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Document 32018R1922R(04)

Rectificatif au règlement délégué (UE) 2018/1922 de la Commission du 10 octobre 2018 modifiant le règlement (CE) n° 428/2009 du Conseil instituant un régime communautaire de contrôle des exportations, des transferts, du courtage et du transit de biens à double usage (JO L 319 du 14.12.2018)

OJ L 105, 16.4.2019, p. 67–67 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2018/1922/corrigendum/2019-04-16/oj

16.4.2019   

FR

Journal officiel de l'Union européenne

L 105/67

Rectificatif au règlement délégué (UE) 2018/1922 de la Commission du 10 octobre 2018 modifiant le règlement (CE) no 428/2009 du Conseil instituant un régime communautaire de contrôle des exportations, des transferts, du courtage et du transit de biens à double usage

( «Journal officiel de l'Union européenne» L 319 du 14 décembre 2018 )

Page 129, sous l'entrée 3B001.f., l'alignement des points 3 et 4 est rectifié comme suit:

au lieu de:

«3.

équipements spécialement conçus pour la production de masques et présentant toutes les caractéristiques suivantes:

a.

un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau “laser” avec focalisation et balayage du faisceau; et

b.

présentant l'une des caractéristiques suivantes:

1.

ayant une largeur à mi-hauteur (LMH) du spot inférieure à 65 mm et un placement d'image de moins de 17 nm (moyenne + 3 sigma); ou

2.

non utilisé;

3.

erreur de chevauchement pour la deuxième couche inférieure à 23 nm (moyenne + 3 sigma) sur le masque;

4.

équipements conçus pour le traitement de dispositifs utilisant des méthodes d'écriture directe et présentant toutes les caractéristiques suivantes:

a.

un faisceau électronique avec focalisation et balayage du faisceau; et

b.

présentant l'une des caractéristiques suivantes:

1.

une taille minimale du faisceau égale ou inférieure à 15 nm; ou

2.

une erreur de chevauchement inférieure à 27 nm (moyenne + 3 sigma);»

lire:

«3.

équipements spécialement conçus pour la production de masques et présentant toutes les caractéristiques suivantes:

a.

un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau “laser” avec focalisation et balayage du faisceau; et

b.

présentant l'une des caractéristiques suivantes:

1.

ayant une largeur à mi-hauteur (LMH) du spot inférieure à 65 mm et un placement d'image de moins de 17 nm (moyenne + 3 sigma); ou

2.

non utilisé;

3.

erreur de chevauchement pour la deuxième couche inférieure à 23 nm (moyenne + 3 sigma) sur le masque;

4.

équipements conçus pour le traitement de dispositifs utilisant des méthodes d'écriture directe et présentant toutes les caractéristiques suivantes:

a.

un faisceau électronique avec focalisation et balayage du faisceau; et

b.

présentant l'une des caractéristiques suivantes:

1.

une taille minimale du faisceau égale ou inférieure à 15 nm; ou

2.

une erreur de chevauchement inférieure à 27 nm (moyenne + 3 sigma);»
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