacji częstotliwości lepsza (mniejsza) niż 0,1 %. |
Uwaga techniczna:
Przemienniki częstotliwości w pozycji 3A225, nazywane są również konwerterami lub inwerterami.
3A226
Wysokoenergetyczne zasilacze prądu stałego, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B001.j.6, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
zdolność do ciągłego wytwarzania, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, napięcia 100 V lub większego z wyjściem prądowym 500 A lub większym; oraz |
b) |
stabilności prądu lub napięcia, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, lepszej niż 0,1 %. |
3A227
Wysokonapięciowe zasilacze prądu stałego, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B001.j.5, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
zdolność do ciągłego wytwarzania, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, napięcia 20 kV lub większego z wyjściem prądowym 1 A lub większym; oraz |
b) |
stabilności prądu lub napięcia, w ciągu 8 godzinnego okresu czasu, lepszej niż 0,1 %. |
3A228
Urządzenia przełączające, takie jak:
a) |
lampy elektronowe o zimnej katodzie, bez względu na to, czy są napełnione gazem, czy też nie, pracujące podobnie do iskiernika i posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
Uwaga: Pozycja 3A228 obejmuje gazowe lampy kriotronowe i próżniowe lampy sprytronowe. |
b) |
iskierniki wyzwalane, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
c) |
moduły lub zespoły do szybkiego przełączania funkcji, inne niż wyszczególnione w pozycji 3A001.g, posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
|
3A229
Instalacje zapłonowe i równoważne generatory impulsów wysokoprądowych, takie jak:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA.
a) |
zestawy zapłonowe do detonatorów, zaprojektowane do objętych kontrolą detonatorów typu wielokrotnego, wyszczególnionych w pozycji 3A232; |
b) |
modułowe generatory impulsów elektrycznych (impulsatory) posiadające wszystkie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
Uwaga: Pozycja 3A229.b obejmuje wzbudnice ksenonowych lamp błyskowych. Uwaga techniczna: W pozycji 3A229.b.5 "czas narastania" jest zdefiniowany jako przedział czasowy w zakresie od 10 do 90 % amplitudy natężenia prądu w przypadku zasilania obciążenia rezystancyjnego. |
3A230
Szybkie generatory impulsowe posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
napięcie wyjściowe większe niż 6 woltów, przy obciążeniu rezystancyjnym mniejszym niż 55 Ω; oraz |
b) |
"czas narastania impulsów" mniejszy niż 500 ps. |
Uwaga techniczna:
W pozycji 3A230 "czas narastania impulsów" definiuje się jako przedział czasowy pomiędzy 10 % a 90 % amplitudy napięcia.
3A231
Systemy generowania neutronów, w tym lampy, posiadające obydwie niżej wymienione cechy charakterystyczne:
a) |
przeznaczone do pracy bez zewnętrznych instalacji próżniowych; oraz |
b) |
wykorzystujące przyspieszanie elektrostatyczne do wzbudzania reakcji jądrowej trytu z deuterem. |
3A232
Detonatory i wielopunktowe systemy inicjujące, w tym:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA.
a) |
zapłonniki elektryczne, takie jak:
|
b) |
instalacje z detonatorami pojedynczymi lub wielokrotnymi, przeznaczone do prawie równoczesnego inicjowania wybuchów, na obszarze większym niż 5 000 mm2, za pomocą pojedynczego sygnału zapłonowego, o opóźnieniu synchronizacji na całej powierzchni mniejszym niż 2,5 μs. |
Uwaga: Pozycja 3A232 nie obejmuje kontrolą zapłonników, wykorzystujących wyłącznie inicjujące materiały wybuchowe, takie jak azydek ołowiawy.
Uwaga techniczna:
W pozycji 3A232 wszystkie przedmiotowe detonatory wykorzystują małe przewodniki elektryczne (mostki, połączenia mostkowe lub folie) gwałtownie odparowujące po przepuszczeniu przez nie szybkich, wysokoprądowych impulsów elektrycznych. W przypadku zapłonników nieudarowych wybuchający przewodnik inicjuje eksplozję chemiczną w zetknięciu się z materiałem burzącym, takim jak PETN (czteroazotan pentaerytrytu). W zapłonnikach udarowych wybuchowe odparowanie przewodnika elektrycznego zwalnia przeskok bijnika przez szczelinę, którego uderzenie w materiał wybuchowy inicjuje eksplozję chemiczną. W niektórych przypadkach bijnik napędzany jest siłami magnetycznymi. Termin detonator w postaci folii eksplodującej może odnosić się zarówno do detonatorów typu EB, jak i udarowych. Zamiast słowa detonator używa się także czasami słowa inicjator.
3A233
Spektrometry masowe, różne od wyszczególnionych w pozycji 0B002.g, zdolne do pomiaru mas jonów o wartości 230 mas atomowych lub większej oraz posiadające rozdzielczość lepszą niż 2 części na 230 oraz źródła jonów do tych urządzeń, w tym:
a) |
plazmowe spektrometry masowe ze sprzężeniem indukcyjnym (ICP/MS); |
b) |
jarzeniowe spektrometry masowe (GDMS); |
c) |
termojonizacyjne spektrometry masowe (TIMS); |
d) |
spektrometry masowe z zespołami do bombardowania elektronami, posiadające komorę ze źródłem elektronów wykonaną z materiałów odpornych na UF6, wykładaną lub powlekaną takimi materiałami; |
e) |
następujące spektrometry masowe z wiązką molekularną:
|
f) |
spektrometry masowe ze źródłem jonów do mikrofluoryzacji zaprojektowane do pracy w obecności aktynowców lub fluorków aktynowców. |
3B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
3B001
Sprzęt do wytwarzania urządzeń lub materiałów półprzewodnikowych oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty i akcesoria, w tym:
a) |
sprzęt zaprojektowany do osadzania warstwy epitaksjalnej, taki jak:
|
b) |
sprzęt zaprojektowany do implantacji jonów, posiadający jedną z niżej wymienionych cech:
|
c) |
sprzęt do suchego trawienia za pomocą plazmy anizotropowej, taki jak:
|
d) |
sprzęt do intensyfikowanego za pomocą plazmy osadzania z par lotnych (CVD), taki jak:
|
e) |
automatycznie ładujące się, wielokomorowe, centryczne systemy do wytwarzania płytek elektronicznych, posiadający wszystkie z niżej wymienionych cech:
Uwaga: Pozycja 3B001.e nie obejmuje kontrolą automatycznych, zrobotyzowanych systemów wytwarzania płytek elektronicznych, niezaprojektowanych do działania w warunkach próżni. |
f) |
sprzęt litograficzny, taki jak:
|
g) |
maski i siatki optyczne zaprojektowane do układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001; |
h) |
maski wielowarstwowe z warstwą z przesunięciem fazowym; Uwaga: Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych masek z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nieobjętych kontrolą przez pozycję 3A001. |
i) |
szablony do litografii nanodrukowej układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001. |
3B002
Sprzęt testujący, specjalnie przeznaczony do testowania wykończonych i niewykończonych elementów półprzewodnikowych oraz specjalnie zaprojektowane do nich komponenty i akcesoria, z tego:
a) |
do testowania S — parametrów urządzeń tranzystorowych przy częstotliwościach powyżej 31,8 GHz; |
b) |
nieużywany; |
c) |
do testowania mikrofalowych układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001.b.2. |
3C
Materiały
3C001
Materiały heteroepitaksjalne składające się z "podłoża" i wielu nałożonych epitaksjalnie warstw z jednego z niżej wymienionych materiałów:
a) |
krzemu; |
b) |
germanu; |
c) |
węglika krzemu; lub |
d) |
związków III/V galu lub indu. Uwaga techniczna: Związki III/V są substancjami polikrystalicznymi, binarnymi lub złożonymi substancjami monokrystalicznymi składającymi się z pierwiastków grupy IIIA i VA okresowego układu Mendelejewa (np. arsenek galu, arsenek galu i glinu, fosforek indu). |
3C002
Materiały fotorezystywne, "podłoża" powlekane, objętymi kontrolą, materiałami ochronnymi, z tego:
a) |
materiały fotorezystywne pozytywowe zaprojektowane do litografii półprzewodnikowej, specjalnie wyregulowanej (zoptymalizowanej) do stosowania w zakresie długości fali poniżej 245 nm; |
b) |
wszystkie materiały fotorezystywne, zaprojektowane do użytku z wiązkami elektronowymi lub jonowymi, o czułości 0,01 μC/mm2 lub lepszej; |
c) |
wszystkie materiały fotorezystywne, przeznaczone do użytku promieni rentgenowskimi, posiadające czułość 2,5 mJ/mm2 lub lepszą; |
d) |
wszystkie materiały fotorezystywne zoptymalizowane do technologii tworzenia obrazów powierzchniowych, włącznie z fotorezystami "siliatowanymi". Uwaga techniczna: Techniki "siliatowania" są zdefiniowane jako procesy zawierające utlenianie powierzchni materiałów fotorezystywnych w celu poprawy ich parametrów zarówno podczas wywoływania na sucho, jak i na mokro. |
3C003
Związki organiczno-nieorganiczne, takie jak:
a) |
materiały metaloorganiczne z glinu, galu lub indu o czystości (na bazie metalu) powyżej 99,999 %; |
b) |
związki arsenoorganiczne, antymonoorganiczne i fosforoorganiczne o czystości (na bazie związku nieorganicznego) lepszej niż 99,999 %. |
Uwaga: Pozycja 3C003 obejmuje kontrolą wyłącznie związki, w których składnik metalowy, częściowo metalowy lub składnik niemetalowy jest bezpośrednio związany z węglem w organicznym składniku molekuły.
3C004
Wodorki fosforu, arsenu lub antymonu o czystości powyżej 99,999 %, nawet rozpuszczone w gazach obojętnych lub w wodorze.
Uwaga: Pozycja 3C004 nie obejmuje kontrolą wodorków zawierających molowo 20 % lub więcej gazów obojętnych lub wodoru.
3C005
Płytki z węglika krzemu (SiC) o rezystywności powyżej 10 000 Ω/cm.
3D
Oprogramowanie
3D001
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu objętego kontrolą, wyszczególnionego w pozycji 3A001.b do 3A002.g, lub 3B.
3D002
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "użytkowania" dowolnych obiektów z niżej wymienionych:
a) |
sprzęt wyszczególniony w pozycji 3B001.a do.f; lub |
b) |
sprzęt wyszczególniony w pozycji 3B002. |
3D003
"Oprogramowanie" symulacyjne, bazujące na fizyce, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" litografii, wytrawiania lub procesów osadzania w celu przekształcenia maskujących kształtów w konkretną topografię obszarów przewodzących, dielektrycznych lub półprzewodnikowych.
Uwaga techniczna:
’Bazujące na fizyce’ w 3D003 oznacza wykorzystanie obliczeń do określenia sekwencji przyczyn fizycznych oraz skutków zdarzeń, opierających się na właściwościach fizycznych (np. temperatura, ciśnienie, stałe dyfuzji oraz właściwości materiałów półprzewodnikowych).
Uwaga: Biblioteki, związane z nimi atrybuty i inne dane służące do projektowania urządzeń półprzewodnikowych lub układów scalonych są postrzegane jako "technologia".
3D004
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane do "rozwoju" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 3A003.
3D101
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 3A101.b.
3E
Technologia
3E001
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu lub materiałów wyszczególnionych w pozycji 3A, 3B lub 3C.
Uwaga 1: Pozycja 3E001 nie obejmuje kontrolą "technologii" do "produkcji" sprzętu lub komponentów objętych kontrolą przez pozycję 3A003.
Uwaga 2: Pozycja 3E001 nie obejmuje kontrolą "technologii" do "rozwoju" lub "produkcji" układów scalonych wyszczególnionych w pozycji 3A001.a.3 do 3A001.a.12, posiadających wszystkie niżej wymienione cechy:
1) |
wykorzystujące technologię 0,5 μm lub więcej; oraz |
2) |
nieposiadające "struktury wielowarstwowej". |
Uwaga techniczna:
Pojęcie "struktura wielowarstwowa" nie obejmuje urządzeń posiadających maksymalnie trzy warstwy metaliczne i trzy warstwy polikrzemowe.
3E002
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, inna niż wyszczególnione w pozycji 3E001, do "rozwoju" lub "produkcji""układu mikroprocesorowego", "układu mikrokomputerowego" lub rdzenia układu mikrosterowników posiadającego jednostkę arytmetyczno-logiczną z szyną dostępu 32 bity lub więcej i którąkolwiek z poniższych właściwości:
a) |
procesor wektorowy przeznaczony do jednoczesnego wykonywania więcej niż dwu operacji na wektorach zmiennoprzecinkowych (jednowymiarowych tablicach złożonych z liczb 32-bitowych lub dłuższych); Uwaga techniczna: "Procesor wektorowy" jest zdefiniowany jako procesor wyposażony w wewnętrzne instrukcje pozwalające równocześnie wykonywać wielokrotne operacje na wektorach zmiennoprzecinkowych (jednowymiarowych tablicach złożonych z liczb 32-bitowych lub dłuższych), posiadający co najmniej jedną jednostkę wektorową arytmetyczno-logiczną. |
b) |
zaprojektowany do wykonywania w jednym cyklu więcej niż dwu wyników operacji zmiennoprzecinkowych na liczbach 64-bitowych lub dłuższych; lub |
c) |
zaprojektowany do wykonywania w jednym cyklu więcej niż czterech wyników operacji stałoprzecinkowych typu multiply-accumulate na liczbach 16-bitowych (np. obróbka cyfrowa informacji analogowych, które uprzednio zostały przekształcone na postać cyfrową, znana również jako cyfrowe przetwarzanie sygnału). Uwaga: Pozycja 3E002 nie obejmuje kontrolą technologii do rozszerzeń multimedialnych. |
Uwaga 1: Pozycja 3E002 nie obejmuje kontrolą "technologii" do "rozwoju" lub "produkcji" rdzeni mikroprocesorów mających wszystkie z poniższych właściwości:
a) |
zastosowanie "technologii" na poziomie 0,130 μm lub powyżej; oraz |
b) |
wykorzystywanie struktur wielowarstwowych o co najwyżej pięciu warstwach metalu. |
Uwaga 2: Pozycja 3E002 obejmuje "technologię" dla procesorów sygnałowych i procesorów macierzowych.
3E003
Inna "technologia" do "rozwoju" lub "produkcji" tego, co następuje:
a) |
próżniowych urządzeń mikroelektronicznych; |
b) |
heterostrukturalnych urządzeń półprzewodnikowych, takich jak tranzystory o wysokiej ruchliwości elektronów (HEMT), tranzystory heterobipolarne (HBT), urządzenia nadstrukturalne oraz ze studnią kwantową; Uwaga: Pozycja 3E003.b nie obejmuje kontrolą technologii dla tranzystorów o wysokiej ruchliwości elektronów (HEMT), pracujących na częstotliwościach niższych od 31,8 GHz oraz tranzystorów heterobipolarnych (HBT), pracujących na częstotliwościach niższych od 31,8 GHz. |
c) |
urządzeń elektronicznych opartych na "nadprzewodnikach"; |
d) |
podłoży folii diamentowych do podzespołów elektronicznych; |
e) |
podłoży do układów scalonych, typu "krzem na izolatorze" (SOI), gdzie izolatorem jest dwutlenek krzemu; |
f) |
podłoży z węglika krzemu dla komponentów elektronicznych; |
g) |
elektronicznych lamp próżniowych, pracujących na częstotliwościach równych 31,8 GHz lub wyższych. |
3E101
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 3A001.a.1 lub 3A001.a.2, 3A101, 3A102 lub 3D101.
3E102
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "rozwoju""oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 3D101.
3E201
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii, do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 3A001.e.2, 3A001.e.3, 3A001.g, 3A201, 3A225 do 3A233.
KATEGORIA 4
KOMPUTERY
Uwaga 1: Komputery, towarzyszące im sprzęt i "oprogramowanie" wypełniające funkcje telekomunikacyjne lub działające w ramach "lokalnej sieci komputerowej", muszą również być analizowane pod kątem spełniania charakterystyk, przynależnych do kategorii 5, część 1 — Telekomunikacja.
Uwaga 2: Jednostki sterujące podłączone bezpośrednio do szyn lub łączy jednostek centralnych, "pamięci operacyjnych" lub sterowników dysków nie są uważane za urządzenia telekomunikacyjne ujęte w kategorii 5, część 1 — Telekomunikacja.
NB.: Dla ustalenia poziomu kontroli "oprogramowania" specjalnie przeznaczonego do komutacji pakietów patrz: pozycja 5D001.
Uwaga 3: Komputery, towarzyszące im urządzenia i "oprogramowanie" spełniające funkcje szyfrowania, rozszyfrowywania, systemu zabezpieczeń wymagającego potwierdzania wielopoziomowego lub w wymagających potwierdzania systemach wyodrębnienia użytkownika, lub które ograniczają zgodność elektromagnetyczną (EMC), należy również analizować pod kątem spełniania charakterystyk, przynależnych do kategorii 5, część 2 — Ochrona informacji.
