Поправка на Делегиран регламент (ЕС) 2019/2199 на Комисията от 17 октомври 2019 година за изменение на Регламент (ЕО) № 428/2009 на Съвета за въвеждане режим на Общността за контрол на износа, трансфера, брокерската дейност и транзита на изделия и технологии с двойна употреба

( Официален вестник на Европейския съюз L 338 от 30 декември 2019 г. )

На страница 129 буква f се заменя със следното:

“f.

Литографско оборудване, както следва:

Оборудване за изравняващи и експониращи стъпки и повторения (директна стъпка върху пластина) или сканиращо оборудване (скенери) за обработка на пластина с използване на фотооптични и рентгенови методи или притежаващо която и да е от следните характеристики:

a.	Дължина на вълната на светлинния източник, по-къса от 193 nm; или

b.	Способно да оформя растер (модел) с размер на ’минималната различима единица’ (MRF) от 45 nm или по-малка; Техническа бележка: ’Минималната различима единица’ (MRF) се пресмята по следната формула: където факторът K = 0,35

Оборудване за литографски печат, способно да печата елементи от 45 nm или по-малки;

Бележка: 3B001.f.2. включва:

—	Инструменти за микроконтактен печат

—	Инструменти за горещо щамповане

—	Инструменти за литографски нанопечат

—	Инструменти за литографски печат S-FIL (step and flash imprint lithography tools)

Оборудване, специално проектирано за изработване на маски, притежаващо всички изброени по-долу характеристики:

a.	Отклонен фокусиран електронен лъч, йонен лъч или „лазерен“ лъч; и

С която и да е от следните характеристики:

1.	Размер на пълната широчина на светлинното петно при половината от максимума (full-width half-maximum — FWHM) под 65 nm и позициониране на изображението под 17 nm (средна стойност + 3 sigma); или

2.	Не се използва;

3.	Отклонение в покритието при втория слой на маската под 23 nm (средна стойност + 3 сигма);

Оборудване, проектирано за обработка на устройства, използващо методи за директен печат и имащо всички изброени по-долу характеристики:

a.	Отклонен фокусиран електронен лъч; и

С която и да е от следните характеристики:

1.	Минимален размер на светлинния лъч, равен или по-малък от 15 nm; или

2.	Отклонение в покритието под 27 nm (средна стойност + 3 сигма);“