Labojums Komisijas Deleģētajā regulā (ES) 2018/1922 (2018. gada 10. oktobris), ar kuru groza Padomes Regulu (EK) Nr. 428/2009, ar ko izveido Kopienas režīmu divējāda lietojuma preču eksporta, pārvadājumu, starpniecības un tranzīta kontrolei

( “Eiropas Savienības Oficiālais Vēstnesis” L 319, 2018. gada 14. decembris )

129. lappusē 3B001.f.3. un 3B001.f.4. pozīcijā ir labots teksta izkārtojums:

“3.

masku izgatavošanai speciāli konstruētas iekārtas ar visiem šādiem raksturlielumiem:

a.	novirzīts fokusēts elektronu kūlis, jonu kūlis vai “lāzera” staru kūlis; un

kam ir kāda no šādām īpašībām:

1.	pilna platuma pusmaksimuma (FWHM) punkta izmērs ir mazāks par 65 nm un attēla novietojums ir mazāks par 17 nm (vidējais + 3 sigmas); vai

2.	netiek lietots;

3.	maskas otrā slāņa pārklājuma kļūda ir mazāka par 23 nm (vidējais + 3 sigmas);

Iekārtas, kuras konstruētas ierīču apstrādei, lietojot tiešās rakstīšanas metodes, un kurām ir visi šādi raksturlielumi:

a.	novirzīts fokusēts elektronu kūlis; un

kam ir kāda no šādām īpašībām:

1.	minimālais kūļa izmērs ir 15 nm vai mazāks; vai

2.	pārklājuma kļūda ir mazāka par 27 nm (vidējais + 3 sigmas);”

“3.

masku izgatavošanai speciāli konstruētas iekārtas ar visiem šādiem raksturlielumiem:

a.	novirzīts fokusēts elektronu kūlis, jonu kūlis vai “lāzera” staru kūlis; un

kam ir kāda no šādām īpašībām:

1.	pilna platuma pusmaksimuma (FWHM) punkta izmērs ir mazāks par 65 nm un attēla novietojums ir mazāks par 17 nm (vidējais + 3 sigmas); vai

2.	netiek lietots;

3.	maskas otrā slāņa pārklājuma kļūda ir mazāka par 23 nm (vidējais + 3 sigmas);

Iekārtas, kuras konstruētas ierīču apstrādei, lietojot tiešās rakstīšanas metodes, un kurām ir visi šādi raksturlielumi:

a.	novirzīts fokusēts elektronu kūlis; un

kam ir kāda no šādām īpašībām:

1.	minimālais kūļa izmērs ir 15 nm vai mazāks; vai

2.	pārklājuma kļūda ir mazāka par 27 nm (vidējais + 3 sigmas);”.