4A
Systemy, sprzęt i komponenty
4A001
Komputery elektroniczne i towarzyszący im sprzęt, "zespoły elektroniczne" oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, w tym:
NB.: PATRZ TAKŻE POZYCJA 4A101.
a) |
specjalnie zaprojektowane, aby posiadać jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
b) |
posiadające cechy charakterystyczne lub realizujące działania, wykraczające poza ograniczenia kategorii 5, część 2 — Ochrona informacji. Uwaga: Pozycja 4A001.b nie obejmuje kontrolą komputerów elektronicznych i związanego z nimi sprzętu, towarzyszącymi użytkownikowi dla jego osobistego użytku. |
4A003
"Komputery cyfrowe", "zespoły elektroniczne" i sprzęt im towarzyszący oraz specjalnie zaprojektowane dla nich komponenty, w tym:
Uwaga 1: Pozycja 4A003 obejmuje:
a) |
procesory wektorowe; |
b) |
procesory tablicowe; |
c) |
cyfrowe procesory sygnałowe; |
d) |
procesory logiczne; |
e) |
sprzęt zaprojektowany do "wzmacniania obrazów"; |
f) |
sprzęt zaprojektowany do "przetwarzania sygnałów". |
Uwaga 2: Poziom kontroli "komputerów cyfrowych" i towarzyszącego im sprzętu opisany w pozycji 4A003 wynika z poziomu kontroli innego sprzętu lub systemów, pod warunkiem że:
a) |
"komputery cyfrowe" lub towarzyszący im sprzęt mają zasadnicze znaczenie dla działania innego sprzętu lub systemów; |
b) |
"komputery cyfrowe" lub towarzyszący im sprzęt nie są "elementem o podstawowym znaczeniu" innego sprzętu lub systemów; oraz NB. 1: Poziom kontroli sprzętu do "przetwarzania sygnałów" lub "wzmacniania obrazów" specjalnie przeznaczonych do innego sprzętu i ograniczonych funkcjonalnie do wymogów pracy tego sprzętu wynika ze statusu kontroli innego sprzętu, nawet gdy wykracza to poza kryterium "elementu o podstawowym znaczeniu". NB. 2: W przypadku poziomu kontroli "komputerów cyfrowych" lub towarzyszącego im sprzętu, do sprzętu telekomunikacyjnego patrz: kategoria 5, część 1 — Telekomunikacja. |
c) |
"technologia" do "komputerów cyfrowych" i towarzyszącego im sprzętu jest określona przez pozycję 4E. |
a) |
zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu "odporności na uszkodzenia"; Uwaga: Do celów pozycji 4A003.a "komputery cyfrowe" i towarzyszący im sprzęt nie są uważane za "odporne na uszkodzenia" dzięki specjalnej konstrukcji lub odpowiedniej modyfikacji, jeżeli zastosowano w nich:
|
b) |
"komputery cyfrowe" posiadające "skorygowaną wydajność szczytową" ("APP") powyżej 0,75 teraflopsa ważonego (WT); |
c) |
"zespoły elektroniczne", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu polepszenia mocy obliczeniowej poprzez agregację procesorów w taki sposób, że "APP" agregatu przekracza wartość graniczną, określoną w pozycji 4A003.b; Uwaga 1: Pozycja 4A003.c odnosi się wyłącznie do "zespołów elektronicznych" i programowanych połączeń, których moc obliczeniowa nie wykracza poza wartości graniczne określone w pozycji 4A003.b., w przypadku dostarczania ich jako "zespoły elektroniczne" w stanie rozłożonym. Pozycja ta nie dotyczy "zespołów elektronicznych", które ze względu na charakter swojej konstrukcji nie mogą z natury rzeczy być wykorzystywane jako urządzenia towarzyszące, wyszczególnione w pozycji 4A003.f. Uwaga 2: Pozycja 4A003.c nie obejmuje kontrolą "zespołów elektronicznych", specjalnie zaprojektowanych do wyrobu albo rodziny wyrobów, których maksymalna konfiguracja nie wykracza poza ograniczenia zawarte w pozycji 4A003.b. |
d) |
nieużywany; |
e) |
sprzęt do przetwarzania analogowo-cyfrowego o parametrach wykraczających poza wartości graniczne określone w pozycji 3A001.a.5; |
f) |
nieużywany; |
g) |
sprzęt specjalnie zaprojektowany w celu zapewnienia połączenia zewnętrznego "komputerów cyfrowych" lub towarzyszącego im sprzętu, który pozwala na wymianę danych z szybkościami przekraczającymi 1,25 Gb/s. Uwaga: Pozycja 4A003.g nie obejmuje kontrolą sprzętu zapewniającego połączenia wewnętrzne (np. tablice połączeń, szyny), urządzeń łączących o charakterze pasywnym, "sterowników dostępu do sieci" ani "sterowników torów telekomunikacyjnych". |
4A004
Komputery i specjalnie do nich zaprojektowany sprzęt towarzyszący, "zespoły elektroniczne" i komponenty dla nich, w tym:
a) |
"komputery z dynamiczną modyfikacją zestawu procesorów"; |
b) |
"komputery neuronowe"; |
c) |
"komputery optyczne". |
4A101
Komputery analogowe, "komputery cyfrowe" lub cyfrowe analizatory różniczkowe, różne od wyszczególnionych w pozycji 4A001.a.1, zabezpieczone przed narażeniami mechanicznymi lub podobnymi i specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do użycia w kosmicznych pojazdach nośnych, wyszczególnionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wyszczególnionych w pozycji 9A104.
4A102
"Komputery hybrydowe", specjalnie zaprojektowane do modelowania, symulowania lub integrowania konstrukcyjnego kosmicznych pojazdów nośnych wyszczególnionych w pozycji 9A004 lub rakiet meteorologicznych wyszczególnionych w pozycji 9A104.
Uwaga: Kontrola dotyczy wyłącznie takich sytuacji, w których sprzęt jest dostarczany z "oprogramowaniem" wyszczególnionym w pozycji 7D103 lub 9D103.
4B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
Żadne
4C
Materiały
Żadne
4D
Oprogramowanie
Uwaga: Poziom kontroli "oprogramowania" do "rozwoju", "produkcji", lub "użytkowania" urządzeń opisanych w innych kategoriach wynika z odpowiedniej kategorii. Status kontroli "oprogramowania" do urządzeń opisanych w niniejszej kategorii jest z nią związany.
4D001 |
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionych w pozycji 4A001 do 4A004 lub 4D; |
b) |
"oprogramowanie", inne niż wyszczególnione w pozycji 4D001.a, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju" lub "produkcji" niżej wymienionych:
|
4D002
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do wspomagania "technologii" wyszczególnionych w pozycji 4E.
4D003
"Oprogramowanie" specjalne, takie jak:
a) |
"oprogramowanie" systemu operacyjnego, programy narzędziowe i kompilatory do opracowywania "oprogramowania" specjalnie przeznaczone do urządzeń do "wielostrumieniowego przetwarzania danych" na "kod źródłowy"; |
b) |
nieużywany; |
c) |
"oprogramowanie" o cechach lub możliwościach realizacji funkcji wykraczających poza ograniczenia wymienione w pozycjach kategorii 5, część 2 — Ochrona informacji. Uwaga: Pozycja 4D003.c nie obejmuje kontrolą "oprogramowania", kiedy towarzyszy ono użytkownikowi dla jego osobistego użytku. |
4E
Technologia
4E001 |
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionych w pozycji 4A lub 4D; |
b) |
"technologia", inna niż wyszczególniona w pozycji 4E001.a, specjalnie zaprojektowana lub zmodyfikowana do "rozwoju" lub "produkcji" niżej wymienionych:
|
UWAGA TECHNICZNA DOTYCZĄCA "SKORYGOWANEJ WYDAJNOŚCI SZCZYTOWEJ" ("APP")
"APP" oznacza skorygowaną największą prędkość, z jaką "komputery cyfrowe" wykonują zmiennoprzecinkowe operacje dodawania i mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych.
"APP" wyraża się w teraflopsach ważonych (WT), w jednostkach wynoszących 1 012 skorygowanych operacji zmiennoprzecinkowych na sekundę.
Skróty stosowane w niniejszej uwadze technicznej
n |
: |
liczba procesorów w "komputerze cyfrowym", |
i |
: |
numer procesora (i, …n), |
ti |
: |
czas cyklu procesora (ti = 1/Fi), |
Fi |
: |
częstotliwość procesora, |
Ri |
: |
szczytowa szybkość obliczeniowa dla operacji zmiennoprzecinkowych, |
Wi |
: |
współczynnik korygujący związany z architekturą systemu. |
Omówienie sposobu obliczania "APP"
1. |
Dla każdego procesora i określić szczytową liczbę operacji zmiennoprzecinkowych (FPOi) na liczbach 64-bitowych lub dłuższych wykonywanych w jednym cyklu przez każdy procesor "komputera cyfrowego". Uwaga:: Określając FPO, należy brać pod uwagę wyłącznie zmiennoprzecinkowe operacje dodawania lub mnożenia na liczbach 64-bitowych lub dłuższych. Wszystkie operacje zmiennoprzecinkowe muszą być wyrażone w operacjach na cykl procesora; operacje wymagające wielu cykli można wyrażać w postaci wyniku ułamkowego na jeden cykl. W przypadku procesorów niezdolnych do wykonywania operacji na argumentach zmiennoprzecinkowych o długości 64 bitów lub dłuższych, efektywna szybkość obliczeniowa R wynosi zero. |
2. |
Obliczyć szybkość operacji zmiennoprzecinkowych R dla każdego procesora, Ri = FPOi/ti. |
3. |
Obliczyć "APP" ze wzoru "APP" = W1 × R1 + W2 × R2 + … + Wn × Rn. |
4. |
Dla "procesorów wektorowych" Wi = 0,9. Dla procesorów niebędących "procesorami wektorowymi" Wi = 0,3. |
Uwaga 1: W przypadku procesorów wykonujących w jednym cyklu, operacje złożone, takie jak dodawanie i mnożenie, liczy się każda operacja.
Uwaga 2: W przypadku procesora działającego w trybie potokowym, jako efektywną szybkość obliczeniową R przyjmuje się większą z następujących prędkości: prędkość w trybie potokowym przy pełnym wykorzystaniu potoku i prędkości w trybie niepotokowym.
Uwaga 3: Do celów obliczenia "APP" całego zespołu przyjmuje się dla każdego procesora składowego jego maksymalną teoretycznie możliwą szybkość obliczeniową R. Przyjmuje się, że zachodzi równoczesne wykonywanie operacji, jeżeli producent komputera stwierdza w broszurze lub podręczniku użytkownika, że komputer przetwarza dane w sposób współbieżny, równoległy lub równoczesny.
Uwaga 4: Przy obliczaniu "APP" nie uwzględnia się procesorów, których rola ogranicza się do funkcji wejścia/wyjścia i peryferyjnych (np. w napędzie dysków, urządzeniach komunikacyjnych i wyświetlaczu wideo).
Uwaga 5: Nie oblicza się wartości "APP" dla zespołów procesorów połączonych ze sobą i z innymi w ramach "lokalnych sieci komputerowych", rozległych sieci komputerowych (WAN), dzielonych wspólnych połączeń lub urządzeń wejścia/wyjścia, kontrolerów wejścia/wyjścia oraz we wszelkich połączeniach komunikacyjnych implementowanych przez "oprogramowanie".
Uwaga 6: Konieczne jest obliczenie wartości "APP" dla:
1) |
zespołów procesorów zawierających procesory specjalnie zaprojektowane w celu zwiększenia wydajności poprzez agregację, równoczesne działanie i współdzielenie pamięci; lub |
2) |
większej liczby zespołów pamięć/procesor działających równocześnie z wykorzystaniem specjalnie zaprojektowanego sprzętu. |
Uwaga 7: "Procesor wektorowy" jest zdefiniowany jako procesor wyposażony w wewnętrzne instrukcje pozwalające równocześnie wykonywać wielokrotne operacje na wektorach zmiennoprzecinkowych (jednowymiarowych tablicach złożonych z liczb 64-bitowych lub dłuższych), posiadający co najmniej dwie funkcjonalne jednostki wektorowe i co najmniej 8 rejestrów wektorowych, każdy o pojemności co najmniej 64 elementów.
KATEGORIA 5
TELEKOMUNIKACJA I "OCHRONA INFORMACJI"
CZĘŚĆ 1
TELEKOMUNIKACJA
Uwaga 1: W pozycjach kategorii 5, część 1 ujęto poziom kontroli komponentów, sprzętu "laserowego", testującego i "produkcyjnego" oraz "oprogramowania" do nich, specjalnie zaprojektowanych do sprzętu lub systemów telekomunikacyjnych.
Uwaga 2: "Komputery cyfrowe", towarzyszący im sprzęt lub "oprogramowanie", mające zasadniczy wpływ na działanie i wspomaganie działań sprzętu telekomunikacyjnego przedstawionych w pozycjach dotyczących telekomunikacji w niniejszej kategorii, są traktowane jako specjalnie opracowane komponenty, pod warunkiem, że są to modele standardowe, dostarczane przez producenta na zamówienie klienta. Dotyczy to komputerowych systemów obsługi, zarządzania, konserwacji, technicznych lub księgowych.
5A1
Systemy, sprzęt i komponenty:
5A001 |
Dowolny typ sprzętu telekomunikacyjnego, posiadający jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych lub właściwości albo realizujący jedną z wymienionych funkcji:
Uwaga: Pozycje 5A001.a.2 i 5A001.a.3 nie obejmują kontrolą sprzętu zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do stosowania na pokładach satelitów. |
b) |
systemy i urządzenia telekomunikacyjne oraz specjalnie do nich zaprojektowane komponenty i osprzęt, posiadające jedną z niżej wymienionych cech charakterystycznych oraz właściwości lub realizujących jedną z wymienionych poniżej funkcji:
|
c) |
światłowodowe kable komunikacyjne, światłowody oraz akcesoria, w tym:
|
d) |
"elektronicznie sterowane fazowane układy antenowe" pracujące w zakresie częstotliwości powyżej 31,8 GHz; Uwaga: Pozycja 5A001.d nie obejmuje kontrolą "elektronicznie sterowanych fazowanych układów antenowych" do systemów kontroli lądowania oprzyrządowanych według wymagań norm ICAO obejmujących mikrofalowe systemy kontroli lądowania (MLS). |
e) |
sprzęt radiowy do namierzania kierunku działający na częstotliwościach powyżej 30 MHz i posiadający wszystkie następujące cechy, jak również specjalnie zaprojektowane podzespoły do tego sprzętu:
|
f) |
sprzęt zakłócający zaprojektowany lub zmodyfikowany specjalnie na potrzeby celowego i selektywnego zakłócania, blokowania, utrudniania, pogarszania jakości lub wprowadzania w błąd systemów usług telefonii ruchomej, posiadający dowolne z następujących cech, jak również specjalnie zaprojektowane podzespoły do tego sprzętu:
NB. Dla sprzętu zakłócającego usługi GNSS patrz: Wykaz uzbrojenia. |
g) |
systemy lub urządzenia do pasywnej koherentnej lokacji zaprojektowane specjalnie do wykrywania i śledzenia obiektów ruchomych za pomocą pomiaru odbić emisji częstotliwości radiowych z otoczenia, pochodzących od nadajników nieradarowych. Uwaga techniczna: Nadajniki nieradarowe mogą obejmować stacje bazowe radiowe, telewizyjne i telefonii komórkowej. Uwaga: Pozycja 5A001.g. nie obejmuje kontrolą:
|
5A101
Sprzęt do zdalnego przekazywania wyników pomiarów i do zdalnego sterowania, włączając sprzęt naziemny, zaprojektowany lub zmodyfikowany do użycia w "pociskach rakietowych".
Uwaga techniczna:
W pozycji 5A101 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe oraz systemy bezzałogowych statków powietrznych, zdolnych do pokonania odległości przekraczającej 300 km.
Uwaga: Pozycja 5A101 nie obejmuje kontrolą:
a) |
sprzętu zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do załogowych samolotów lub satelitów; |
b) |
sprzętu naziemnego, zaprojektowanego lub zmodyfikowanego do zastosowań lądowych lub morskich; |
c) |
sprzętu zaprojektowanego do celów usług GNSS (np. integralności danych, bezpieczeństwa lotów) o charakterze komercyjnym, cywilnym lub dla "ratowania życia". |
5B1
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
5B001 |
Sprzęt i specjalnie zaprojektowane do niego elementy i akcesoria, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju", "produkcji" i "użytkowania" urządzeń, materiałów, funkcji lub właściwości ujętych w pozycjach 5A001, 5B001, 5D001 lub 5E001; Uwaga: Pozycja 5B001.a nie obejmuje kontrolą sprzętu do cechowania światłowodów. |
b) |
sprzęt i specjalnie zaprojektowane do niego elementy i akcesoria, specjalnie zaprojektowane do "rozwoju", następujących urządzeń telekomunikacyjnych lub przełączających:
|
5C1
Materiały
Żadne
5D1
Oprogramowanie
5D001 |
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu, funkcji lub właściwości wyszczególnionych w pozycji 5A001 lub 5B001; |
b) |
"oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do wspierania "technologii" wyszczególnionej w pozycji 5E001; |
c) |
specyficzne "oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu umożliwienia sprzętowi osiągnięcia cech charakterystycznych, funkcji lub właściwości, wyszczególnionych w pozycji 5A001 lub 5B001; |
d) |
"oprogramowanie", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", następującego sprzętu telekomunikacyjnych oraz przełączającego:
|
5D101
"Oprogramowanie", specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 5A101.
5E1
Technologia
5E001 |
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" lub "użytkowania" (wyłączając obsługiwanie) sprzętu, funkcji, właściwości lub "oprogramowania", wyszczególnionych w pozycji 5A001, 5B001 lub 5D001; |
b) |
technologie specjalne, takie jak:
|
c) |
"technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" następującego sprzętu telekomunikacyjnego lub przełączającego, funkcji lub właściwości:
|
5E101
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu wyszczególnionego w pozycji 5A101.
CZĘŚĆ 2
"OCHRONA INFORMACJI"
Uwaga 1: W niniejszej kategorii określono poziom kontroli "ochrony informacji" sprzętu, "oprogramowania", systemów, szczególnych aplikacji "podzespołów elektronicznych", modułów, układów scalonych, komponentów, technologii lub funkcji, nawet jeśli stanowią one elementy lub "podzespoły elektroniczne" wchodzące w skład innego sprzętu.
Uwaga 2: Kategoria 5, część 2 nie obejmuje kontrolą wyrobów, towarzyszących użytkownikowi dla jego osobistego użytku.
