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Document 32022R0001R(01)

Rettifica del regolamento delegato (UE) 2022/1 della Commissione, del 20 ottobre 2021, che modifica il regolamento (UE) 2021/821 del Parlamento europeo e del Consiglio per quanto riguarda l'elenco dei prodotti a duplice uso (Gazzetta ufficiale dell'Unione europea L 3 del 6 gennaio 2022)

OJ L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

IT

Gazzetta ufficiale dell’Unione europea

L 20/282


Rettifica del regolamento delegato (UE) 2022/1 della Commissione, del 20 ottobre 2021, che modifica il regolamento (UE) 2021/821 del Parlamento europeo e del Consiglio per quanto riguarda l'elenco dei prodotti a duplice uso

( Gazzetta ufficiale dell'Unione europea L 3 del 6 gennaio 2022 )

Pagina 142, nell’allegato, il punto 3B001.f deve leggersi come segue:

«f.

apparecchiature di litografia, come segue:

1.

apparecchiature di allineamento e di esposizione a ripetizione in sequenza (sequenza continua sulla fetta) o di scansione in sequenza (scanner) per il trattamento delle fette che utilizzano metodi foto-ottici o a raggi X, aventi una delle caratteristiche seguenti:

a.

lunghezza d'onda della sorgente luminosa inferiore a 193 nm; o

b.

in grado di produrre un tracciato in cui la 'dimensione dell'elemento di risoluzione minimo' (ERM) è uguale o inferiore a 45 nm;

Nota tecnica:

La 'dimensione dell'elemento di risoluzione minimo' (ERM) è calcolata con la formula seguente:

Image 1

dove il fattore K = 0,35

2.

apparecchiature di impressione litografica in grado di produrre elementi uguali o inferiori a 45 nm;

Nota:

3B001.f.2. comprende:

dispositivi di stampa a microcontatto

dispositivi di termoimpressione

dispositivi litografici per nanostampa

dispositivi di impressione litografica Step and Flash (S-FIL).

3.

apparecchiature appositamente progettate per la produzione di maschere aventi tutte le caratteristiche seguenti:

a.

un fascio elettronico focalizzato deflesso, un fascio ionico o un fascio "laser"; e

b.

aventi una delle caratteristiche seguenti:

1.

dimensione del punto FWHM (larghezza a mezza altezza) inferiore a 65 nm e valore di posizionamento dell'immagine inferiore a 17 nm (media + 3 sigma); o

2.

non utilizzato;

3.

errore di sovrapposizione del secondo strato inferiore a 23 nm (media + 3 sigma) sulla maschera;

4.

apparecchiature progettate per il trattamento di dispositivi con metodi di scrittura diretta, aventi tutte le caratteristiche seguenti:

a.

fascio elettronico focalizzato deflesso; e

b.

aventi una delle caratteristiche seguenti:

1.

dimensione minima del fascio uguale o inferiore a 15 nm; o

2.

errore di sovrapposizione inferiore a 27 nm (media + 3 sigma);».


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