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Document 32019R2199R(01)

Corrección de errores del Reglamento Delegado (UE) 2019/2199 de la Comisión, de 17 de octubre de 2019, que modifica el Reglamento (CE) n.o 428/2009 del Consejo, por el que se establece un régimen comunitario de control de las exportaciones, la transferencia, el corretaje y el tránsito de productos de doble uso (Diario Oficial de la Unión Europea L 338 de 30 de diciembre de 2019)

DO L 51 de 25.2.2020, p. 17–17 (ET)
DO L 51 de 25.2.2020, p. 13–13 (BG, ES, CS, DA, EL, IT, LV, LT, MT, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)
DO L 51 de 25.2.2020, p. 14–14 (DE, EN, FR, HR, HU, NL)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2019/2199/corrigendum/2020-02-25/oj

25.2.2020   

ES

Diario Oficial de la Unión Europea

L 51/13

Corrección de errores del Reglamento Delegado (UE) 2019/2199 de la Comisión, de 17 de octubre de 2019, que modifica el Reglamento (CE) n.o 428/2009 del Consejo, por el que se establece un régimen comunitario de control de las exportaciones, la transferencia, el corretaje y el tránsito de productos de doble uso

( Diario Oficial de la Unión Europea L 338 de 30 de diciembre de 2019 )

En la página 129, la letra f se sustituye por el texto siguiente:

«f.

Equipos de litografía según se indica:

1.

Equipos de alineación y exposición, por paso y repetición (paso directo en la oblea) o por paso y exploración (explorador), para el proceso de obleas utilizando métodos fotoópticos o de rayos X y que posean cualquiera de las características siguientes:

a.

Longitud de onda de la fuente luminosa inferior a 193 nm, o

b.

Capacidad de producir un patrón cuyo ‘tamaño de la característica resoluble mínima’ (MRF) sea igual o inferior a 45 nm

Nota técnica: El ‘tamaño de la característica resoluble mínima’ (MRF) se calcula mediante la siguiente fórmula: Image 1 siendo el factor K = 0,35.

2.

Equipos de impresión litográfica que puedan producir características de 45 nm de base o menos

Nota:El subartículo 3B001.f.2 incluye:

—

Instrumentos de impresión por microcontacto

—

Instrumentos de troquelado en caliente

—

Instrumentos de nanoimpresión litográfica

—

Instrumentos de impresión litográfica S-FIL (step and flash).

3.

Equipos diseñados especialmente para la fabricación de máscaras, que reúnan todas las características siguientes:

a.

Un haz de electrones, un haz de iones o un haz «láser», enfocado y desviable, y

b.

Que posean cualquiera de las características siguientes:

1.

Un tamaño de anchura de altura media (FWHM) del haz en el impacto (spot) inferior a 65 nm y una colocación de imagen inferior a 17 nm (media + 3 sigma), o

2.

Sin uso

3.

Un error de recubrimiento de la segunda capa inferior a 23 nm (media + 3 sigma) de la máscara 3B001.f. (continuación)

4.

Equipos diseñados para el proceso de dispositivos, utilizando métodos de escritura directa, que reúnan todas las características siguientes:

a.

Un haz de electrones enfocado y desviable, y

b.

Que posean cualquiera de las características siguientes:

1.

Un tamaño mínimo del haz inferior o igual a 15 nm, o

2.

Un error de recubrimiento inferior a 27 nm (media + 3 sigma)».
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