Uwaga 3:
Uwaga kryptograficzna
Pozycje 5A002 i 5D002 nie obejmują kontrolą towarów, które spełniają wszystkie niżej wymienione warunki:
a) |
są ogólnie dostępne dla klientów poprzez ich sprzedaż bez ograniczeń z magazynów punktów sprzedaży detalicznej w jakikolwiek z wymienionych niżej sposobów:
|
b) |
ich funkcjonalność kryptograficzna nie może być łatwo zmieniona przez użytkownika; |
c) |
są przeznaczone do zainstalowania przez użytkownika bez dalszej, znaczącej pomocy ze strony dostawcy; oraz |
d) |
w przypadku zaistnienia konieczności, szczegóły techniczne tych towarów są dostępne i zostaną dostarczone, na żądanie właściwych organów państwa członkowskiego, w którym eksporter jest zarejestrowany, w celu potwierdzenia zgodności z warunkami określonymi w lit. od a) do c) powyżej. |
Uwaga techniczna:
W ramach kategorii 5, część 2, bity parzystości nie są wliczane do długości klucza.
5A2
Systemy, sprzęt i komponenty
5A002 |
Systemy, sprzęt, specyficzne aplikacje "podzespołów elektronicznych", moduły i układy scalone związane z "ochroną informacji" oraz inne specjalnie do nich zaprojektowane komponenty, w tym: NB.: Do sterowania urządzeniami systemów globalnej nawigacji satelitarnej zawierających lub wykorzystujących funkcje szyfrowania (np. GPS lub GLONASS) patrz: pozycja 7A005.
Uwaga techniczna: "Kryptografia kwantowa" bywa również określana jako kwantowa wymiana klucza (QKD). Uwaga: Pozycja 5A002 nie obejmuje kontrolą:
|
5B2
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
5B002 |
Sprzęt specjalnie zaprojektowany do:
|
b) |
sprzęt pomiarowy specjalnie zaprojektowany do oceny i analizy funkcji "ochrony informacji" wyszczególniony w pozycji 5A002 lub 5D002. |
5C2
Materiały
Żadne
5D2
Oprogramowanie
5D002 |
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania" wyszczególnionego w pozycji 5A002, 5B002 lub 5D002; |
b) |
"oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do wspierania "technologii" wyszczególnionej w pozycji 5E002; |
c) |
specyficzne "oprogramowanie", takie jak:
|
Uwaga: Pozycja 5D002 nie obejmuje kontrolą:
a) |
"oprogramowania" niezbędnego do "użytkowania" sprzętu wykluczonego spod kontroli uwagą do pozycji 5A002; |
b) |
"oprogramowania" umożliwiającego realizację dowolnej funkcji sprzętu wykluczonego spod kontroli uwagą do pozycji 5A002. |
5E2
Technologia
5E002
"Technologia" stosownie do uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" lub "użytkowania" sprzętu lub "oprogramowania", wyszczególnionego w pozycji 5A002, 5B002 lub 5D002.
KATEGORIA 6
CZUJNIKI I LASERY
6A
Systemy, urządzenia i części
6A001
Czujniki akustyczne:
a) |
następujące okrętowe systemy akustyczne, urządzenia albo specjalnie do nich przeznaczone elementy:
|
b) |
urządzenia sonarowe z korelacją prędkościową przeznaczone do pomiaru prędkości poziomej obiektu, na którym się znajdują, względem dna morza w przypadku odległości obiektu od dna powyżej 500 m. |
6A002
Czujniki optyczne:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A102.
a) |
następujące detektory optyczne: Uwaga: Pozycja 6A002.a nie obejmuje kontrolą elementów fotoelektrycznych wykonanych z germanu lub krzemu. NB.: Mikrobolometryczne "płaskie zespoły ogniskujące", inne niż "klasy kosmicznej", wykonane na bazie krzemu lub innych materiałów są wymienione jedynie w pozycji 6A002.a.3.f.
|
b) |
"monospektralne czujniki obrazowe" i "wielospektralne czujniki obrazowe" przeznaczone do zdalnego wykrywania obiektów, posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
c) |
urządzenia do ’bezpośredniego widzenia’ działające w zakresie promieniowania widzialnego lub podczerwonego wyposażone w jeden z następujących zespołów:
Uwaga techniczna: Termin "bezpośrednie widzenie" odnosi się do urządzeń tworzących obrazy, działających w zakresie fal widzialnych albo podczerwonych i przedstawiających widzialny dla człowieka obraz bez jego przetwarzania na sygnał elektroniczny przekazywany na ekran telewizyjny, niemogących zarejestrować albo przechować obrazu na drodze fotograficznej, elektronicznej albo jakiejkolwiek innej. Uwaga: Pozycja 6A002.c nie obejmuje kontrolą następujących urządzeń zaopatrzonych w fotokatody inne niż z GaAs lub GaInAs:
|
d) |
następujące specjalne elementy pomocnicze do czujników optycznych:
|
e) |
"płaskie zespoły ogniskujące""klasy kosmicznej" mające więcej niż 2 048 elementów na zespół i reakcję szczytową w paśmie fal o długości powyżej 300 nm, ale poniżej 900 nm. |
6A003
Kamery filmowe:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A203.
NB.: Dla kamer specjalnie opracowanych lub zmodyfikowanych do zastosowań podwodnych sprawdź także pozycje 8A002.d i 8A002.e.
a) |
następujące kamery rejestrujące i specjalnie dla nich przeznaczone elementy: Uwaga: Kamery rejestrujące, określone w pozycjach 6A003.a.3 do 6A003.a.5, o budowie modułowej powinny być oceniane wg ich maksymalnych możliwości przy wykorzystaniu ’zespołów wtykanych’ zgodnie ze specyfikacją producenta kamery.
|
b) |
następujące kamery obrazowe: Uwaga: Pozycja 6A003.b nie obejmuje kontrolą kamer telewizyjnych ani wideokamer przeznaczonych specjalnie dla stacji telewizyjnych.
|
6A004
Elementy optyczne
a) |
Następujące zwierciadła optyczne (reflektory): NB.: Zwierciadła optyczne zaprojektowane specjalnie do urządzeń litograficznych — patrz: pozycja 3B001.
|
b) |
elementy optyczne z selenku cynku (ZnSe) lub siarczku cynku (ZnS) z możliwością transmisji w zakresie długości fal powyżej 3 000 nm, ale poniżej 25 000 nm i posiadające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
c) |
następujące elementy "klasy kosmicznej" do systemów optycznych:
|
d) |
następujące urządzenia do sterowania elementami optycznymi:
|
e) |
’asferyczne elementy optyczne’ mające wszystkie wymienione niżej cechy:
Uwagi techniczne:
Uwaga: Pozycja 6A004.e.2 nie obejmuje kontrolą asferycznych elementów optycznych mających którąkolwiek z następujących cech:
NB.: Jeżeli chodzi o elementy asferyczne specjalnie zaprojektowane dla urządzeń litograficznych, patrz: 3B001. |
6A005
Następujące "lasery", ich elementy i urządzenia optyczne do nich, różne od wymienionych w pozycjach 0B001.g.5 lub 0B001.h.6:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A205.
Uwaga 1: Do "laserów" impulsowych zalicza się lasery z falą ciągłą (CW), z nakładanymi na nią impulsami.
Uwaga 2: "Lasery" ekscymerowe, półprzewodnikowe, chemiczne, CO, CO2 i neodymowo-szklane o niepowtarzajacych się impulsach wyszczególnione są wyłącznie w pozycji 6A005.d.
Uwaga 3: Pozycja 6A005 obejmuje "lasery" włóknowe.
Uwaga 4: Poziom kontroli "laserów" wykorzystujących przetworzenie częstotliwości (tzn. zmianę długości fali) w inny sposób niż przez "pompowanie" jednego lasera innym "laserem" określony jest przez zastosowanie parametrów kontroli zarówno do wyjścia "lasera" źródłowego jak i do wyjścia optycznego o przekształconej częstotliwości.
Uwaga 5: Pozycja 6A005 nie obejmuje kontrolą następujących "laserów":
a) |
rubinowy o energii wyjściowej poniżej 20 J; |
b) |
azotowy; |
c) |
kryptonowy. |
Uwaga techniczna:
W pozycji 6A005 "sprawność całkowitą" definiuje się jako stosunek mocy wyjściowej "lasera" (lub "średniej mocy wyjściowej") do całkowitej mocy wejściowej wymaganej do funkcjonowania "lasera", w tym zasilania/kondycjonowania mocy oraz kondycjonowania termicznego/wymiennika ciepła.
a) |
"nieprzestrajalne""lasery" z falą ciągłą, mające którąkolwiek z poniższych właściwości:
|
b) |
"nieprzestrajalne""lasery" impulsowe, mające którąkolwiek z poniższych właściwości:
|
c) |
"lasery" przestrajalne, mające którąkolwiek z poniższych właściwości: Uwaga: Pozycja 6A005.c obejmuje "lasery" tytanowo-szafirowe (Ti: Al2O3), tul — YAG (Tm: YAG), tul — YSGG (Tm: YSGG), aleksandrytowe (CR: BeAl2O4), na centrach barwnych, "lasery" barwnikowe oraz "lasery" cieczowe.
|
d) |
następujące inne "lasery", niewymienione w pozycjach 6A005.a, 6A005.b lub 6A005.c:
Uwaga: "O niepowtarzajacych się impulsach" dotyczy "laserów" wytwarzających jeden impuls wyjściowy lub "laserów", w których odcinek czasowy między impulsami wynosi powyżej jednej minuty. |
e) |
następujące elementy:
|
f) |
następujące urządzenia optyczne: NB.: Odnośnie do elementów optycznych z dzieloną aperturą, zdolnych do pracy w "laserach superwysokiej mocy", sprawdź także Wykaz uzbrojenia.
|
6A006
Następujące "magnetometry", "mierniki gradientu magnetycznego", "mierniki gradientu magnetycznego własnego", podwodne czujniki pola elektrycznego i systemy kompensacji oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy:
Uwaga: Pozycja 6A006 nie obejmuje kontrolą instrumentów specjalnie przeznaczonych do pomiarów biomagnetycznych do celów zastosowań w rybołówstwie lub diagnostyce medycznej.
a) |
następujące "magnetometry" i podukłady:
|
b) |
podwodne czujniki pola elektrycznego o "poziomie szumów" (czułości) niższym (lepszym) niż 8 nanowoltów na metr na pierwiastek kwadratowy z Hz mierzonym dla częstotliwości 1 Hz; |
c) |
następujące "mierniki gradientu magnetycznego":
|
d) |
systemy kompensacji do czujników magnetycznych lub podwodnych czujników pola elektrycznego o parametrach odpowiadających lub przewyższających parametry kontrolne dotyczące pozycji 6A006.a, 6A006.b lub 6A006.c. |
6A007
Następujące grawimetry i mierniki gradientu pola grawitacyjnego:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A107.
a) |
grawimetry zaprojektowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do pomiarów naziemnych o dokładności statycznej poniżej (lepszej niż) 10 μgal; Uwaga: Pozycja 6A007.a nie obejmuje kontrolą grawimetrów do pomiarów naziemnych z elementem kwarcowym (Wordena). |
b) |
grawimetry do stosowania na ruchomych platformach charakteryzujące się wszystkimi z poniższych parametrów:
|
c) |
mierniki gradientu pola grawitacyjnego. |
6A008
Systemy, urządzenia i zespoły radarowe o jednej z wymienionych poniżej cech charakterystycznych oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6A108.
Uwaga: Pozycja 6A008 nie obejmuje kontrolą następujących obiektów:
a) |
pomocniczych radarów kontroli rejonu (SSR); |
b) |
cywilnych radarów samochodowych; |
c) |
wyświetlaczy i monitorów stosowanych w kontroli ruchu powietrznego mających nie więcej niż 12 rozróżnialnych elementów na mm; |
d) |
radarów meteorologicznych (do kontroli pogody). |
a) |
działające w zakresie częstotliwości od 40 GHz do 230 GHz i mające jakiekolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
|
b) |
umożliwiające przestrajanie pasma częstotliwości w zakresie powyżej ±6,25 % od ’środkowej częstotliwości roboczej’; Uwaga techniczna: ’Środkowa częstotliwość robocza’ równa się połowie sumy najwyższej i najniższej nominalnej częstotliwości roboczej. |
c) |
zdolne do równoczesnego działania na dwóch lub więcej częstotliwościach nośnych; |
d) |
zdolne do działania w trybie z syntezą apertury (SAR), z odwróconą syntezą apertury (ISAR) albo jako radiolokatory pokładowe obserwacji bocznej (SLAR); |
e) |
zaopatrzone w "sterowany elektronicznie fazowany układ antenowy"; |
f) |
zdolne do określania wysokości niepowiązanych ze sobą celów; Uwaga: Pozycja 6A008.f nie obejmuje kontrolą urządzeń radiolokacyjnych dokładnej kontroli podejścia do lądowania (PAR) odpowiadających standardom ICAO. |
g) |
przeznaczone specjalnie dla lotnictwa (zainstalowane na balonach lub samolotach) i mające możliwość "przetwarzania sygnałów" dopplerowskich w celu wykrywania obiektów ruchomych; |
h) |
zdolne do przetwarzania sygnałów radiolokacyjnych następującymi technikami:
|
i) |
zapewniające działania naziemne o maksymalnym "zasięgu roboczym" powyżej 185 km; Uwaga: Pozycja 6A008.i nie obejmuje kontrolą:
|
j) |
radary "laserowe" lub optyczne (LIDAR-y), mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:
Uwaga: Pozycja 6A008.j. nie obejmuje kontrolą urządzeń LIDAR-owych specjalnie przeznaczonych do badań lub do obserwacji meteorologicznych. |
k) |
wyposażone w podukłady do "przetwarzania sygnałów" techniką "kompresji impulsów" mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:
|
l) |
wyposażone w podukłady do przetwarzania danych umożliwiające realizację jednej z poniższych funkcji:
|
6A102
’Detektory’ zabezpieczone przed promieniowaniem, różne od wymienionych w pozycji 6A002, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do ochrony przed skutkami wybuchów jądrowych (np. impulsów elektromagnetycznych (EMP), promieniowania rentgenowskiego, kombinowanych efektów podmuchu i udaru termicznego) i znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych", skonstruowane lub przystosowane w taki sposób, że są w stanie wytrzymać łączną dawkę promieniowania o wartości 5 × 105 radów (Si).
Uwaga techniczna:
W pozycji 6A102 przez pojęcie detektora należy rozumieć urządzenie mechaniczne, elektryczne, optyczne lub chemiczne, do automatycznej identyfikacji i rejestracji takich bodźców, jak zmiany warunków otoczenia, np. ciśnienie lub temperatura, sygnał elektryczny lub elektromagnetyczny albo promieniowanie materiału radioaktywnego. Obejmuje to urządzenia, które wykrywają bodziec poprzez jednorazowe zadziałanie albo uszkodzenie się.
6A107
Następujące grawimetry i podzespoły do mierników grawitacji i mierników gradientu pola grawitacyjnego:
a) |
grawimetry różne od wymienionych w pozycji 6A007.b, zaprojektowane lub zmodyfikowane do stosowania w lotnictwie lub w warunkach morskich, mające dokładność statyczną lub eksploatacyjną (roboczą) równą lub niższą (lepszą) niż 7 × 10–6 m/s2 (0,7 miligala) przy czasie do ustalenia warunków rejestracji równym lub krótszym od 2 minut; |
b) |
specjalnie zaprojektowane podzespoły do grawimetrów wymienionych w pozycjach 6A007.b lub 6A107.a oraz do mierników gradientu pola grawitacyjnego wymienionych w pozycji 6A007.c. |
6A108
Następujące instalacje radarowe i śledzące, różne od wymienionych w pozycji 6A008:
a) |
instalacje radarowe lub laserowe przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; Uwaga: Pozycja 6A108.a obejmuje następujące obiekty:
|
b) |
następujące precyzyjne instalacje do śledzenia torów obiektów, znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych":
|
6A202
Lampy fotopowielaczowe mające wszystkie następujące cechy:
a) |
powierzchnię fotokatody powyżej 20 cm2; oraz |
b) |
czas narastania impulsu katody poniżej 1 ns. |
6A203
Następujące kamery filmowe i ich podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 6A003:
a) |
następujące kamery z wirującym zwierciadłem napędzanym mechanicznie oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:
Uwaga: W pozycji 6A203.a do podzespołów kamer tego typu zalicza się specjalnie skonstruowane elektroniczne elementy synchronizujące oraz specjalne zespoły wirników składające się z turbinek, zwierciadeł i łożysk. |
b) |
następujące elektroniczne kamery i lampy smugowe i obrazowe:
|
c) |
kamery telewizyjne zabezpieczone przed promieniowaniem oraz soczewki do nich, skonstruowane lub przystosowane w taki sposób, że są w stanie wytrzymać promieniowanie o natężeniu powyżej 50 × 103 Gy (Si) [5 × 106 rad (Si)] bez pogorszenia własności eksploatacyjnych, oraz specjalnie do nich przeznaczone soczewki. Uwaga techniczna: Termin Gy(silikon) odnosi się do energii w Jooulach na kilogram wchłoniętej przez nieosłoniętą próbkę krzemową po wystawieniu na działanie promieniowania jonizującego. |
6A205
Następujące "lasery", wzmacniacze "laserowe" i oscylatory, różne od wymienionych w pozycjach 0B001.g.5, 0B001.h.6 i 6A005:
a) |
lasery na jonach argonu mające obydwie wymienione cechy:
|
b) |
przestrajalne, impulsowe oscylatory na laserach barwnikowych pracujące w trybie pojedynczym, mające wszystkie następujące cechy:
|
c) |
przestrajalne, impulsowe wzmacniacze i oscylatory na laserach barwnikowych, mające wszystkie następujące cechy:
Uwaga: Pozycja 6A205.c nie obejmuje oscylatorów pracujących w trybie pojedynczym. |
d) |
impulsowe "lasery" na dwutlenku węgla, mające wszystkie następujące cechy:
|
e) |
przekształtniki na parawodorze działające w paśmie Ramana, przeznaczone do pracy na fali 16-mikrometrowej z częstotliwością powtarzania powyżej 250 Hz; |
f) |
"lasery" domieszkowane neodymem (inne niż na szkle), o wyjściowej długości fali powyżej 1 000 nm i poniżej 1 100 nm, mające którykolwiek z poniższych parametrów:
|
6A225
b Interferometry do pomiaru prędkości w zakresie powyżej 1 km/s w odstępach czasowych poniżej 10 mikrosekund.
