Helyesbítés a kettős felhasználású termékek kivitelére, transzferjére, brókertevékenységére és tranzitjára vonatkozó közösségi ellenőrzési rendszer kialakításáról szóló 428/2009/EK tanácsi rendelet módosításáról szóló, 2018. október 10-i (EU) 2018/1922 felhatalmazáson alapuló bizottsági rendelethez

( Az Európai Unió Hivatalos Lapja L 319., 2018. december 14. )

„3.

kifejezetten maszkkészítésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbiak mindegyikével:

a.	eltérített fókuszált elektronsugár, ionsugár, vagy „lézersugár”; és

Rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.	a félértékszélességű sugárpont mérete kisebb mint 65 nm és a képelhelyezés kisebb mint 17 nm (számtani közép + 3 szigma); vagy

2.	nem használt;

3.	a maszkon a második rétegi átfedési hibája kisebb mint 23 nm (számtani közép + 3 szigma);

eszköz gyártására tervezett berendezés, amely közvetlen írásos módszert alkalmaz, és amely rendelkezik az alábbi jellemzők mindegyikével:

a.	eltérített fókuszált elektronsugár; és

rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.	a sugár minimális mérete 15 nm vagy annál kisebb; vagy

2.	az átfedési hiba kisebb mint 27 nm (számtani közép + 3 szigma);”,

„3.

kifejezetten maszkkészítésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbiak mindegyikével:

a.	eltérített fókuszált elektronsugár, ionsugár, vagy „lézersugár”; és

Rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.	a félértékszélességű sugárpont mérete kisebb mint 65 nm és a képelhelyezés kisebb mint 17 nm (számtani közép + 3 szigma); vagy

2.	nem használt;

3.	a maszkon a második rétegi átfedési hibája kisebb mint 23 nm (számtani közép + 3 szigma);

eszköz gyártására tervezett berendezés, amely közvetlen írásos módszert alkalmaz, és amely rendelkezik az alábbi jellemzők mindegyikével:

a.	eltérített fókuszált elektronsugár; és

rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.	a sugár minimális mérete 15 nm vagy annál kisebb; vagy

2.	az átfedési hiba kisebb mint 27 nm (számtani közép + 3 szigma);”.