Helyesbítés a kettős felhasználású termékek kivitelére, transzferjére, brókertevékenységére és tranzitjára vonatkozó közösségi ellenőrzési rendszer kialakításáról szóló 428/2009/EK tanácsi rendelet módosításáról szóló, 2019. október 17-i (EU) 2019/2199 felhatalmazáson alapuló bizottsági rendelethez
(
Az Európai Unió Hivatalos Lapja L 338., 2019. december 30.
)
A 129. oldalon, az f. pont helyébe a következő szöveg lép:
|
„f.
|
litográfiai berendezés, az alábbiak szerint:
|
1.
|
A fotóoptikai vagy röntgen módszerrel történő szeletfeldolgozásra szolgáló irányzó, exponáló és ismétlő (közvetlen szeletre fotózás) vagy exponáló és letapogató (letapogatás) berendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:
|
a.
|
a fényforrás hullámhosszúsága rövidebb, mint 193 nm; vagy
|
|
b.
|
Képes 45 nm, vagy annál kisebb ’minimális felbontási méretű’ (MRF) minta létrehozására.
Műszaki megjegyzés:
A ’minimális felbontási méret’ (MRF) kiszámítása a következők szerint történik:
ahol a „K” faktor = 0,35
|
|
|
2.
|
45 nm vagy annál kisebb felbontási méretű minta létrehozására képes imprinting litográfiai berendezés;
Megjegyzés:A 3B001.f.2. pont magában foglalja az alábbiakat:
|
—
|
mikrokontaktus-nyomtatók
|
|
—
|
forró dombornyomásra szolgáló eszközök
|
|
—
|
nano-imprinting litográfiai eszközök
|
|
—
|
Step and Flesh imprinting litográfiai (S-FIL) eszközök
|
|
|
3.
|
kifejezetten maszkkészítésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbiak mindegyikével:
|
a.
|
eltérített fókuszált elektronsugár, ionsugár, vagy „lézersugár”; és
|
|
b.
|
Rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:
|
1.
|
a félértékszélességű sugárpont mérete kisebb mint 65 nm és a képelhelyezés kisebb mint 17 nm (számtani közép + 3 szigma); vagy
|
|
3.
|
a maszkon a második rétegi átfedési hibája kisebb mint 23 nm (számtani közép + 3 szigma);
|
|
|
|
4.
|
eszköz gyártására tervezett berendezés, amely közvetlen írásos módszert alkalmaz, és amely rendelkezik az alábbi jellemzők mindegyikével:
|
a.
|
eltérített fókuszált elektronsugár; és
|
|
b.
|
rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:
|
1.
|
a sugár minimális mérete 15 nm vagy annál kisebb; vagy
|
|
2.
|
az átfedési hiba kisebb mint 27 nm (számtani közép + 3 szigma);”
|
|
|
|