Uwaga: Pozycja 6A225 obejmuje doplerowskie interferometry laserowe, jak VISAR-y, DLI itp.
6A226
Następujące czujniki ciśnienia:
a) |
czujniki wykonane z manganinu z przeznaczeniem do pomiaru ciśnień powyżej 10 GPa; lub |
b) |
kwarcowe przetworniki ciśnień do pomiarów ciśnień powyżej 10 GPa. |
6B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
6B004
Następujące urządzenia optyczne:
a) |
urządzenia do pomiaru absolutnego współczynnika odbicia z dokładnością ±0,1 % wartości odbicia; |
b) |
urządzenia różne od optycznych urządzeń do pomiaru rozpraszania powierzchni, mające nieprzysłoniętą aperturę o wielkości powyżej 10 cm, specjalnie przeznaczone do bezstykowych pomiarów optycznych figur o przestrzennych (nieplanarnych) powierzchniach optycznych (profili) z "dokładnością" 2 nm lub większą (lepszą) na danym profilu. |
Uwaga: Pozycja 6B004 nie obejmuje kontrolą mikroskopów.
6B007
Urządzenia do produkcji, strojenia i wzorcowania grawimetrów lądowych o dokładności statycznej lepszej niż 0,1 miligal.
6B008
Systemy do impulsowych pomiarów radarowego przekroju czynnego o szerokościach impulsu przesyłowego 100 ns lub mniejszych oraz specjalnie dla nich przeznaczone elementy.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 6B108.
6B108
Systemy specjalnie przeznaczone do pomiarów radarowego przekroju czynnego znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych" i ich podzespołach, różne od wymienionych w pozycji 6B008.
Uwaga techniczna:
W pozycji 6B108 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.
6C
Materiały
6C002
Następujące materiały do czujników optycznych:
a) |
tellur pierwiastkowy (Te) o poziomie czystości równym lub wyższym niż 99,9995 %; |
b) |
pojedyncze kryształy następujących substancji (włącznie z epitaksjalnymi płytkami):
Uwaga techniczna: ’Ułamek molowy’ definiowany jest jako stosunek moli ZnTe do sumy moli CdTe i ZnTe znajdujących się w krysztale. |
6C004
Następujące materiały optyczne:
a) |
"półprodukty podłoży" z selenku cynku (ZnSe) i siarczku cynku (ZnS) wytwarzane techniką osadzania z par lotnych, mające jedną z następujących właściwości:
|
b) |
kęsy następujących materiałów elektrooptycznych:
|
c) |
nieliniowe materiały optyczne o następujących parametrach:
|
d) |
"półprodukty podłoży" z osadzonym węglikiem krzemu lub beryl-beryl (Be/Be) o średnicy lub długości osi głównej powyżej 300 mm; |
e) |
szkło, włącznie ze stopioną krzemionką, szkło fosforanowe, fluorofosforanowe, z fluorku cyrkonu (ZrF4) i fluorku hafnu (HfF4) mające wszystkie z następujących właściwości:
|
f) |
wytwarzany syntetycznie materiał diamentowy o współczynniku pochłaniania poniżej 10–5 cm-1 dla fal o długościach powyżej 200 nm, ale nie dłuższych niż 14 000 nm. |
6C005
Następujące półprodukty do "laserów" na kryształach syntetycznych:
a) |
szafir domieszkowany tytanem; |
b) |
aleksandryt. |
6D
Oprogramowanie
6D001
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń objętych kontrolą według pozycji 6A004, 6A005, 6A008 lub 6B008.
6D002
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "użytkowania" urządzeń objętych kontrolą według pozycji 6A002.b, lub 6A008 lub 6B008.
6D003
Następujące inne oprogramowanie:
a) |
|
b) |
|
c) |
"oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do korygowania wpływu oddziaływań związanych z ruchem na grawimetry i mierniki gradientu pola grawitacyjnego; |
d) |
|
6D102
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane do "użytkowania""wyrobów" wymienionych w pozycji 6A108.
6D103
"Oprogramowanie" do obróbki (po zakończeniu lotu) danych zebranych podczas lotu, umożliwiające określenie położenia pojazdu w każdym punkcie toru jego lotu, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane dla "pocisków rakietowych".
Uwaga techniczna:
"Pocisk rakietowy" w pozycji 6D103 odnosi się do kompletnych systemów rakietowych i bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.
6E
Technologia
6E001
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" urządzeń, materiałów lub "oprogramowania" objętych kontrolą według pozycji 6A, 6B, 6C lub 6D.
6E002
"Technologie" według uwagi ogólnej do technologii do "produkcji" urządzeń lub materiałów objętych kontrolą według pozycji 6A, 6B lub 6C.
6E003
Następujące inne technologie:
a) |
|
b) |
"technologie""niezbędne" do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" specjalnie zaprojektowanych instrumentów diagnostycznych lub obiektów w urządzeniach testujących specjalnie przeznaczonych do testowania instalacji "urządzeń laserowych bardzo wysokiej mocy" (SHPL) albo testowania lub oceny materiałów napromienionych wiązką z tych systemów; |
6E101
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" urządzeń lub "oprogramowania" objętych kontrolą według pozycji 6A002, 6A007.b i c, 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 lub 6D103.
Uwaga: Pozycja 6E101 obejmuje wyłącznie "technologie" do urządzeń wymienionych w pozycji 6A008 w razie jej przeznaczenia do stosowania w lotnictwie i możliwości zastosowania w "pociskach rakietowych".
6E201
"Technologie" według uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" urządzeń wymienionych w pozycjach 6A003, 6A005.a.1.c, 6A005.a.2.a, 6A005.c.1.b, 6A005.c.2.c.2, 6A005.c.2.d.2.b, 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 lub 6A226.
KATEGORIA 7
NAWIGACJA I AWIONIKA
7A
Systemy, urządzenia i części:
NB.: W przypadku automatycznych pilotów do pływających jednostek podwodnych sprawdź także kategorię 8.
W przypadku radarów sprawdź także kategorię 6.
7A001
Następujące przyspieszeniomierze i specjalnie zaprojektowane do nich podzespoły:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A101.
a) |
przyspieszeniomierze liniowe mające którąkolwiek z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
b) |
przyspieszeniomierze kątowe lub obrotowe przeznaczone do działania w warunkach przyspieszeń liniowych o wartościach na poziomie wyższym niż 100 g. |
7A002
Żyroskopy czujniki prędkości kątowej, mające którąkolwiek z wymienionych poniżej cech charakterystycznych, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A102.
NB.: Dla przyspieszeniomierzy kątowych i obrotowych sprawdź także pozycję 7A001.b.
a) |
"stabilność""współczynnika dryftu", mierzona w warunkach przyspieszenia równego 1 g w okresie jednego miesiąca i w odniesieniu do ustalonej wartości wzorcowej wynoszącej mniej (lepiej) niż 0,5° na godzinę w przypadku przeznaczenia do ciągłego działania w warunkach przyspieszenia liniowego do 100 g włącznie; |
b) |
"kąt błądzenia losowego" mniejszy (lepszy) lub równy 0,0035° na pierwiastek kwadratowy godziny; lub Uwaga: 7A002.b nie kontroluje żyroskopów wirujących (są to żyroskopy wykorzystujące stale obracającą się masę do wykrywania ruchu obrotowego). |
c) |
zakres pomiaru większy lub równy 500° na sekundę i mający którąkolwiek z niżej wymienionych cech charakterystycznych:
|
d) |
przeznaczenie do działania w warunkach przyspieszeń liniowych o wartościach na poziomie powyżej 100 g. |
7A003
Inercyjne systemy nawigacji i specjalnie zaprojektowane do nich podzespoły:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A103.
a) |
inercyjne systemy nawigacji (INS) (z zawieszeniem kardanowym lub innym) i urządzenia bezwładnościowe, przeznaczone dla "statków powietrznych", pojazdów lądowych lub "statków kosmicznych" do pomiarów wysokości, naprowadzania lub sterowania oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły, mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
b) |
hybrydowe systemy nawigacyjnie wbudowane w Globalne Satelitarne Systemy Nawigacyjne (GNSS) lub współpracujące z systemami "Nawigacji opartej na danych z bazy danych" ("DBRN") do pomiarów wysokości, naprowadzania lub sterowania, po normalnym zestrojeniu, cechujące się dokładnością pozycyjną nawiganci INS, po utracie kontaktu z GNSS lub "DBRN" przez okres do czterech minut, mniejszy (lepszy) niż 10 metrów "Koło Równego Prawdopodobieństwa" (CEP); |
c) |
inercyjne urządzenia do wyznaczania azymutu, naprowadzania lub wskazywania północy, mające jedną z poniższych właściwości, oraz specjalnie do nich zaprojektowane zespoły:
|
d) |
inercyjne urządzenia pomiarowe, w tym inercyjne jednostki pomiarowe (IMU) i inercyjne systemy odniesienia (IRS), obejmujące przyspieszeniomierze lub żyroskopy określone w pozycjach 7A001 i 7A002 i specjalnie zaprojektowane do nich podzespoły. |
Uwaga 1: Parametry pozycji 7A003.a mają zastosowanie wraz z jednym z poniższych warunków środowiskowych:
1) |
wejściowe drgania przypadkowe o całkowitej wielkości średniej kwadratowej 7,7 g przez pierwsze pół godziny oraz ogólny czas trwania testu 1,5 godziny na każdą z trzech prostopadłych osi, gdy drgania przypadkowe spełniają następujące warunki:
|
2) |
przechylenie i odchylenie równe lub większe niż +2,62 radian/s (150 deg/s); lub |
3) |
zgodnie z normami krajowymi równoważnych dla 1 lub 2 powyżej. |
Uwaga 2: Pozycja 7A003 nie obejmuje kontrolą inercyjnych systemów nawigacyjnych certyfikowanych do stosowania w "cywilnych statkach powietrznych" przez władze cywilne "państwa uczestniczącego".
Uwaga 3: Pozycja 7A003.c.1 nie obejmuje kontrolą systemów teodolitowych zawierających urządzenia inercyjne specjalnie przeznaczone do cywilnych zastosowań badawczych.
Uwagi techniczne:
1. |
Pozycja 7A003.b odnosi się do systemów, w których INS lub inne niezależne pomoce nawigacyjne są wbudowane w jeden zespół w celu uzyskania poprawy parametrów. |
2. |
’Krąg równego prawdopodobieństwa’ (CEP) (7) — w kołowym rozkładzie normalnym, promień okręgu zawierającego 50-procent poszczególnych wyników pomiarów albo promień okręgu, w którym występuje 50-procentowe prawdopodobieństwo. |
7A004
Żyro-astrokompasy i inne urządzenia umożliwiające określanie położenia lub orientację przestrzenną za pomocą automatycznego śledzenia ciał niebieskich lub satelitów, o dokładności azymutowej równej 5 sekund kątowych lub mniej (lepszej niż).
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A104.
7A005
Urządzenia odbiorcze globalnych satelitarnych systemów nawigacji (np. GPS lub GLONASS) mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A105.
a) |
wyposażenie w systemy dekodujące; lub |
b) |
wyposażenie w samoczynnie nastawne anteny. |
7A006
Wysokościomierze lotnicze działające poza pasmem częstotliwości od 4,2 do 4,4 GHz włącznie, mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7A106.
a) |
"sterowanie mocą"; lub |
b) |
wyposażenie w zespoły do modulacji z przesunięciem fazy. |
7A008
Systemy sonarowe do nawigacji podwodnej, posługujące się logami dopplerowskimi lub logami korelacyjnymi zintegrowane z czujnikiem kierunku, mające dokładność pozycjonowania równą lub mniejszą (lepszą) niż 3 % przebytej odległości kręgu równego prawdopodobieństwa (CEP) oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.
Uwaga: Pozycja 7A008 nie obejmuje kontrolą systemów specjalnie zaprojektowanych do zainstalowania na statkach nawodnych lub systemów wymagających pław lub boi akustycznych do dostarczania danych pozycyjnych.
NB.: Patrz pozycja 6A001.a dla systemów akustycznych oraz pozycja 6A001.b. dla urządzeń sonarowych z logami korelacyjnymi. Patrz: pozycja 8A002 dla innych systemów okrętowych.
7A101
Przyspieszeniomierze, różne od wymienionych w pozycji 7A001, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:
a) |
przyspieszeniomierze liniowe przeznaczone do stosowania w inercyjnych systemach nawigacyjnych lub w dowolnego typu systemach naprowadzania nadających się do zastosowania w ’pociskach rakietowych’, mające wszystkie z poniższych cech, oraz specjalnie do nich zaprojektowane zespoły:
Uwaga: Pozycja 7A101.a nie dotyczy przyspieszeniomierzy specjalnie przeznaczonych i opracowanych jako czujniki MWD (Measurement While Drilling — pomiar podczas wiercenia) stosowanych podczas prac wiertniczych. Uwagi techniczne:
|
b) |
przyspieszeniomierze z wyjściem ciągłym przeznaczone do pracy przy poziomach przyspieszenia przekraczających 100 g. |
7A102
Wszystkie typy żyroskopów, różne od wymienionych w pozycji 7A002, nadające się do stosowania w ’pociskach rakietowych’, o ’stabilności’"współczynnika dryftu" poniżej 0,5° (1 sigma lub średnia kwadratowa) na godzinę w warunkach przyspieszenia 1 g oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.
Uwagi techniczne:
1. |
W pozycji 7A102 ’pocisk rakietowy’ oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km. |
2. |
W pozycji 7A102 ’stabilność’ jest zdefiniowana jako miara zdolności określonego mechanizmu lub współczynnika osiągu, która pozostaje niezmienna w stałym warunku roboczym (IEEE STD 528–2001 ust. 2.247). |
7A103
Następujące instrumenty, urządzenia i systemy nawigacyjne, różne od wymienionych w pozycji 7A003, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:
a) |
urządzenia inercyjne lub inne, w których zastosowano przyspieszeniomierze wymienione w pozycjach 7A001, 7A101 lub żyroskopy wymienione w pozycjach 7A002, 7A102, oraz systemy, w których znajdują się urządzenia tego typu; Uwaga: Pozycja 7A103.a nie dotyczy urządzeń zawierających przyspieszeniomierze wyspecyfikowane w pozycji 7A001 oraz przeznaczone i opracowane jako czujniki MWD (Measurement While Drilling — pomiar podczas wiercenia) stosowane podczas prac wiertniczych. |
b) |
zintegrowane systemy samolotowych przyrządów pokładowych zawierające stabilizatory żyroskopowe lub automatycznego pilota, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania ’pociskach rakietowych’; |
c) |
’zintegrowane systemy nawigacyjne’ przeznaczone lub zmodyfikowane do zastosowania w ’pociskach rakietowych’ i zdolne do zapewniania dokładności nawigacyjnej dla kręgu równego prawdopodobieństwa (CEP) wynoszącej 200 m lub mniej. Uwaga techniczna: W skład ’zintegrowanego systemu nawigacyjnego’ zazwyczaj wchodzą następujące elementy składowe:
|
d) |
trójosiowe magnetyczne czujniki kursowe, zaprojektowane lub zmodyfikowane w celu ich zintegrowania z systemami sterowania lotem i systemami nawigacji, mające wszystkie poniższe cechy charakterystyczne, oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły:
Uwaga: Systemy sterowania lotem i systemy nawigacji w pozycji 7A103.d obejmują stabilizatory żyroskopowe, automatycznego pilota oraz inercyjne systemy nawigacji. |
Uwaga techniczna:
W pozycji 7A103 ’pocisk rakietowy’ oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.
7A104
Żyro-astrokompasy i inne urządzenia, różne od wymienionych w pozycji 7A004, umożliwiające określanie położenia lub orientację przestrzenną za pomocą automatycznego śledzenia ciał niebieskich lub satelitów oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.
7A105
Urządzenia odbiorcze Globalnego Satelitarnego Systemu Nawigacji (GNSS; np. GPS, GLONASS lub Galileo) oraz specjalnie przeznaczone do nich zespoły, o następujących właściwościach:
a) |
przeznaczone lub zmodyfikowane do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; lub |
b) |
przeznaczone lub zmodyfikowane do zastosowań lotniczych i mające następujące parametry:
Uwaga: Pozycje 7A105.b.2 i 7A105b.3 nie obejmują kontrolą urządzeń przeznaczonych do komercyjnego, cywilnego lub ratunkowego dostępu do GNSS (np. integracja danych, bezpieczeństwo lotów). |
7A106
Wysokościomierze, różne od wymienionych w pozycji 7A006, typu radarowego lub laserowego, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.
7A115
Pasywne czujniki do określania namiaru na określone źródła fal elektromagnetycznych (namierniki) lub właściwości terenu, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104.
Uwaga: Pozycja 7A115 obejmuje czujniki do następujących urządzeń:
a) |
do zobrazowania (mapowania) rzeźby terenu; |
b) |
czujniki do tworzenia obrazów (zobrazowania) (aktywne i pasywne); |
c) |
interferometry pasywne. |
7A116
Następujące systemy sterowania lotem i serwozawory, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104:
a) |
hydrauliczne, mechaniczne, elektrooptyczne lub elektromechaniczne systemy sterowania lotem (w tym systemy typu ’fly-by-wire’); |
b) |
urządzenia do sterowania wysokością; |
c) |
serwozawory do sterowania lotem przeznaczone lub zmodyfikowane do systemów określonych w pozycjach 7A116.a lub 7A116.b, oraz przeznaczone lub zmodyfikowane do działania w środowisku wibracyjnym o parametrach powyżej 10 g (wartość średnia kwadratowa) pomiędzy 20 Hz i 2 kHz. |
7A117
"Instalacje do naprowadzania" znajdujące zastosowanie w "pociskach rakietowych" umożliwiające uzyskanie dokładności instalacji 3,33 % zasięgu lub lepszej (np. "CEP" [Krąg Równego Prawdopodobieństwa] 10 km lub mniej w zasięgu 300 km).
7B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
7B001
Urządzenia do testowania, wzorcowania lub strojenia specjalnie przeznaczone do urządzeń objętych kontrolą według pozycji 7A.
