Help Print this page 
Title and reference
Verordening (EG) nr. 1504/2004 van de Raad van 19 juli 2004 tot wijziging en tot bijwerking van Verordening (EG) nr. 1334/2000 tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer van producten en technologie voor tweeërlei gebruik

OJ L 281, 31.8.2004, p. 1–225 (ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, IT, LV, LT, HU, NL, PL, PT, SK, SL, FI, SV)
Languages, formats and link to OJ
Multilingual display
Text

31.8.2004   

NL

Publicatieblad van de Europese Unie

L 281/1


VERORDENING (EG) Nr. 1504/2004 VAN DE RAAD

van 19 juli 2004

tot wijziging en tot bijwerking van Verordening (EG) nr. 1334/2000 tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer van producten en technologie voor tweeërlei gebruik

DE RAAD VAN DE EUROPESE UNIE,

Gelet op het Verdrag tot oprichting van de Europese Gemeenschap, en met name op artikel 133,

Gezien het voorstel van de Commissie,

Overwegende hetgeen volgt:

(1)

Overeenkomstig Verordening (EG) nr. 1334/2000 (1) dienen producten (met inbegrip van software en technologie) voor tweeërlei gebruik bij uitvoer uit de Gemeenschap aan doeltreffende controle te worden onderworpen.

(2)

Om de lidstaten en de Gemeenschap in staat te stellen aan hun internationale verplichtingen te voldoen, is in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 een gemeenschappelijke lijst opgenomen van producten en technologie voor tweeërlei gebruik als bedoeld in artikel 3 van die verordening. Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder de regeling van Wassenaar, de Missile Technology Control Regime, de Groep van nucleaire exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens.

(3)

Artikel 11 van Verordening (EG) nr. 1334/2000 bepaalt dat de bijlagen I en IV worden bijgewerkt overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en verbintenissen en alle wijzigingen daarin waarmee een lidstaat heeft ingestemd als partij bij de internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen.

(4)

Bijlage I bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 dient te worden gewijzigd overeenkomstig de wijzigingen die zijn goedgekeurd door de regeling van Wassenaar, de Australiëgroep en de Missile Technology Control Regime na de wijzigingen die in deze verordening worden aangebracht bij Verordening (EG) nr. 149/2003 (2) op 27 januari 2003.

(5)

Deel 3 van bijlage II bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 is bij Verordening (EG) nr. 885/2004 zo gewijzigd dat Tsjechië, Hongarije en Polen zijn geschrapt van de lijst van landen waarop de communautaire uitvoervergunning van toepassing is.

(6)

Teneinde de raadpleging door instanties op het gebied van exportcontrole en bedrijfsleven te vereenvoudigen, dient een bijgewerkte en geconsolideerde versie van de bijlagen bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 te worden gepubliceerd, waarin alle door de lidstaten van december 2002 tot december 2003 op internationale fora aanvaarde wijzigingen zijn verwerkt.

(7)

Verordening (EG) nr. 1334/2000 moet dienovereenkomstig worden gewijzigd,

HEEFT DE VOLGENDE VERORDENING VASTGESTELD:

Artikel 1

De bijlagen bij Verordening (EG) nr. 1334/2000 worden vervangen door de tekst in de bijlage bij deze verordening.

Artikel 2

Deze verordening treedt in werking op de dertigste dag volgende op die van haar bekendmaking in het Publicatieblad van de Europese Unie.

Deze verordening is verbindend in al haar onderdelen en is rechtstreeks toepasselijk in elke lidstaat.

Gedaan te Brussel, 19 juli 2004.

Voor de Raad

De voorzitter

P. H. DONNER


(1)  PB L 159 van 30.6.2000, blz. 1. Verordening laatstelijk gewijzigd bij Verordening (EG) nr. 885/2004 (PB L 168 van 1.5.2004, blz. 1).

(2)  PB L 30 van 5.2.2003, blz. 1.


BIJLAGE I

LIJST VAN PRODUCTEN EN TECHNOLOGIE VOOR TWEEËRLEI GEBRUIK

(bedoeld in artikel 3 van Verordening (EG) nr. 1334/2000)

Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder het Wassenaar Arrangement, het "Missile Technology Control Regime", de Groep van nucleaire exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens. Er is geen rekening gehouden met eventuele posten die lidstaten op een exclusion list wensen te plaatsen. Er is geen rekening gehouden met eventuele nationale vergunningsregelingen (niet onder deze regeling vallende embargo’s) van de lidstaten.

ALGEMENE NOTEN BIJ BIJLAGE I

1.

Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de "Lijst militaire goederen" hebben betrekking op deze lijst.

2.

