Choose the experimental features you want to try

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32018R1922R(04)

    Oikaisu komission delegoituun asetukseen (EU) 2018/1922, annettu 10 päivänä lokakuuta 2018, kaksikäyttötuotteiden vientiä, siirtoa, välitystä ja kauttakulkua koskevan yhteisön valvontajärjestelmän perustamisesta annetun neuvoston asetuksen (EY) N:o 428/2009 muuttamisesta (EUVL L 319, 14.12.2018)

    EUVL L 105, 16.4.2019, p. 67–67 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

    ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2018/1922/corrigendum/2019-04-16/oj

    16.4.2019   

    FI

    Euroopan unionin virallinen lehti

    L 105/67


    Oikaisu komission delegoituun asetukseen (EU) 2018/1922, annettu 10 päivänä lokakuuta 2018, kaksikäyttötuotteiden vientiä, siirtoa, välitystä ja kauttakulkua koskevan yhteisön valvontajärjestelmän perustamisesta annetun neuvoston asetuksen (EY) N:o 428/2009 muuttamisesta

    ( Euroopan unionin virallinen lehti L 319, 14. joulukuuta 2018 )

    Sivulla 129, ryhmässä 3B001.f., korjataan kohtien 3 ja 4 tasaus:

    on:

    ”3.

    Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu maskien valmistukseen ja joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:

    a.

    Poikkeutettu ja fokusoitu elektronisuihku, ionisuihku tai ”laser”säde; ja

    b.

    Niillä on jokin seuraavista:

    1.

    Puoliarvoleveyden (FWHM) pistekoko pienempi kuin 65 m ja kuvan sijoitus alle 17 nm (keskiarvo + 3 sigmaa); tai

    2.

    Ei käytössä;

    3.

    Toisen kerroksen kohdistusvirhe alle 23 nm (keskiarvo + 3 sigmaa) maskissa;

    4.

    Laitteet, jotka on suunniteltu laitteiden prosessointiin käyttäen suoria kirjoitusjärjestelmiä (direct writing methods), joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:

    a.

    Poikkeutettu ja fokusoitu elektronisuihku; ja

    b.

    Niillä on jokin seuraavista:

    1.

    Suihkun vähimmäiskoko enintään 15 nm; tai

    2.

    Kohdistusvirhe alle 27 nm (keskiarvo + 3 sigmaa);”

    pitää olla:

    ”3.

    Laitteet, jotka on erityisesti suunniteltu maskien valmistukseen ja joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:

    a.

    Poikkeutettu ja fokusoitu elektronisuihku, ionisuihku tai ”laser”säde; ja

    b.

    Niillä on jokin seuraavista:

    1.

    Puoliarvoleveyden (FWHM) pistekoko pienempi kuin 65 m ja kuvan sijoitus alle 17 nm (keskiarvo + 3 sigmaa); tai

    2.

    Ei käytössä;

    3.

    Toisen kerroksen kohdistusvirhe alle 23 nm (keskiarvo + 3 sigmaa) maskissa;

    4.

    Laitteet, jotka on suunniteltu laitteiden prosessointiin käyttäen suoria kirjoitusjärjestelmiä (direct writing methods), joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:

    a.

    Poikkeutettu ja fokusoitu elektronisuihku; ja

    b.

    Niillä on jokin seuraavista:

    1.

    Suihkun vähimmäiskoko enintään 15 nm; tai

    2.

    Kohdistusvirhe alle 27 nm (keskiarvo + 3 sigmaa);”


    Top