Uwaga: Pozycja 7B001 nie obejmuje kontrolą urządzeń do testowania, wzorcowania lub strojenia specjalnie przeznaczonych do I i II Poziomu Obsługi.
Uwagi techniczne:
1. |
Poziom Obsługi I Wykrycie awarii urządzenia nawigacji inercyjnej w samolocie i jej sygnalizowanie przez Jednostkę Sterowania i Wyświetlania (CDU) albo komunikat statusowy z odpowiedniego podukładu. Na podstawie instrukcji producenta można zlokalizować przyczyny awarii na poziomie wadliwego funkcjonowania liniowego elementu wymiennego (LRU). Następnie operator demontuje LRU i zastępuje go częścią zapasową. |
2. |
Poziom Obsługi II Uszkodzony LRU przekazuje się do warsztatu technicznego (u producenta lub operatora odpowiedzialnego za obsługę techniczną na Poziomie II). W warsztacie technicznym LRU poddaje się testom za pomocą różnych, odpowiednich do tego urządzeń, w celu sprawdzenia i lokalizacji uszkodzonego modułu warsztatowego zespołu wymiennego (SRA) odpowiedzialnego za awarię. Następnie demontuje się wadliwy SRA i zastępuje go zespołem zapasowym. Uszkodzony SRA (albo też kompletny LRU) wysyła się do producenta.NB.: Na Poziomie Obsługi II nie przewiduje się demontażu z SRA przyspieszeniomierzy ani też czujników żyroskopowych objętych kontrolą. |
7B002
Następujące urządzenia specjalnie przeznaczone do określania parametrów zwierciadeł do pierścieniowych żyroskopów "laserowych":
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 7B102.
a) |
urządzenia do pomiaru rozproszenia z dokładnością do 10 ppm lub mniej (lepszą); |
b) |
profilometry o dokładności pomiarowej 0,5 nm (5 angstremów) lub mniej (lepszej). |
7B003
Urządzenia specjalnie przeznaczone do "produkcji" urządzeń ujętych w pozycji 7A.
Uwaga: Pozycja 7B003 obejmuje:
a) |
stanowiska testowe do regulacji żyroskopów; |
b) |
stanowiska do dynamicznego wyważania żyroskopów; |
c) |
stanowiska do testowania silniczków do żyroskopów; |
d) |
stanowiska do usuwania powietrza i napełniania żyroskopów; |
e) |
uchwyty odśrodkowe do łożysk do żyroskopów; |
f) |
stanowiska do regulacji pozycji osi przyspieszeniomierzy; |
g) |
nawijarki zwojów do światłowodów. |
7B102
Reflektometry specjalnie przeznaczone do wyznaczania charakterystyk zwierciadeł do żyroskopów "laserowych", mające dokładność pomiarową 50 ppm lub mniej (lepszą).
7B103
Następujące "instalacje produkcyjne" i "urządzenia produkcyjne":
a) |
specjalnie zaprojektowane "instalacje produkcyjne" do urządzeń wymienionych w pozycji 7A117; |
b) |
urządzenia produkcyjne i inne urządzenia do testowania, wzorcowania lub strojenia, różne od wymienionych w pozycjach 7B001 do 7B003, zaprojektowane lub zmodyfikowane do urządzeń wymienionych w pozycji 7A. |
7C
Materiały
Żadne.
7D
Oprogramowanie
7D001
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycji 7A lub 7B.
7D002
"Kod źródłowy" do "użytkowania" wszelkich urządzeń do nawigacji inercyjnej lub Układów Informujących o Położeniu i Kursie (AHRS) włącznie z inercyjnymi urządzeniami niewymienionymi w pozycji 7A003 lub 7A004.
Uwaga: Pozycja 7D002 nie obejmuje kontrolą "kodów źródłowych" do "użytkowania" zawieszonych kardanowo układów AHRS.
Uwaga techniczna:
Układy AHRS w istotny sposób różnią się od inercyjnych systemów nawigacji (INS), ponieważ układy te (AHRS) dostarczają podstawowych informacji o położeniu i kursie, i zazwyczaj nie dostarczają informacji o przyspieszeniu, prędkości i położeniu, jakich dostarcza układ INS.
7D003
Następujące inne "oprogramowanie":
a) |
"oprogramowanie" specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane w celu poprawy parametrów eksploatacyjnych lub zmniejszenia błędów nawigacyjnych systemów do poziomu określonego w pozycjach 7A003, 7A004 lub 7A008; |
b) |
"kod źródłowy" do hybrydowych układów scalonych poprawiający parametry eksploatacyjne lub zmniejszający błędy nawigacyjne systemu do poziomu określonego w pozycji 7A003 lub 7A008 poprzez ciągłą syntezę danych dotyczących kursu z następującymi danymi:
|
c) |
"kod źródłowy" do zintegrowanych systemów awionicznych lub systemów realizacji zadań bojowych, umożliwiający wykorzystywanie danych z czujników oraz "systemów eksperckich"; |
d) |
"kod źródłowy" do "rozwoju" jednego z poniżej wymienionych:
|
e) |
"oprogramowanie" do komputerowo wspomaganego projektowania (CAD), specjalnie opracowane do "rozwoju""układów aktywnego sterowania lotem" sterowników helikopterowych wieloosiowych systemów sterowania elektronicznego i światłowodowego lub helikopterowych "cyrkulacyjnych układów równoważenia momentu lub cyrkulacyjnych układów sterowania kierunkiem", których technologie są wyspecyfikowane w pozycjach 7E004.b, 7E004.c.1 lub 7E004.c.2. |
7D101
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "użytkowania" urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A006, 7A101 do 7A106, 7A115, 7A116.a, 7A116.b, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102 lub 7B103.
7D102
"Oprogramowanie" scalające, jak następuje:
a) |
"oprogramowanie" scalające do urządzeń wymienionych w pozycji 7A103.b; |
b) |
"oprogramowanie" scalające specjalnie zaprojektowane do urządzeń wymienionych w pozycjach 7A003 lub 7A103.a; |
c) |
"oprogramowanie" scalające specjalnie zaprojektowane do urządzeń wymienionych w pozycji 7A103. Uwaga: Powszechnie spotykaną postacią "oprogramowania" scalającego jest filtrowanie Kalmana. |
7D103
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do modelowania lub symulowania działania "instalacji do naprowadzania" wymienionych w pozycji 7A117 lub do ich integrowania konstrukcyjnego z kosmicznymi pojazdami nośnymi wymienionymi w pozycji 9A004 lub z rakietami meteorologicznymi wymienionymi w pozycji 9A104.
Uwaga: "Oprogramowanie" wymienione w pozycji 7D103 podlega kontroli, jeśli jest przeznaczone specjalnie do sprzętu wymienionego w pozycji 4A102.
7E
Technologie
7E001
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" urządzeń lub "oprogramowania" wymienionych w pozycjach 7A, 7B lub 7D.
7E002
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycjach 7A lub 7B.
7E003
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do naprawy, regeneracji lub remontowania urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A004.
Uwaga: Pozycja 7E003 nie obejmuje kontrolą "technologii" obsługi technicznej bezpośrednio związanych z wzorcowaniem, usuwaniem lub wymianą uszkodzonych lub nienadających się do użytku liniowych elementów wymiennych (LRU) i warsztatowych zespołów wymiennych (SRA) w "cywilnych statkach powietrznych" zgodnie z opisem w I lub w II Poziomie Obsługi.
NB.: Patrz uwagi techniczne do 7B001.
7E004
Następujące inne "technologie":
a) |
technologie do "rozwoju" lub "produkcji":
|
b) |
następujące technologie "rozwoju""aktywnych systemów sterowania lotem" włącznie z systemami elektronicznymi lub światłowodowymi) do:
|
c) |
następujące "technologie" do "rozwoju" systemów do śmigłowców:
|
7E101
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" urządzeń wymienionych w pozycjach 7A001 do 7A006, 7A101 do 7A106, 7A115 do 7A117, 7B001, 7B002, 7B003, 7B102, 7B103, 7D101 do 7D103.
7E102
Następujące "technologie" do zabezpieczania podzespołów awioniki i elektrycznych przed impulsem elektromagnetycznym (EMP) i zagrożeniem zakłóceniami elektromagnetycznymi ze źródeł zewnętrznych:
a) |
"technologie" projektowania ekranowania; |
b) |
"technologie" projektowania dla konfigurowania odpornych obwodów elektrycznych i podukładów; |
c) |
"technologie" projektowania dla wyznaczania kryteriów uodporniania w odniesieniu do technologii wymienionych powyżej w pozycjach 7E102.a i 7E102.b. |
7E104
"Technologie" scalania danych z systemów sterowania lotem, naprowadzania i napędu w system zarządzania lotem w celu optymalizacji toru lotu rakiet.
KATEGORIA 8
URZĄDZENIA OKRĘTOWE
8A
Systemy, urządzenia i części
8A001
Następujące pływające jednostki podwodne lub nawodne:
Uwaga: Poziom kontroli urządzeń do pojazdów podwodnych określono w następujących pozycjach:
— |
kategoria 5, część 2 "Ochrona informacji" — w zakresie szyfrujących urządzeń komunikacyjnych, |
— |
kategoria 6 — w zakresie czujników, |
— |
kategoria 7 i 8 — w zakresie urządzeń nawigacyjnych, |
— |
kategoria 8.A — w zakresie urządzeń podwodnych. |
a) |
załogowe pojazdy podwodne na uwięzi, przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1 000 m; |
b) |
załogowe, swobodne pojazdy podwodne, mające jedną z poniższych cech:
Uwagi techniczne:
|
c) |
bezzałogowe pojazdy podwodne na uwięzi przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1 000 m, mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:
|
d) |
bezzałogowe pojazdy podwodne bez uwięzi (swobodne), mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:
|
e) |
oceaniczne urządzenia ratownicze o nośności powyżej 5 MN przeznaczone do ratowania obiektów z głębokości większych niż 250 m i mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
f) |
pojazdy na poduszce powietrznej (odmiana z pełnym fartuchem bocznym), mające wszystkie wymienione poniżej cechy charakterystyczne:
|
g) |
pojazdy na poduszce powietrznej (odmiana ze sztywnymi burtami) o maksymalnej prędkości obliczeniowej z pełnym obciążeniem powyżej 40 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej; |
h) |
wodoloty wyposażone w aktywne systemy automatycznego sterowania położeniem płatów nośnych, o maksymalnej prędkości obliczeniowej z pełnym obciążeniem równej lub wyższej od 40 węzłów przy falach o wysokości 3,25 m (stan morza 5) lub większej; |
i) |
’jednostki pływające o małym polu przekroju wodnicowego’ mające jedną z poniższych cech charakterystycznych:
Uwaga techniczna: ’Jednostkę pływającą o małym polu przekroju wodnicowego’ definiuje się według następującego wzoru: pole przekroju wodnicowego przy konstrukcyjnym zanurzeniu eksploatacyjnym mniejsze od 2 × (wyparta objętość przy konstrukcyjnym zanurzeniu eksploatacyjnym)2/3. |
8A002
Następujące układy, urządzenia i elementy składowe:
Uwaga: Podwodne instalacje telekomunikacyjne ujęto w kategorii, 5 część 1 — Telekomunikacja.
a) |
następujące systemy, urządzenia i elementy składowe, specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do pojazdów podwodnych, przeznaczone do działania na głębokościach większych niż 1 000 m:
Uwaga techniczna: Cel tej kontroli nie powinien zostać zakłócony przez wywóz pianki syntaktycznej wyszczególnionej w pozycji 8C001 po zakończeniu pośredniego etapu produkcji, kiedy pianka ta nie ma jeszcze formy ostatecznego elementu składowego. |
b) |
systemy specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do automatycznego sterowania ruchem urządzeń do pojazdów podwodnych objętych kontrolą według pozycji 8A001, korzystające z danych nawigacyjnych i wyposażone w serwomechanizmy sterujące ze sprzężeniem zwrotnym w celu umożliwienia pojazdowi:
|
c) |
penetratory światłowodowe do kadłubów lub łączniki; |
d) |
następujące podwodne systemy wizyjne:
|
e) |
aparaty fotograficzne specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą, na głębokościach poniżej 150 m, na błony filmowe formatu 35 mm lub większego, mające jedną z poniższych cech:
|
f) |
elektroniczne systemy tworzenia obrazów, specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą, mające możliwość zapamiętania w postaci cyfrowej ponad 50 naświetlonych obrazów; Uwaga: Pozycja 8A002.f nie obejmuje kontrolą kamer cyfrowych specjalnie zaprojektowanych do użytku konsumentów, z wyjątkiem wykorzystujących elektroniczne techniki zwielokrotniania obrazu. |
g) |
następujące instalacje oświetleniowe, specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania pod wodą:
|
h) |
"roboty" (manipulatory) specjalnie przeznaczone do pracy pod wodą, zarządzane za pomocą dedykowanego komputera, mające jedną z poniższych cech:
|
i) |
zdalnie sterowane manipulatory przegubowe specjalnie przeznaczone albo zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w pojazdach podwodnych i mające jedną z wymienionych poniżej cech charakterystycznych:
|
j) |
następujące układy napędowe niezależne od dopływu powietrza, specjalnie przeznaczone do działania pod wodą:
|
k) |
następujące fartuchy boczne poduszkowców, uszczelnienia i inne elementy montażowe:
|
l) |
dmuchawy nośne o mocy nominalnej powyżej 400 kW, specjalnie przeznaczone do pojazdów na poduszce powietrznej objętych kontrolą według pozycji 8A001.f lub 8A00.1.g; |
m) |
pracujące w całkowitym zanurzeniu podkawitacyjne lub superkawitacyjne płaty wodne specjalnie przeznaczone do jednostek pływających objętych kontrolą według pozycji 8A001.h; |
n) |
układy aktywne specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do automatycznej kompensacji wywołanych działaniem wody ruchów jednostek pływających lub pojazdów objętych kontrolą według pozycji 8A001.f, 8A001.g, 8A001.h lub 8A001.i; |
o) |
następujące pędniki, układy przenoszenia napędu, generatory mocy i układy tłumienia szumów:
|
p) |
strugowodne układy napędowe o mocy wyjściowej powyżej 2,5 MW, w których, w celu poprawy sprawności napędu lub zmniejszenia rozchodzącego się pod wodą wytworzonego dźwięku, pochodzącego z układu napędowego, zastosowano dysze rozbieżne oraz łopatki kierujące przepływem; |
q) |
niezależne aparaty do nurkowania i pływania podwodnego o zamkniętym lub półzamkniętym obiegu. Uwaga: Pozycja 8A002.q nie obejmuje kontrolą aparatów indywidualnych, kiedy towarzyszą one użytkownikowi do jego osobistego użytku. |
8B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
8B001
Tunele wodne o szumie tła poniżej 100 dB (odpowiednik 1 mikropaskala, 1 Hz) w paśmie częstotliwości od 0 do 500 Hz, przeznaczone do pomiaru pól akustycznych wytwarzanych przez przepływy cieczy wokół modeli układów napędowych.
8C
Materiały
8C001
’Pianka syntaktyczna’ (porowata) do użytku pod wodą mająca obie poniższe cechy:
NB.: PATRZ RÓWNIEŻ POZYCJA 8A002.a.4.
a) |
przeznaczenie do stosowania na głębokościach większych niż 1 000 m; oraz |
b) |
gęstość mniejszą niż 561 kg/m3. |
Uwaga techniczna:
’Pianka syntaktyczna’ składa się z pustych w środku kuleczek z tworzywa sztucznego lub szkła osadzonych w matrycy z żywicy.
8D
Oprogramowanie
8D001
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" urządzeń lub materiałów objętych kontrolą według pozycji 8A, 8B lub 8C.
8D002
"Oprogramowanie" specjalne, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji", napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej obróbki skrawaniem) śrub, specjalnie w celu tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów.
8E
Technologie
8E001
Technologie według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" urządzeń lub materiałów objętych kontrolą według pozycji 8A, 8B lub 8C.
8E002
Następujące inne technologie:
a) |
technologie do "rozwoju", "produkcji", napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej obróbki skrawaniem) śrub specjalnie w celu tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów; |
b) |
technologie do remontów lub modyfikacji urządzeń objętych kontrolą według pozycji 8A001 lub 8A002.b, 8A002.j, 8A002.o, lub 8A002.p. |
KATEGORIA 9
KOSMONAUTYKA, AERONAUTYKA, NAPĘD
9A
Systemy, urządzenia i części
NB.: Dla układów napędowych specjalnie skonstruowanych lub zabezpieczonych przed promieniowaniem neutronowym lub przenikliwym promieniowaniem jonizującym sprawdź także Wykaz uzbrojenia.
9A001
Następujące lotnicze silniki turbinowe mające którekolwiek z następujących cech:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A101.
a) |
mające jedną z technologii objętych kontrolą według pozycji 9E003.a; lub Uwaga: Pozycja 9A001.a nie obejmuje silników turbinowych spełniających wszystkie poniższe wymogi:
|
b) |
przeznaczone do napędzania samolotów do lotów z prędkościami Ma = 1 przez ponad trzydzieści minut. |
9A002
"Turbinowe silniki okrętowe" o nominalnej mocy ciągłej określonej według normy ISO wynoszącej 24 245 kW lub więcej i zużyciu jednostkowym paliwa nieprzekraczającym 0,219 kg/kWh w dowolnym punkcie roboczym w zakresie mocy od 35 do 100 %, oraz specjalnie do nich przeznaczone zespoły i elementy.
Uwaga: Termin "turbinowe silniki okrętowe" obejmuje również turbinowe silniki przemysłowe lub lotnicze, przystosowane do napędzania jednostek pływających lub wytwarzania energii elektrycznej na jednostkach pływających.
9A003
Następujące specjalne zespoły i elementy, w których zastosowano jedną z technologii objętych kontrolą według pozycji 9E003.a, do wymienionych poniżej turbinowych silników napędowych:
a) |
wymienionych w pozycji 9A001; |
b) |
skonstruowanych lub wyprodukowanych w krajach innych niż "państwa członkowskie" lub nieznanych producentowi (wnioskodawcy). |
9A004
Kosmiczne pojazdy nośne "statki kosmiczne".