De doelstelling van de controle op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip van fabrieken) die één of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend.

NB: Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element dienen te worden aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en technologische know-how alsmede andere bijzondere omstandigheden op grond waarvan de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen worden aangemerkt, een rol te spelen.

3.

Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld.

NUCLEAIRE TECHNOLOGIENOOT (NTN)

(Te lezen in samenhang met sectie E van categorie 0)

De "technologie" die rechtstreeks samenhangt met goederen die in categorie 0 vallen, valt onder de bepalingen van categorie 0.

"Technologie" voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen.

Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de uitvoer naar dezelfde eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van de goederen is toegestaan.

Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, en op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek".

ALGEMENE TECHNOLOGIENOOT (ATN)

(Te lezen als onderdeel van sectie E van de categorieën 1 tot en met 9)

De uitvoer van "technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", "productie" of het "gebruik" van in de categorieën 1 tot en met 9 bedoelde goederen is onderworpen aan de op de categorieën 1 tot en met 9 van toepassing zijnde bepalingen.

"Technologie" die "noodzakelijk" is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen.

De vergunningsplicht geldt niet voor de minimaal noodzakelijke "technologie" voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van niet onder de vergunningsplicht vallende goederen of op de goederen waarvan de uitvoer is toegestaan.

NB: Deze bepaling laat de embargostatus van de in 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a en 8E002.b bedoelde "technologie" onverlet.

Vergunningsregelingen voor overdracht van "technologie" zijn niet van toepassing op informatie die "voor iedereen beschikbaar" is, op "fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" en op de voor octrooiaanvragen noodzakelijke minimuminformatie.

ALGEMENE PROGRAMMATUURNOOT (APN)

(Deze noot heeft voorrang boven het bepaalde in sectie D van de categorieën 0 tot en met 9)

De categorieën 0 tot en met 9 van deze lijst zijn niet van toepassing op programmatuur die:

a.

algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de "programmatuur":

1.

via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:

a.

winkelverkoop;

b.

postorderverkoop;

c.

elektronische transacties, of

d.

telefonische verkoop, en

2.

is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier, of

NB: Punt a) van de Algemene programmatuurnoot laat de embargostatus van de in categorie 5 — deel 2 ("Informatiebeveiliging") bedoelde "programmatuur" onverlet.

b.

"voor iedereen beschikbaar" is.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN

De definitie van termen tussen ‧enkele aanhalingstekens‧ wordt gegeven in een technische noot bij de betrokken post.

De definitie van de termen tussen "dubbele aanhalingstekens" luidt als volgt (1):

NB: Na elke gedefinieerde term wordt tussen haakjes verwezen naar de betrokken categorie(ën).

 

"Aangepast voor gebruik in oorlogssituaties" (1): iedere aanpassing of selectie (zoals een wijziging van de zuiverheid, houdbaarheid, virulentie, verspreidingskenmerken, of weerstand tegen UV-straling) die tot doel heeft de werkzaamheid te verhogen ten aanzien van menselijke of dierlijke slachtoffers, schade aan uitrusting of aan gewassen, en aantasting van het milieu.

 

"Actieve pixel" (6 8): het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-"array" dat nog een foto-elektrische overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling aan elektromagnetische straling (licht).

 

"Actieve vluchtregelsystemen" (7): actieve vluchtregelsystemen werken zodanig dat ongewenste bewegingen of structurele belastingen van "vliegtuig" of raket kunnen worden voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van meerdere sensoren waarna preventieve commando’s voor automatische regeling worden gegeven.

 

"Aërodynamische vlakken met variabel profiel" (7): deze worden verkregen door flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden knikkende voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden.

 

"Afstembaar" (6): het vermogen van een "laser" om binnen een gebied van verschillende "laser"-overgangen bij elke golflengte een continu-vermogen op te wekken. Een laser die slechts kan werken op een beperkt aantal vaste golflengten ‹line selectable› wekt discrete golflengten op binnen één "laser"-overgang en wordt niet beschouwd als "afstembaar".

 

"Asymmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie een andere wiskundige sleutel wordt gebruikt dan voor decryptie.

NB: Voor sleutelbeheer worden gewoonlijk "asymmetrische algoritmen" gebruikt.

 

"Automatisch volgen van het doel" (6): een verwerkingstechniek waarbij automatisch en tijdgebonden een geëxtrapoleerde waarde van de meest waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal afgegeven.

