Rettifica del regolamento delegato (UE) 2022/1 della Commissione, del 20 ottobre 2021, che modifica il regolamento (UE) 2021/821 del Parlamento europeo e del Consiglio per quanto riguarda l'elenco dei prodotti a duplice uso

( Gazzetta ufficiale dell'Unione europea L 3 del 6 gennaio 2022 )

Pagina 142, nell’allegato, il punto 3B001.f deve leggersi come segue:

«f.

apparecchiature di litografia, come segue:

apparecchiature di allineamento e di esposizione a ripetizione in sequenza (sequenza continua sulla fetta) o di scansione in sequenza (scanner) per il trattamento delle fette che utilizzano metodi foto-ottici o a raggi X, aventi una delle caratteristiche seguenti:

a.	lunghezza d'onda della sorgente luminosa inferiore a 193 nm; o

b.	in grado di produrre un tracciato in cui la 'dimensione dell'elemento di risoluzione minimo' (ERM) è uguale o inferiore a 45 nm; Nota tecnica: La 'dimensione dell'elemento di risoluzione minimo' (ERM) è calcolata con la formula seguente: dove il fattore K = 0,35

apparecchiature di impressione litografica in grado di produrre elementi uguali o inferiori a 45 nm;

Nota:

3B001.f.2. comprende:

—	dispositivi di stampa a microcontatto

—	dispositivi di termoimpressione

—	dispositivi litografici per nanostampa

—	dispositivi di impressione litografica Step and Flash (S-FIL).

apparecchiature appositamente progettate per la produzione di maschere aventi tutte le caratteristiche seguenti:

a.	un fascio elettronico focalizzato deflesso, un fascio ionico o un fascio "laser"; e

aventi una delle caratteristiche seguenti:

1.	dimensione del punto FWHM (larghezza a mezza altezza) inferiore a 65 nm e valore di posizionamento dell'immagine inferiore a 17 nm (media + 3 sigma); o

2.	non utilizzato;

3.	errore di sovrapposizione del secondo strato inferiore a 23 nm (media + 3 sigma) sulla maschera;

apparecchiature progettate per il trattamento di dispositivi con metodi di scrittura diretta, aventi tutte le caratteristiche seguenti:

a.	fascio elettronico focalizzato deflesso; e

aventi una delle caratteristiche seguenti:

1.	dimensione minima del fascio uguale o inferiore a 15 nm; o

2.	errore di sovrapposizione inferiore a 27 nm (media + 3 sigma);».