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A104.
Uwaga: Pozycja 9A004 nie obejmuje kontrolą ładunku użytecznego.
NB.: Dla określenia poziomu kontroli produktów wchodzących w skład ładunku użytecznego "statku kosmicznego" sprawdź odpowiednie kategorie.
9A005
Rakietowe systemy napędowe na paliwo ciekłe zawierające jeden z systemów lub elementów wymienionych w pozycji 9A006.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A105 i 9A119.
9A006
Następujące systemy lub elementy specjalnie przeznaczone do rakietowych układów napędowych na paliwo ciekłe:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A106, 9A108 i 9A120.
a) |
chłodziarki kriogeniczne, pokładowe pojemniki Dewara, kriogeniczne instalacje grzewcze lub urządzenia kriogeniczne specjalnie przeznaczone do pojazdów kosmicznych, umożliwiające ograniczenie strat cieczy kriogenicznych do poziomu poniżej 30 % rocznie; |
b) |
pojemniki kriogeniczne lub pracujące w obiegu zamkniętym układy chłodzenia umożliwiające utrzymanie temperatur na poziomie 100 K (– 173 °C) lub mniejszym, przeznaczone do "samolotów" zdolnych do rozwijania prędkości powyżej Ma = 3, do rakiet nośnych lub "statków kosmicznych"; |
c) |
urządzenia do przechowywania lub transportu wodoru w formie mieszaniny fazy ciekłej ze stałą (zawiesiny); |
d) |
wysokociśnieniowe (powyżej 17,5 MPa) pompy turbinowe, ich elementy lub towarzyszące im gazowe lub pracujące w cyklu rozprężnym napędy turbinowe; |
e) |
wysokociśnieniowe (powyżej 10,6 MPa) komory ciągu silników rakietowych i dysze do nich; |
f) |
urządzenia do przechowywania paliw napędowych na zasadzie kapilarnej lub wydmuchowej (tj. z elastycznymi przeponami); |
g) |
wtryskiwacze ciekłych paliw napędowych, w których średnice pojedynczych otworków nie przekraczają 0,381 mm (pole powierzchni 1,14 × 10–3 cm2 lub mniejsze dla otworków niekolistych), specjalnie skonstruowane do silników rakietowych na paliwo ciekłe; |
h) |
wykonane z jednego elementu materiału typu węgiel — węgiel komory ciągu lub wykonane z jednego elementu materiału typu węgiel — węgiel stożki wylotowe, których gęstości przekraczają 1,4 g/cm3, a wytrzymałości na rozciąganie są większe niż 48 MPa. |
9A007
Systemy napędowe rakiet na paliwo stałe o następujących parametrach:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A107 i 9A119.
a) |
impuls całkowity powyżej 1,1 MNs; |
b) |
impuls właściwy 2,4 kNs/kg lub większy w sytuacji wypływu z dyszy do otoczenia w warunkach istniejących na poziomie morza przy ciśnieniu w komorze wyregulowanym na poziomie 7 MPa; |
c) |
udział masowy stopnia powyżej 88 % i procentowy udział składników stałych w paliwie powyżej 86 %; |
d) |
zawierające dowolne elementy objęte kontrolą według pozycji 9A008; lub |
e) |
wyposażone w układy izolacyjne i wiążące paliwo, w których zastosowano bezpośrednio połączone konstrukcje silnikowe zapewniające "silne połączenia mechaniczne" lub elementy barierowe uniemożliwiające migrację chemiczną pomiędzy paliwem stałym a stanowiącym osłonę materiałem izolacyjnym. Uwaga techniczna: Dla celów pozycji 9A007.e "silne połączenie mechaniczne" oznacza wytrzymałość wiązania równą lub większą niż wytrzymałość paliwa. |
9A008
Następujące elementy przeznaczone do rakietowych układów napędowych na paliwo stałe:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A108.
a) |
układy izolacyjne i wiążące paliwo, w których zastosowano wykładziny zapewniające "silne połączenia mechaniczne" lub elementy barierowe uniemożliwiające migrację chemiczną pomiędzy paliwem stałym a stanowiącym osłonę materiałem izolacyjnym; Uwaga techniczna: Dla celów pozycji 9A008.a "silne połączenie mechaniczne" oznacza wytrzymałość wiązania równą lub większą niż wytrzymałość paliwa. |
b) |
wykonane z włókien nawojowych "kompozytowe" osłony silników o średnicy powyżej 0,61 m lub o ’wskaźnikach efektywności strukturalnej (PV/W)’ powyżej 25 km; Uwaga techniczna: ’Wskaźnik efektywności strukturalnej (PV/W)’ jest iloczynem ciśnienia wybuchu (P) i pojemności zbiornika (V) podzielonym przez całkowitą wagę zbiornika ciśnieniowego (W). |
c) |
dysze o ciągach powyżej 45 kN lub szybkości erozyjnego zużycia gardzieli poniżej 0,075 mm/s; |
d) |
dysze ruchome lub systemy sterowania wektorem ciągu za pomocą pomocniczego wtrysku płynów o jednym z następujących parametrów:
|
9A009
Hybrydowe systemy napędowe rakiet o następujących parametrach:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A109 i 9A119.
a) |
impuls całkowity powyżej 1,1 MNs; lub |
b) |
ciąg powyżej 220 kN w warunkach próżni na wylocie. |
9A010
Następujące specjalnie opracowane elementy, systemy lub struktury do rakiet nośnych lub systemów napędowych do rakiet nośnych, lub "statków kosmicznych":
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1A002 i 9A110.
a) |
elementy lub struktury, każde z nich o masie przekraczającej 10 kg, specjalnie skonstruowane do rakiet nośnych i wytwarzane z "kompozytów" na "matrycy" metalowej, "kompozytów" organicznych, materiałów na "matrycy" ceramicznej lub wzmacnianych wiązaniami międzymetalicznymi, wymienionych w pozycji 1C007 lub 1C010; Uwaga: Podany limit masy nie dotyczy stożków czołowych ochronnych rakiet. |
b) |
elementy lub struktury specjalnie skonstruowane do systemów napędowych rakiet nośnych, wyspecyfikowanych w pozycjach 9A005 do 9A009, wytwarzane z "„kompozytów" na "matrycy" metalowej, "kompozytów" organicznych, materiałów na "matrycy" ceramicznej lub wzmacnianych wiązaniami międzymetalicznymi, wymienionych w pozycji 1C007 lub 1C010; |
c) |
części struktur i systemy izolacyjne specjalnie skonstruowane w celu aktywnej kontroli odpowiedzi dynamicznej lub odkształceń struktur "statków kosmicznych"; |
d) |
pulsacyjne silniki rakietowe na paliwo ciekłe mające stosunek ciągu do masy równy lub większy niż 1 kN/kg i czas odpowiedzi (czas niezbędny do osiągnięcia 90 % całkowitego ciągu znamionowego od chwili rozruchu) mniejszy niż 30 ms. |
9A011
Silniki strumieniowe, naddźwiękowe silniki strumieniowe lub silniki o cyklu kombinowanym oraz specjalnie do nich opracowane elementy.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A111 i 9A118.
9A012
Następujące "bezzałogowe statki powietrzne" ("UAV"), związane z nimi systemy, sprzęt i komponenty:
a) |
"UAV" mające dowolne z następujących cech:
|
b) |
następujące związane z nimi systemy, sprzęt i elementy:
|
9A101
Następujące silniki turboodrzutowe i turbowentylatorowe (w tym silniki turbinowe), różne od wymienionych w pozycji 9A001:
a) |
silniki mające obie podane poniżej cechy charakterystyczne:
|
b) |
silniki przeznaczone do "pocisków rakietowych" albo zmodyfikowane w tym celu. |
9A104
Rakiety meteorologiczne (sondujące) o zasięgu co najmniej 300 km.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A004.
9A105
Następujące silniki rakietowe na paliwo ciekłe:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.
a) |
silniki rakietowe na paliwo ciekłe nadające się do "pocisków rakietowych", różne od wymienionych w pozycji 9A005 i mające impuls całkowity równy lub większy niż 1,1 MNs; |
b) |
silniki rakietowe na paliwo ciekłe nadające się do kompletnych systemów rakietowych lub bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycji 9A005 lub 9A105.a i mające impuls całkowity równy lub większy niż 0,841 MNs. |
9A106
Następujące systemy lub podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 9A006, nadające się do stosowania w "pociskach rakietowych", specjalnie przeznaczone do układów napędowych rakiet na paliwo ciekłe:
a) |
wykładziny ablacyjne (ciepłochronne) do komór ciągu lub spalania; |
b) |
dysze wylotowe do rakiet; |
c) |
podzespoły do sterowania wektorem ciągu; Uwaga techniczna: Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A106.c należą np.:
|
d) |
zespoły do sterowania przepływem płynnych i zawiesinowych paliw napędowych (w tym utleniaczy) oraz specjalnie przeznaczone do nich elementy, skonstruowane lub zmodyfikowane pod kątem eksploatacji w środowiskach, w których występują drgania o średniej wartości kwadratowej większej niżej 10 g i o częstotliwości od 20 Hz do 2 kHz. Uwaga: Jedynymi objętymi kontrolą w pozycji 9A106.d serwozaworami i pompami elektrohydraulicznymi są:
|
9A107
Silniki rakietowe na paliwo stałe nadające się do kompletnych systemów rakietowych lub bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycji 9A007 i mające impuls całkowity równy lub większy niż 0,841 MNs.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.
9A108
Następujące podzespoły, różne od wymienionych w pozycji 9A008, nadające się do "pocisków rakietowych", specjalnie przeznaczone do układów napędowych do rakiet na paliwo stałe:
a) |
osłony do silników rakietowych, i ich komponenty służące do "izolacji"; |
b) |
dysze do silników rakietowych; |
c) |
podzespoły do sterowania wektorem ciągu. Uwaga techniczna: Do sposobów sterowania wektorem ciągu wymienionych w pozycji 9A108.c należą np.:
|
9A109
Hybrydowe silniki rakietowe, nadające się do "pocisków rakietowych", różne od wymienionych w pozycji 9A009, oraz specjalnie do nich przeznaczone elementy.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A119.
Uwaga techniczna:
W pozycji 9A109 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.
9A110
Materiały kompozytowe, laminaty i wyroby z nich, różne od wymienionych w pozycji 9A010, przeznaczone specjalnie do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104, lub podsystemów wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A105.a, 9A106 do 9A108, 9A116 lub 9A119.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1A002.
9A111
Pulsacyjne silniki odrzutowe nadające się do "pocisków rakietowych" lub bezzałogowych statków powietrznych wyszczególnionych w pozycji 9A012 oraz specjalnie do nich przeznaczone podzespoły.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9A011 i 9A118.
9A115
Następujące urządzenia i instalacje startowe, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104:
a) |
aparatura i urządzenia do manipulacji, sterowania, uruchamiania lub odpalania, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104; |
b) |
pojazdy do transportu, manipulacji, sterowania, uruchamiania i odpalania, przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do stosowania w kosmicznych pojazdach nośnych wymienionych w pozycji 9A004, bezzałogowych statkach powietrznych wymienionych w pozycji 9A012 lub w rakietach meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104. |
9A116
Następujące statki kosmiczne zdolne do lądowania na ziemi nadające się do "pocisków rakietowych" oraz przeznaczone lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do nich podzespoły:
a) |
statki kosmiczne zdolne do lądowania na ziemi; |
b) |
osłony ciepłochronne i elementy do nich wykonane z materiałów ceramicznych lub ablacyjnych; |
c) |
urządzenia pochłaniające ciepło i elementy do nich wykonane z lekkich materiałów o wysokiej pojemności cieplnej; |
d) |
urządzenia elektroniczne specjalnie przeznaczone do statków kosmicznych zdolnych do lądowania na ziemi. |
9A117
Mechanizmy do łączenia stopni, mechanizmy do rozłączania stopni oraz mechanizmy międzystopniowe, nadające się do wykorzystania w "pociskach rakietowych".
9A118
Urządzenia do regulacji spalania w silnikach, nadające się do "pocisków rakietowych" lub bezzałogowych statków powietrznych wyszczególnionych w pozycji 9A012 wymienionych w pozycjach 9A011 lub 9A111.
9A119
Pojedyncze stopnie do rakiet, nadające się do kompletnych systemów rakietowych lub bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu co najmniej 300 km, różne od wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A009, 9A105, 9A107 i 9A109.
9A120
Zbiorniki na paliwo ciekłe, poza wymienionymi w pozycji 9A006, przeznaczone specjalnie na paliwa wymienione w pozycji 1C111 lub "inne paliwa ciekłe", stosowane w systemach rakietowych o ładunku użytkowym co najmniej 500 kg i zasięgu co najmniej 300 km.
Uwaga: W pozycji 9A120 "inne paliwa ciekłe" obejmują paliwa wymienione w Wykazie uzbrojenia, ale nie ograniczają się do nich.
9A350
Układy zraszania lub mgławienia, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane w taki sposób, aby nadawały się do samolotów i "pojazdów lżejszych od powietrza" lub bezzałogowe statki powietrzne oraz specjalnie zaprojektowane ich komponenty, jak następuje:
a) |
kompletne układy zraszania lub mgławienia mogące zapewniać, z ciekłej zawiesiny, początkową kroplę o VMD poniżej 50 μm przy natężeniu przepływu powyżej dwóch litrów na minutę; |
b) |
rury rozdzielcze z rozpylaczami lub układy jednostek generujących aerozol mogące zapewniać, z ciekłej zawiesiny, początkową kroplę o VMD poniżej 50 μm przy natężeniu przepływu powyżej dwóch litrów na minutę; |
c) |
jednostki generujące aerozol specjalnie zaprojektowane w taki sposób, aby nadawały się do układów określonych w pozycji 9A350.a i b. |
Uwaga 1: Jednostki generujące aerozol są urządzeniami specjalnie zaprojektowanymi lub zmodyfikowanymi w taki sposób, aby nadawały się do samolotów, takimi jak: dysze, rozpylacze bębnowe obrotowe i podobne urządzenia.
Uwaga 2: Pozycja 9A350 nie obejmuje kontrolą układów zraszania i mgławienia oraz komponenty, które wykazano, że nie nadają się do roznoszenia środków biologicznych w postaci zakaźnych aerozoli.
Uwagi techniczne:
1. |
Wielkość kropli w przypadku urządzeń zraszających lub dysz specjalnie zaprojektowanych do stosowania w samolotach, "pojazdach lżejszych od powietrza" lub bezzałogowych statkach powietrznych powinna być mierzona z zastosowaniem jednej z następujących metod:
|
2. |
W pozycji 9A350 "VMD" oznacza Volume Median Diameter (objętościowa mediana średnicy), a dla układów wodnych jest równoznaczna z Mass Median Diameter (MMD) |
9B
Urządzenia testujące, kontrolne i produkcyjne
9B001
Następujące specjalnie zaprojektowane urządzenia, oprzyrządowanie i osprzęt do produkcji wirujących i nieruchomych łopatek turbin lub bandaży do wirników:
a) |
urządzenia umożliwiające kierunkowe krzepnięcie lub wytwarzanie pojedynczych kryształów; |
b) |
rdzenie lub powłoki ceramiczne. |
9B002
Pracujące w trybie bezpośrednim (w czasie rzeczywistym) systemy sterowania, oprzyrządowanie (włącznie z czujnikami) lub automatyczne systemy do zbierania i przetwarzania danych, specjalnie przeznaczone do "rozwoju" silników turbogazowych, ich zespołów lub elementów z zastosowaniem "technologii" objętych kontrolą według pozycji 9E003.a.
9B003
Urządzenia specjalnie przeznaczone do "produkcji" lub testowania uszczelnień szczotkowych w turbinach gazowych wirujących z prędkościami obrotowymi odpowiadającymi prędkości liniowej wierzchołka łopatki powyżej 335 m/s i przy temperaturach przekraczających 773 K (500 °C) oraz specjalnie do nich przeznaczone części lub akcesoria.
9B004
Oprzyrządowanie, matryce lub uchwyty do zgrzewania dyfuzyjnego "nadstopu", tytanu lub międzymetalicznych połączeń profili łopatkowych z tarczą, opisanych w pozycjach 9E003.a.3 lub 9E003.a.6 dla turbin gazowych.
9B005
Pracujące w trybie bezpośrednim (w czasie rzeczywistym) systemy sterowania, oprzyrządowanie (włącznie z czujnikami) lub automatyczne systemy do zbierania i przetwarzania danych, specjalnie przeznaczone do stosowania w jednym z wymienionych poniżej tuneli lub urządzeń aerodynamicznych:
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9B105.
a) |
tunele aerodynamiczne do prędkości Ma = 1,2 lub wyższych, z wyjątkiem tuneli przeznaczonych do celów edukacyjnych i mających "wymiar przestrzeni pomiarowej" (mierzony w kierunku poprzecznym) o wielkości poniżej 250 mm; Uwaga techniczna: "Wymiar przestrzeni pomiarowej" w pozycji 9B005 oznacza średnicę okręgu lub bok kwadratu, albo najdłuższy bok prostokąta w najszerszym miejscu przestrzeni pomiarowej. |
b) |
urządzenia symulujące warunki przepływu przy prędkościach powyżej Ma = 5, włącznie z impulsowymi tunelami hiperdźwiękowymi, tunelami plazmowymi, rurami uderzeniowymi, tunelami gazowymi i rurami uderzeniowymi na gazy lekkie; lub |
c) |
tunele lub urządzenia aerodynamiczne, różne od urządzeń z sekcjami dwuwymiarowymi, umożliwiające symulację przepływów, dla których wartość liczby Reynoldsa wynosi powyżej 25 × 106. |
9B006
Sprzęt do badań akustycznych wibracji, w którym można wytwarzać ciśnienia akustyczne na poziomie 160 dB lub wyższe (odpowiadające 20 mikropaskalom) o mocy wyjściowej 4 kW lub większej przy temperaturze w komorze pomiarowej powyżej 1 273 K (1 000 °C) oraz specjalnie do niego przeznaczone grzejniki kwarcowe.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9B106.