 

"Axiale slag" (2): axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil, gemeten in een vlak loodrecht op de stelplaat van de spil aan een punt dat grenst aan de omtrek van de stelplaat van de spil. (Referentie: ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.63)

 

"Band" (1): een materiaal dat bestaat uit in elkaar gevlochten of in één richting liggende "monofilamenten", ‧strengen‧, "‹rovings›", "linten" of "garens", enz., gewoonlijk geïmpregneerd met hars.

NB:‧streng‧: een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen.

 

"Beeldverbetering" (4): het verwerken van elders verkregen informatiedragende beelden met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bijvoorbeeld de snelle Fourier-transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh transformatie (‹Walsh transform›)). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts lineaire of draaiende omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken, registratie of het vals kleuren.

 

"Bias" (versnellingsmeters) (7): uitgangssignaal van een versnellingsmeter bij afwezigheid van versnelling.

 

"Binnenbekleding" (9): de hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of isolerende bekleding. Doorgaans een op vloeibare polymeren gebaseerde dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bijvoorbeeld polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB) met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer waaraan hardingsmiddelen zijn toegevoegd, waarmee het inwendige van een omhulling wordt gespoten of bestreken.

 

"Broncode" (of brontaal) (4 6 7 9): een geschikte expressie van één of meer processen, die door een programmeersysteem kan worden omgezet in een door apparatuur uitvoerbare vorm ("objectcode" (of doeltaal)).

 

"CE": rekenelement (computing element).

 

"CEP" (circle of equal probability - 50%-trefkanscirkel) (7): een maat voor de nauwkeurigheid; de straal van de cirkel met het doel in het middelpunt bij een bepaald bereik waarbinnen 50% van de nuttige ladingen terechtkomen.

 

"Chemische laser" (6): een "laser" waarin de geëxciteerde stof wordt geproduceerd door de door een chemische reactie voortgebrachte energie.

 

"Chemisch mengsel" (1): een vast, vloeibaar of gasvormig product dat bestaat uit twee of meer bestanddelen die niet samen reageren onder de omstandigheden waarin het mengsel is opgeslagen.

 

"Civiele vliegtuigen" (1 7 9): die types "vliegtuigen" die als zodanig zijn aangeduid in gepubliceerde overzichten van luchtwaardigheidsbewijzen van de civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële binnenlandse en buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé of zakelijk gebruik.

NB: Zie ook "vliegtuigen".

 

"Communicatiekanaalbesturingseenheid" (4): de fysieke verbinding die de stroom synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd ten einde toegang tot de communicatie te verschaffen.

 

"Composiet" (1 2 6 8 9): een "matrix" en één of meer toegevoegde fasen bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere combinatie daarvan, aanwezig voor een specifiek doel of voor specifieke doelen.

 

"Contourbesturen" (2): twee of meer "numeriek bestuurde" bewegingen volgens instructies die de eerstvolgende vereiste positie en de vereiste voedingssnelheden naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in afhankelijkheid van elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen (Referentie: ISO/DIS 2806-1980).

 

"Cryptografie" (5): de tak van wetenschap die zich bezighoudt met de grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het omzetten van gegevens teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. "Cryptografie" is beperkt tot het omzetten van gegevens met gebruikmaking van één of meer ‧geheime parameters‧ (b.v. cryptovariabelen) of aanverwante sleutels.

NB: Een ‧geheime parameter‧ is een constante of sleutel die voor anderen geheim wordt gehouden of slechts binnen een groep bekend wordt gemaakt.

 

"CTP": "totale theoretische prestatie" (‹composite theoretical performance›).

 

"DBRN" staat voor "navigatie met als referentie een gegevensbestand" ("Data-Based Referenced Navigation") (zie aldaar).

 

"Deelnemende staat" (7 9): een staat die deelneemt aan het "Wassenaar Arrangement". (zie www.wassenaar.org)

 

"Diffusielassen" (1 2 9): het in de vaste fase (‹solid-state›) moleculair met elkaar verbinden van tenminste twee aparte metalen tot één stuk met een bindingssterkte tenminste gelijk aan die van het zwakste materiaal.

 

"Digitale computer" (4 5): een apparaat dat, in de vorm van één of meer discrete variabelen, alle volgende functies kan verrichten:

a.

gegevens opnemen;

b.

gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens opslaan;

c.

gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten kan verwerken; en

d.

gegevens afgeven.

NB: Onder veranderen van een opgeslagen reeks opdrachten wordt mede verstaan het vervangen van onuitwisbare geheugenelementen, doch hieronder valt niet het in fysieke zin wijzigen van bedrading of onderlinge verbindingen.