9B007
Urządzenia specjalnie przeznaczone do kontroli stanu silników rakietowych metodami nieniszczącymi (NDT), z wyłączeniem urządzeń do dwuwymiarowych badań rentgenowskich i badań za pomocą podstawowych metod chemicznych lub fizycznych.
9B008
Przetworniki specjalnie przeznaczone do bezpośrednich pomiarów tarcia w warstwie przyściennej w badanym przepływie przy temperaturach spiętrzenia powyżej 833 K (560° C).
9B009
Oprzyrządowanie specjalnie przeznaczone do wytwarzania elementów wirników silników turbinowych z proszków metali, zdolnych do pracy przy poziomie naprężeń stanowiącym 60 % jednostkowej wytrzymałości na rozciąganie (UTS) lub wyższym i temperaturach metalu wynoszących 873 K (600° C) lub wyższych.
9B010
Sprzęt przeznaczony specjalnie do wytwarzania "UAV" oraz związanych z nimi systemów, sprzętu i komponentów wymienionych w pozycji 9A012.
9B105
Tunele aerodynamiczne do prędkości Ma = 0,9 lub wyższych, nadające się do "pocisków rakietowych" oraz ich podzespołów.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 9B005.
Uwaga techniczna:
W pozycji 9B105 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu powyżej 300 km.
9B106
Następujące komory klimatyczne i komory bezechowe:
a) |
komory klimatyczne umożliwiające symulowanie następujących warunków lotu:
|
b) |
komory bezechowe umożliwiające symulowanie następujących warunków lotu:
|
9B115
Specjalne "urządzenia produkcyjne" do systemów, podsystemów i podzespołów wymienionych w pozycjach 9A005 do 9A009, 9A011, 9A101, 9A105 do 9A109, 9A111, 9A116 do 9A119.
9B116
"Instalacje produkcyjne" specjalnie przeznaczone do kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub systemów, podsystemów i elementów wymienionych w pozycjach 9A005 do 9A009, 9A011, 9A101, 9A104 do 9A109, 9A111 lub 9A116 do 9A119.
9B117
Stoiska do prób i stoiska badawcze do rakiet na paliwo stałe lub ciekłe lub do silników rakietowych, mające jedną z następujących cech charakterystycznych:
a) |
możliwość badania zespołów o ciągu powyżej 68 kN; lub |
b) |
możliwość równoczesnego pomiaru składowych ciągu wzdłuż trzech osi. |
9C
Materiały
9C108
Materiały do "izolacji" luzem i "wykładziny wewnętrzne", poza wymienionymi w pozycji 9A008, do osłon silników rakietowych możliwych do wykorzystania w "pociskach rakietowych" lub specjalnie do nich przeznaczone.
Uwaga techniczna:
W pozycji 9C108 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km.
9C110
Maty z włókien, impregnowane żywicami, i materiały z włókien powlekanych metalem do tych mat, do produkcji struktur kompozytowych, laminatów i wyrobów wymienionych w pozycji 9A110, wytwarzane zarówno na matrycach organicznych, jak i metalowych wykorzystujących wzmocnienia włóknami lub materiałami włókienkowymi, mające "wytrzymałość właściwą na rozciąganie" większą niż 7,62 × 104 m i "moduł właściwy" większy niż 3,18 × 106 m.
NB.: SPRAWDŹ TAKŻE POZYCJĘ 1C010 i 1C210.
Uwaga: Jedynymi matami z włókien impregnowanych żywicami, których dotyczy pozycja 9C110, są te, w których zastosowano żywice o temperaturze zeszklenia (Tg) po utwardzeniu przekraczającej 418K (145 °C), jak określono w ASTM D4065 lub jej odpowiedniku.
9D
Oprogramowanie
9D001
"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane do "rozwoju" urządzeń lub "technologii" objętych kontrolą według pozycji 9A001 do 9A119, 9B lub 9E003.
9D002
"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane do "produkcji" urządzeń objętych kontrolą według pozycji 9A001 do 9A119 lub 9B.
9D003
Następujące "oprogramowanie" specjalnie opracowane lub modyfikowane do "użytkowania""całkowicie autonomicznych systemów cyfrowego sterowania silnikami""FADEC" w systemach napędowych objętych kontrolą według pozycji 9A lub urządzeniach objętych kontrolą według pozycji 9B:
a) |
"oprogramowanie" działające w cyfrowych układach sterowania układami napędowymi, urządzeniach badawczych w przestrzeni kosmicznej lub w urządzeniach do badania silników lotniczych potrzebujących powietrza do spalania; |
b) |
"odporne na uszkodzenia""oprogramowanie" stosowane w systemach FADEC do układów napędowych i związanych z nimi urządzeń badawczych. |
9D004
Następujące inne "oprogramowanie":
a) |
"oprogramowanie" uwzględniające składowe sił lepkości w dwóch lub trzech wymiarach, przeznaczone do tuneli aerodynamicznych lub badań w locie, niezbędne do szczegółowego modelowania przepływu w silnikach; |
b) |
"oprogramowanie" do badania turbogazowych silników lotniczych, zespołów lub elementów do nich, specjalnie przeznaczone do zbierania, redukcji i analizy danych w czasie rzeczywistym i zdolne do sterowania ze sprzężeniem zwrotnym, włącznie z dynamiczną regulacją elementów lub warunków badań w czasie trwania testów; |
c) |
"oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do sterowania ukierunkowanym krzepnięciem lub wytwarzaniem pojedynczych kryształów; |
d) |
"oprogramowanie" w postaci "kodu źródłowego", "kodu wynikowego" lub kodu maszynowego, niezbędne do "użytkowania" systemów aktywnej kompensacji do regulacji luzu wierzchołkowego łopatek wirnikowych; Uwaga: Pozycja 9D004.d nie obejmuje kontrolą "oprogramowania" wchodzącego w skład nieobjętych kontrolą urządzeń lub niezbędnego do czynności technicznych związanych z wzorcowaniem lub naprawą albo aktualizacją aktywnie kompensowanych systemów regulacji luzu wierzchołkowego łopatek. |
e) |
"oprogramowanie" przeznaczone specjalnie lub zmodyfikowane na potrzeby "użytkowania""UAV" i związanych z nimi systemów, sprzętu i komponentów wymienionych w pozycji 9A012; |
f) |
"oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do projektowania wewnętrznych kanałów chłodzących łopat, łopatek i bandaży wiążących turbogazowych silników lotniczych; |
g) |
"oprogramowanie" mające wszystkie następujące cechy charakterystyczne:
|
9D101
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do "użytkowania" wyrobów wymienionych w pozycjach 9B105, 9B106, 9B116 lub 9B117.
9D103
"Oprogramowanie" specjalnie przeznaczone do modelowania, symulowania lub integrowania konstrukcyjnego kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub rakiet meteorologicznych wymienionych w pozycji 9A104, lub podsystemów wymienionych w pozycjach 9A005, 9A007, 9A105.a., 9A106, 9A108, 9A116 lub 9A119.
Uwaga: "Oprogramowanie" wymienione w pozycji 9D103 podlega kontroli również w przypadku stosowania go do specjalnego osprzętu wymienionego w pozycji 4A102.
9D104
"Oprogramowanie" specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" towarów wyspecyfikowanych w pozycjach 9A001, 9A005, 9A006.d, 9A006.g, 9A007.a, 9A008.d, 9A009.a, 9A010.d, 9A011, 9A101, 9A105, 9A106.c, 9A106.d, 9A107, 9A108.c, 9A109, 9A111, 9A115.a, 9A116.d, 9A117 lub 9A118.
9D105
"Oprogramowanie", które koordynuje funkcje więcej niż jednego podsystemu, specjalnie zaprojektowane lub zmodyfikowane do "użytkowania" w pojazdach kosmicznych określonych w pozycji 9A004 lub rakietach meteorologicznych określonych w 9A104.
9E
Technologia
Uwaga: "Technologie" do "rozwoju" lub "produkcji" wymienione w pozycji 9E001 do 9E003 dotyczące silników turbogazowych podlegają kontroli, również w przypadku kiedy są stosowane jako technologie "użytkowania" do napraw, przebudowy i remontów. Kontroli nie podlegają: dane techniczne, rysunki lub dokumentacja do czynności związanych z obsługą techniczną bezpośrednio dotyczącą wzorcowania, usuwania lub wymiany uszkodzonych lub niezdatnych do użytku elementów wymiennych, włącznie z całymi silnikami lub modułami silnikowymi.
9E001
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" urządzeń lub "oprogramowania" objętego kontrolą według pozycji 9A001.b, 9A004 do 9A012, 9A350, 9B lub 9D.
9E002
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "produkcji" urządzeń wymienionych w pozycjach 9A001.b, 9A004 do 9A011, 9A350 lub 9B.
Uwaga: Na potrzeby kontroli technologii napraw konstrukcji, laminatów lub materiałów sprawdź pozycję 1E002.f.
9E003
Następujące inne "technologie":
a) |
"technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji" dowolnego z następujących elementów i zespołów do silników turbogazowych:
|
b) |
"technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji":
|
c) |
"technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji" elementów silników turbogazowych, w których zastosowano techniki wiercenia za pomocą "laserów", dysz wodnych lub technik elektromechanicznych albo elektroiskrowych (ECM/EDM) otworów o jednym z poniższych zespołów parametrów:
|
d) |
"technologie" niezbędne do "rozwoju" lub "produkcji" układów przenoszenia napędu w śmigłowcach lub układów przenoszenia napędu w "statkach powietrznych" z odchylanymi wirnikami lub skrzydłami; |
e) |
"technologie" do "rozwoju" lub "produkcji" systemów napędowych pojazdów naziemnych napędzanych wysokoprężnymi silnikami tłokowymi o następujących parametrach:
Uwaga techniczna: Pojemność komory silnikowej w pozycji 9E003.e oznacza iloczyn trzech prostopadłych do siebie wymiarów mierzonych w następujący sposób:
|
f) |
"technologie""niezbędne" do "produkcji" następujących specjalnych elementów przeznaczonych do wysokociśnieniowych silników wysokoprężnych:
|
g) |
"technologie""niezbędne" do "rozwoju" lub "produkcji" wysokociśnieniowych silników wysokoprężnych ze smarowaniem cylindrów za pomocą smarów stałych, z fazy gazowej lub filmu cieczowego (lub metodą kombinowaną), umożliwiającym pracę silnika do temperatur powyżej 723 K (450 °C), mierzonych na ściance cylindra w górnym położeniu górnego pierścienia tłokowego. Uwaga techniczna: Wysokociśnieniowe silniki wysokoprężne: silniki wysokoprężne (Diesla) o średnim ciśnieniu użytecznym 1,8 MPa lub wyższym przy prędkościach obrotowych 2 300 obrotów na minutę, pod warunkiem że ich prędkość nominalna wynosi 2 300 obrotów na minutę lub więcej. |
9E101
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "rozwoju" lub "produkcji" wyrobów wymienionych w pozycjach 9A101, 9A104 do 9A111 lub 9A115 do 9A119.
9E102
"Technologie" według Uwagi ogólnej do technologii do "użytkowania" kosmicznych pojazdów nośnych wymienionych w pozycji 9A004 lub wyrobów wymienionych w pozycjach 9A005 do 9A011, 9A101, 9A104 do 9A111, 9A115 do 9A119, 9B105, 9B106, 9B115, 9B116, 9B117, 9D101 lub 9D103.
ZAŁĄCZNIK II
GENERALNE WSPÓLNOTOWE ZEZWOLENIE NA EKSPORT NR EU001
(określone w art. 6 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000)
Organ wydający: Wspólnota Europejska
Część 1
Niniejsze zezwolenie na eksport obejmuje następujące towary:
Wszystkie towary podwójnego zastosowania określone dowolnymi pozycjami w załączniku I do niniejszego rozporządzenia, z wyjątkiem wymienionych w części 2 poniżej.
Część 2
— |
|
Wszystkie towary określone w załączniku IV. |
— |
0C001 |
"Uran naturalny" lub "uran zubożony" lub tor w formie metalu, stopu, związku chemicznego lub koncentratu i dowolnego innego materiału zawierającego jeden lub więcej z powyższych materiałów. |
— |
0C002 |
"Specjalne materiały rozszczepialne", inne niż określone w załączniku IV. |
— |
0D001 |
"Oprogramowanie" specjalnie opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów określonych w kategorii 0 w zakresie, w jakim odnosi się do produktów z pozycji 0C001 lub do produktów określonych w pozycji 0C002, które są wyłączone z załącznika IV. |
— |
0E001 |
"Technologia", według uwagi do technologii jądrowej, do "rozwoju", "produkcji" lub "użytkowania" towarów wyszczególnionych w kategorii 0 w zakresie, w jakim odnosi się do produktów z pozycji 0C001 lub do produktów określonych w pozycji 0C002, które są wyłączone z załącznika IV. |
— |
1A102 |
Elementy z przesyconego pirolizowanego materiału typu węgiel-węgiel przeznaczone do kosmicznych pojazdów nośnych określonych w pozycji 9A004 lub do rakiet meteorologicznych określonych w pozycji 9A104. |
— |
1C351 |
Ludzkie czynniki chorobotwórcze, choroby przenoszone przez zwierzęta oraz "toksyny". |
— |
1C352 |
Zwierzęce czynniki chorobotwórcze. |
— |
1C353 |
Elementy genetyczne i organizmy zmodyfikowane genetycznie. |
— |
1C354 |
Szczepy chorobotwórcze. |
— |
7E104 |
"Technologia" scalania danych z systemów sterowania lotem, naprowadzania i napędu w system zarządzania lotem w celu optymalizacji toru lotu rakiet. |
— |
9A009.a |
Hybrydowe systemy napędowe rakiet o impulsie całkowitym powyżej 1,1 MNs. |
— |
9A117 |
Mechanizmy do łączenia stopni, mechanizmy do rozłączania stopni oraz mechanizmy międzystopniowe, nadające się do wykorzystania w "pociskach rakietowych". |
Część 3
Niniejsze zezwolenie na eksport obowiązuje w całej Wspólnocie w przypadku eksportu do następujących miejsc przeznaczenia:
— |
Australia |
— |
Kanada |
— |
Japonia |
— |
Nowa Zelandia |
— |
Norwegia |
— |
Szwajcaria |
— |
Stany Zjednoczone Ameryki |
Uwaga: Części 2 i 3 mogą zostać zmienione tylko zgodnie z odpowiednimi obowiązkami i zobowiązaniami, które każde z państw członkowskich przyjęło jako członek międzynarodowych reżimów nieproliferacyjnych i porozumień w zakresie kontroli eksportu oraz zgodnie z interesem bezpieczeństwa publicznego każdego z państw członkowskich, znajdującym odzwierciedlenie w odpowiedzialności za podejmowanie decyzji w sprawie wniosków o zezwolenia na eksport towarów podwójnego zastosowania na podstawie art. 6 ust. 2 niniejszego rozporządzenia.
Warunki i wymagania w odniesieniu do stosowania niniejszego zezwolenia
1. |
Niniejsze zezwolenie generalne nie może być stosowane, jeżeli eksporter został powiadomiony przez właściwe władze państwa członkowskiego, w którym ma swoją siedzibę, że dane produkty są wykorzystywane lub ich wykorzystanie może być przeznaczone, w całości lub w części, do celów związanych z rozwojem, produkcją, obsługą, eksploatacją, konserwacją, przechowywaniem, wykrywaniem, identyfikacją lub rozprzestrzenianiem broni chemicznej, biologicznej lub jądrowej albo innych wybuchowych urządzeń jądrowych, albo rozwojem, produkcją konserwacją, przechowywaniem "pocisków rakietowych" zdolnych do przenoszenia takich broni lub, jeśli eksporter jest świadomy, że dane produkty są przeznaczone do takiego wykorzystania. |
2. |
Niniejsze zezwolenie generalne nie może być stosowane, jeżeli eksporter został powiadomiony przez właściwe władze państwa członkowskiego, w którym ma swoją siedzibę, że dane produkty są wykorzystywane lub ich wykorzystanie może być przeznaczone do końcowego użycia wojskowego, określonego w art. 4 ust. 2 rozporządzenia, w państwie objętym embargiem UE, OBWE lub ONZ na broń lub, jeśli eksporter jest świadomy, że produkty te przeznaczone są do takiego użycia. |
3. |
Niniejsze zezwolenie generalne nie może być stosowane, jeśli odpowiednie produkty wywożone są do stref wolnocłowych lub składów wolnocłowych, które znajdują się w miejscu przeznaczenia objętym niniejszym zezwoleniem. |
4. |
Wymagania dotyczące rejestracji i sprawozdawczości związane ze stosowaniem niniejszego zezwolenia generalnego oraz dodatkowe informacje, jakich może wymagać państwo członkowskie, z którego odbywa się eksport, w odniesieniu do produktów eksportowanych na podstawie niniejszego zezwolenia, są określane przez państwa członkowskie. Wymagania te muszą być oparte na wymaganiach określonych dla stosowania generalnych zezwoleń na eksport, udzielanych przez te państwa członkowskie, które przewidują stosowanie takich zezwoleń. |
ZAŁĄCZNIK IIIa
ZAŁĄCZNIK IIIb
WSPÓLNE ELEMENTY DOTYCZĄCE WYDAWANIA GENERALNYCH ZEZWOLEŃ NA EKSPORT
(określone w art. 10 ust. 3)
1. |
Tytuł generalnego zezwolenia na eksport |
2. |
Władze wydające zezwolenie |
3. |
Moc obowiązująca w WE. Wykorzystuje się następujący tekst: „Jest to generalne zezwolenie na eksport na podstawie warunków art. 6 ust. 2 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000. Niniejsze zezwolenie, zgodnie z art. 6 ust. 2 tego rozporządzenia, obowiązuje we wszystkich państwach członkowskich Wspólnoty Europejskiej”. |
4. |
Produkty, których dotyczy: wykorzystuje się następujący tekst wprowadzający: „Niniejsze zezwolenie na eksport obejmuje następujące towary”. |
5. |
Miejsca przeznaczenia, których dotyczy: wykorzystuje się następujący tekst wprowadzający: „Niniejsze zezwolenie jest ważne w odniesieniu do eksportu do następujących miejsc przeznaczenia”. |
6. |
Warunki i wymagania |
ZAŁĄCZNIK IV
(Wykaz określony w art. 21 ust. 1 rozporządzenia (WE) nr 1334/2000)
Pozycje nie zawsze zawierają pełny opis towaru i związane z nim uwagi z załącznika I (4). Tylko załącznik I zapewnia pełny opis towarów.
Wymienienie towaru w niniejszym załączniku nie wpływa na stosowanie przepisów dotyczących produktów rynków masowych określonych w załączniku I.
Część I
(Możliwość stosowania Krajowego Zezwolenia Generalnego na handel wewnątrzwspólnotowy)
Produkty technologii zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych ("stealth")
1C001 |
Materiały specjalnie opracowane do wykorzystania jako pochłaniacze fal elektromagnetycznych, albo polimery przewodzące samoistnie. UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 1C101. |
1C101 |
Materiały i urządzenia do obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w nadfiolecie i podczerwieni oraz śladów akustycznych, inne niż określone w pozycji 1C001, możliwe do zastosowania w ’pociskach rakietowych’, podsystemach „pocisków rakietowych” lub bezzałogowych statkach powietrznych określonych w pozycji 9A012. Uwaga: Pozycja 1C101 nie obejmuje materiałów, jeśli artykuły takie są wyrabiane wyłącznie na potrzeby cywilne. Uwaga techniczna: W pozycji 1C101 "pocisk rakietowy" oznacza kompletne systemy rakietowe i systemy bezzałogowych statków powietrznych o zasięgu przekraczającym 300 km. |
1D103 |
„Oprogramowanie” specjalnie opracowane do badania obiektów o zmniejszonej wykrywalności za pomocą odbitych fal radarowych, śladów w zakresie promieniowania nadfioletowego/podczerwonego i śladów akustycznych. |
1E101 |
„Technologia” stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycjach 1C101 lub 1D103. |
1E102 |
„Technologia”, stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju”„oprogramowania” określonego w pozycji 1D103. |
6B008 |
Systemy do impulsowych pomiarów radarowego przekroju czynnego o szerokościach impulsu przesyłowego 100 ns lub mniejszych oraz specjalnie dla nich przeznaczone elementy. UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 6B108. |
6B108 |
Systemy specjalnie przeznaczone do pomiarów radarowego przekroju czynnego, znajdujące zastosowanie w „pociskach rakietowych” i innych podzespołach. |
Produkty objęte wspólnotową kontrolą strategiczną
1C239 |
Kruszące materiały wybuchowe, różne od wyszczególnionych w uregulowaniach dotyczących towarów wojskowych, substancje lub mieszaniny zawierające wagowo więcej niż 2 % tych materiałów, o gęstości krystalicznej większej niż 1,8 g/cm3 i prędkości detonacji powyżej 8 000 m/s. |
||||
1E201 |
„Technologia” stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycji 1C239. |
||||
3A229 |
Instalacje zapłonowe i równoważne generatory impulsów wysokoprądowych… UWAGA: PATRZ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA. |
||||
3A232 |
Detonatory i wielopunktowe instalacje inicjujące… UWAGA: PATRZ TAKŻE WYKAZ UZBROJENIA. |
||||
3E201 |
„Technologia” stosownie do uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” urządzeń określonych w pozycjach 3A229 lub 3A232. |
||||
6A001 |
Urządzenia akustyczne ograniczone do następujących: |
||||
6A001.a.1.b. |
Systemy do wykrywania lub lokalizacji obiektów mające jedną z wymienionych właściwości:
|
||||
6A001.a.2.a.2. |
Hydrofony… złożone… |
||||
6A001.a.2.a.3. |
Hydrofony… wyposażone w jeden z… |
||||
6A001.a.2.a.6. |
Hydrofony… przeznaczone do… |
||||
6A001.a.2.b. |
Holowane zestawy matrycowe hydrofonów akustycznych… |
||||
6A001.a.2.c. |
Urządzenia przetwarzające, specjalnie opracowane do zastosowania w czasie rzeczywistym z holowanymi zestawami matrycowymi hydrofonów akustycznych mające „możliwość dostępu użytkownika do oprogramowania” oraz możliwość przetwarzania i korelacji w funkcji czasu lub częstotliwości, włącznie z analizą spektralną, filtrowaniem cyfrowym i kształtowaniem wiązki za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub innych transformat lub procesów. |
||||
6A001.a.2.e. |
Denne lub przybrzeżne układy kablowe mające jakąkolwiek z poniższych właściwości:
|
||||
6A001.a.2.f. |
Urządzenia przetwarzające, specjalnie opracowane do stosowania w czasie rzeczywistym z dennymi lub przybrzeżnymi systemami kablowymi, mające „programowalność dostępną dla użytkownika” oraz przetwarzanie i korelację w dziedzinie czasu lub częstotliwości, w tym analizę widmową oraz cyfrowe kształtowanie wiązki za pomocą szybkiej transformaty Fouriera lub innych przekształceń lub procesów. |
||||
6D003.a. |
„Oprogramowanie” do „przetwarzania w czasie rzeczywistym” danych akustycznych. |
||||
8A002.o.3. |
Następujące układy tłumienia szumów, opracowane do użytkowania na jednostkach pływających o wyporności 1 000 ton lub wyższej:
|
||||
8E002.a. |
„Technologie” do „rozwoju”, „produkcji”, napraw, remontów lub modyfikacji (ponownej obróbki skrawaniem) śrub, specjalnie skonstruowanych w celu tłumienia generowanych przez nie pod wodą szumów. |
Produkty wspólnotowego sterowania strategicznego — Kryptografia — Kategoria 5 część 2
5A002.a.2. |
Urządzenia zaprojektowane lub zmodyfikowane dla realizacji funkcji analizy kryptoanalitycznych. |
5D002.c.1 |
Wyłącznie oprogramowanie mające właściwości albo realizujące lub symulujące funkcje urządzeń określonych w pozycji 5A002.a.2. |
5E002 |
Wyłącznie „technologie” do „rozwoju”, „produkcji” lub „użytkowania” towarów określonych w pozycji 5A002.a.2 lub 5D002.c.1 powyżej. |
Produkty technologii MTCR
7A117 |
„Instalacje do naprowadzania”, znajdujące zastosowanie w „pociskach rakietowych”, umożliwiające uzyskanie dokładności instalacji 3,33 % zasięgu lub lepszej (np. „CEP” — krąg równego prawdopodobieństwa 10 km lub mniej w zasięgu 300 km) z wyjątkiem „instalacji do naprowadzania” opracowanych do pocisków rakietowych o zasięgu poniżej 300 km lub samolotów załogowych. |
||||||||||||
7B001 |
Urządzenia do testowania, wzorcowania lub strojenia, specjalnie opracowane do urządzeń określonych w pozycji 7A117 powyżej. Uwaga: Pozycja 7B001 nie obejmuje kontrolą urządzeń do testowania, wzorcowania lub strojenia specjalnie przeznaczonych do I i II poziomu obsługi. |
||||||||||||
7B003 |
Urządzenia specjalnie opracowane do „produkcji” urządzeń określonych w pozycji 7A117 powyżej. |
||||||||||||
7B103 |
Specjalnie opracowane „instalacje produkcyjne” do urządzeń określonych w pozycji 7A117 powyżej. |
||||||||||||
7D101 |
„Oprogramowanie” specjalnie opracowane do „użytkowania” urządzeń określonych w pozycjach 7B003 lub 7B103 powyżej. |
||||||||||||
7E001 |
„Technologie” według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” urządzeń lub „oprogramowania” określonych w pozycjach 7A117, .7B003, 7B103 lub 7D101 powyżej. |
||||||||||||
7E002 |
„Technologie” według uwagi ogólnej do technologii do „produkcji” urządzeń określonych w pozycjach 7A117, 7B003 i 7B103 powyżej. |
||||||||||||
7E101 |
„Technologie” według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” urządzeń określonych w pozycjach 7A117, 7B003, 7B103 i 7D101 oprogramowania powyżej. |
||||||||||||
9A004 |
Kosmiczne pojazdy nośne zdolne do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego na odległość co najmniej 300 km. UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9A104. Uwaga 1: Pozycja 9A004 nie obejmuje kontrolą ładunku użytecznego. |
||||||||||||
9A005 |
Rakietowe systemy napędowe na paliwo ciekłe zawierające jeden z systemów lub elementów określonych w pozycji 9A006, możliwe do wykorzystania w kosmicznych pojazdach nośnych określonych w pozycji 9A004 powyżej, lub rakietach meteorologicznych określonych w pozycji 9A104 poniżej . UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJE 9A105 I 9A119. |
||||||||||||
9A007.a. |
Systemy napędowe rakiet na paliwo stałe, możliwe do wykorzystania w kosmicznych pojazdach nośnych określonych w pozycji 9A004 powyżej, lub rakietach meteorologicznych określonych w pozycji 9A104 powyżej , mające jakąkolwiek z następujących właściwości: UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9A119.
|
||||||||||||
9A008.d. |
Następujące elementy opracowane do rakietowych układów napędowych na paliwo stałe: UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9A108.c.
|
||||||||||||
9A104 |
Rakiety meteorologiczne, zdolne do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego na odległość co najmniej 300 km. UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9A004. |
||||||||||||
9A105.a. |
Następujące silniki rakietowe na paliwo ciekłe: UWAGA: PATRZ TAKŻE POZYCJA 9A119.
|
||||||||||||
9A106.c. |
Następujące systemy lub podzespoły, inne niż określone w pozycji 9A006, nadające się do stosowania w „pociskach rakietowych”, specjalnie opracowane do układów napędowych rakiet na paliwo ciekłe:
Uwaga techniczna: Przykładami metod osiągania sterowania wektorem ciągu określonymi w pozycji 9A106.c są:
|
||||||||||||
9A108.c. |
Następujące podzespoły, inne niż określone w pozycji 9A008, nadające się do wykorzystania w „pociskach rakietowych”, specjalnie opracowane do układów napędowych do rakiet na paliwo stałe:
Uwaga techniczna: Przykładami metod osiągania sterowania wektorem ciągu określonymi w pozycji 9A108.c są:
|
||||||||||||
9A116 |
Następujące statki kosmiczne zdolne do powrotu na ziemię nadające się do „pocisków rakietowych” oraz opracowane lub zmodyfikowane z przeznaczeniem do nich podzespoły z wyjątkiem statków kosmicznych zdolnych do powrotu na ziemię przeznaczonych dla ładunków użytecznych niebędących bronią:
|
||||||||||||
9A119 |
Pojedyncze stopnie do rakiet, nadające się do kompletnych systemów rakietowych i bezzałogowych statków powietrznych, zdolnych do przeniesienia co najmniej 500 kg ładunku użytecznego i o zasięgu, co najmniej 300 km, inne niż określone w pozycji 9A005 lub 9A007.a powyżej. |
||||||||||||
9B115 |
Specjalne „urządzenia produkcyjne” do systemów, podsystemów i podzespołów, określonych w pozycjach 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 lub 9A119 powyżej. |
||||||||||||
9B116 |
„Instalacje produkcyjne” specjalnie opracowane do kosmicznych pojazdów nośnych, określonych w pozycji 9A004 lub systemów, podsystemów i elementów, określonych w pozycjach 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 lub 9A119 powyżej. |
||||||||||||
9D101 |
„Oprogramowanie” specjalnie opracowane do „użytkowania” towarów określonych w pozycji 9B116 powyżej. |
||||||||||||
9E001 |
„Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” urządzeń lub „oprogramowania” określone w pozycjach 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115, 9B116 lub 9D101 powyżej. |
||||||||||||
9E002 |
„Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „produkcji” urządzeń określonych w pozycjach 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9B115 lub 9B116 powyżej. Uwaga: Do celów kontroli technologii napraw konstrukcji, laminatów lub materiałów patrz pozycja 1E002.f. |
||||||||||||
9E101 |
„Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” lub „produkcji” towarów określonych w pozycjach 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116 lub 9A119 powyżej. |
||||||||||||
9E102 |
„Technologie”, według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” kosmicznych pojazdów nośnych określonych w pozycjach 9A004, 9A005, 9A007.a, 9A008.d, 9A104, 9A105.a, 9A106.c, 9A108.c, 9A116, 9A119, 9B115, 9B116 lub 9D101 powyżej. |
— Wyłączenia:
Załącznik IV nie obejmuje kontrolą następujących produktów technologii MTCR:
1) |
które są przekazywane na podstawie zamówień na mocy stosunku umownego ustanawianego przez Europejską Agencję Kosmiczną (ESA) lub które są przekazywane przez ESA w celu realizacji jej zadań urzędowych; |
2) |
które są przekazywane na podstawie zamówień na mocy stosunku umownego ustanawianego przez krajowe organizacje kosmiczne państw członkowskich lub które są przekazywane przez te organizacje w celu realizacji ich zadań urzędowych; |
3) |
które są przekazywane na podstawie zamówień na mocy stosunku umownego ustanawianego w związku ze wspólnotowym programem rozwoju i produkcji wyrzutni kosmicznych, podpisanym przez dwa lub więcej rządów państw europejskich; |
4) |
które są przekazywane do kontrolowanego przez państwo miejsca startów kosmicznych położonych na terytorium państwa członkowskiego, jeżeli to państwo członkowskie nie kontroluje takich transferów na podstawie warunków niniejszego rozporządzenia. |
Część II
(Brak możliwości stosowania Krajowego Zezwolenia Generalnegowymagane dla handlu wewnątrzwspólnotowego)
Produkty w ramach Konwencji o zakazie broni chemicznej (CWC)
1C351.d.4. |
Rycyna |
1C351.d.5. |
Saksytoksyna |
Produkty technologii NSG
Cała kategoria 0 załącznika I została włączona do załącznika IV, z zastrzeżeniem następujących pozycji:
— |
0C001: pozycja nie jest objęta załącznikiem IV, |
— |
0C002: pozycja nie jest objęta załącznikiem IV, z wyjątkiem następujących specjalnych materiałów rozszczepialnych:
|
— |
0D001 (oprogramowanie) jest objęte załącznikiem IV z wyjątkiem przypadków, kiedy odnosi się do pozycji 0C001, lub do tych elementów pozycji 0C002, które nie są objęte załącznikiem IV, |
— |
0E001 (technologia) jest objęta załącznikiem IV, z wyjątkiem przypadków, kiedy odnosi się do pozycji 0C001, lub do tych elementów pozycji 0C002, które nie są objęte załącznikiem IV. |
Uwaga: Pozycje 0C003 i 0C004 tylko w przypadku zastosowania w „reaktorach jądrowych” (w ramach pozycji 0A001.a).
1B226 |
Elektromagnetyczne separatory izotopów, skonstruowane z przeznaczeniem do współpracy z jednym lub wieloma źródłami jonów zdolnymi do uzyskania wiązki jonów o całkowitym natężeniu rzędu 50 mA lub więcej. Uwaga: Pozycja 1B226 obejmuje separatory:
|
||||||||||||||||
1C012 |
Następujące materiały: Uwaga techniczna: Materiały te są typowo wykorzystywane do jądrowych źródeł ciepła.
|
||||||||||||||||
1B231 |
Następujące urządzenia i instalacje do obróbki trytu lub ich podzespoły:
|
||||||||||||||||
1B233 |
Następujące urządzenia i instalacje do separacji izotopów litu lub ich podzespoły:
|
||||||||||||||||
1C233 |
Lit wzbogacony w izotop 6 (6Li) do stężenia powyżej naturalnego, produkty albo urządzenia zawierające lit wzbogacony jak następuje: lit pierwiastkowy, stopy, związki, mieszanki zawierające lit, wyroby z wcześniej wymienionych, odpady lub złom z dowolnego z wcześniej wymienionych. Uwaga: Pozycja 1C233 nie obejmuje kontrolą dozymetrów termoluminescencyjnych. Uwaga techniczna: Udział wagowy izotopu 6 w licie występującym naturalnie wynosi 6,5 procent (atomowy 7,5 procent). |
||||||||||||||||
1C235 |
Tryt, związki trytu i mieszanki zawierające tryt, w których stosunek atomów trytu do wodoru wynosi 1 część na 1 000 oraz wyroby lub urządzenia zawierające te materiały. Uwaga: Pozycja 1C235 nie obejmuje kontrolą wyrobów lub urządzeń zawierających nie więcej niż 1,48 × 103 GBq (40 Ci) trytu w dowolnej postaci. |
||||||||||||||||
1E001 |
„Technologia” według uwagi ogólnej do technologii do „rozwoju” lub „produkcji” urządzeń lub materiałów określonych w pozycji 1C012.b. |
||||||||||||||||
1E201 |
„Technologia” według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycjach 1B226, 1B231, 1B233, 1C233 lub 1C235. |
||||||||||||||||
3A228 |
Następujące urządzenia przełączające:
|
||||||||||||||||
3A231 |
Generatory neutronów, w tym lampy, mające obie następujące właściwości:
|
||||||||||||||||
3E201 |
„Technologia” według uwagi ogólnej do technologii do „użytkowania” towarów określonych w pozycjach 3A228.a, 3A228.b lub 3A231. |
||||||||||||||||
6A203 |
Następujące kamery filmowe i ich podzespoły, inne niż określone w pozycji 6A003:
|
||||||||||||||||
6A225 |
Interferometry do pomiaru prędkości w zakresie powyżej 1 km/s w odstępach czasowych poniżej 10 mikrosekund. Uwaga: Pozycja 6A225 obejmuje dopplerowskie interferomery laserowe, takie jak VISARy, DLI). |
||||||||||||||||
6A226 |
Następujące czujniki ciśnienia:
|
(1) Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.
(2) Producenci wyliczający dokładność pozycjonowania zgodnie z ISO 230/2 (1997) powinni konsultować się z właściwymi organami państwa członkowskiego, w którym zostali zarejestrowani.
(3) Indeksy w nawiasach odnoszą się do uwag zamieszczonych pod tabelą.
(4) Różnice w brzmieniu/zakresie między załącznikiem I a załącznikiem IV są zaznaczone pogrubioną kursywą.