 

"Digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" ("FADEC") (7 9): elektronische regelapparatuur voor gasturbinemotoren of motoren met een gecombineerde thermodynamische cyclus waarbij gebruik wordt gemaakt van een digitale computer voor de regeling van de variabelen die nodig zijn ter regeling van de stuwkracht of het afgegeven effectieve vermogen over het hele werkbereik van de motor vanaf het begin van de meting van de brandstoftoevoer tot het afsluiten van de brandstoftoevoer.

 

"Digitale overbrengsnelheid": de totale bitsnelheid van de informatie die direct wordt overgebracht op ieder type medium.

NB: Zie ook "totale digitale overbrengsnelheid"

 

"Direct hydraulisch persen" (2): een vervormingsproces, waarbij gebruik wordt gemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas die in direct contact staat met het werkstuk.

 

"Door de ITU toegewezen" (3 5): toewijzing van de frequentiebanden overeenkomstig het Radioreglement van de ITU (uitgave 1998) voor primaire, toegelaten en secundaire diensten.

NB: Extra en alternatieve toewijzingen vallen hier niet onder.

 

"Door opwerking verkregen" (0 1): het toepassen van ieder procédé dat tot doel heeft het gehalte van het betrokken isotoop te doen toenemen.

 

"Drukomzetters" (2): inrichtingen die de gemeten druk omzetten in een elektrisch signaal.

 

"Dynamische adaptieve routebepaling" (5): automatische aanpassing van de route van verkeer op basis van de waarneming en analyse van actuele feitelijke netwerkomstandigheden.

NB: Hieronder vallen niet de beslissingen ten aanzien van routebepaling aan de hand van vooraf vastgelegde gegevens.

 

"Dynamische signaalanalysatoren" (3): "Signaalanalysatoren" waarbij gebruik wordt gemaakt van digitale bemonsterings- en omzettingstechnieken ter verkrijging van een Fourier-spectrumafbeelding van een gegeven golfvorm met inbegrip van gegevens betreffende amplitude en fase.

NB: Zie ook "signaalanalysatoren"

 

"Eénkanaalsignalering" (‹common channel signalling›) (5): een methode van signalering, waarbij met behulp van berichten met label via een enkel kanaal signaleringsinformatie die betrekking heeft op een veelheid van lijnen of oproepen alsmede andere informatie, b.v. informatie gebruikt bij het beheer van netwerken, tussen schakelcentrales wordt overgebracht.

 

"Effectieve gram" (0 1). Onder een "effectieve gram" (0 1) van "speciale splijtstoffen" wordt verstaan:

a.

voor plutoniumisotopen en uraan-233: het gewicht van de isotoop in gram;

b.

voor uraan dat 1% of meer verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding;

c.

voor uraan dat minder dan 1% verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met 0,0001.

 

"Eindeffectors" (2): grijpers, ‧actieve gereedschapseenheden‧ en alle andere gereedschappen die zijn verbonden met de grondplaat aan het uiteinde van de manipulatiearmen van een "robot".

NB: Een ‧actieve gereedschapseenheid‧ is een voorziening die beweegkracht of procesenergie op het werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan verzorgt.

 

"Elektronisch bestuurbare fase-gestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes" (‹phased array antenna›) (5 6)

Een antenne waarbij de bundel wordt gevormd door middel van fase-koppeling, d.w.z. de bundelrichting wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de uitstralende elementen en de richting van die bundel kan in azimut of hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een elektrisch signaal bij zowel uitzending als ontvangst.

 

"Equivalente dichtheid" (6): de massa van een optisch element per optische oppervlakte-eenheid, geprojecteerd op het optisch oppervlak.

 

"Expert systemen" (7): systemen die hun resultaten verkrijgen door het toepassen van regels op onafhankelijk van het "programma" opgeslagen gegevens en die één of meer van de volgende functies kunnen vervullen:

a.

automatisch wijzigen van de door de gebruiker ingevoerde "broncode";

b.

verschaffen van kennis betreffende een categorie problemen in een quasi-natuurlijke taal, of

c.

verwerven van de kennis die noodzakelijk is voor de ontwikkeling van het systeem (symbolische training).

 

"FADEC" staat voor "digitale elektronische motorregelapparatuur welke volledig zelfstandig in de motorregeling kan ingrijpen" (‹full authority digital engine control›).

 

"«Focal plane array»" (6): een lineaire of tweedimensionale vlakke laag of combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke detectorelementen, met of zonder uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst.

NB: Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of vier elementen vallen hier niet onder, op voorwaarde dat in het element geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt.

 

"Fractionele bandbreedte" (3): de momentele bandbreedte gedeeld door de centrale frequentie, uitgedrukt in procenten.

 

"«Frequency hopping»" (5): een vorm van "spread spectrum" waarbij de zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt verschoven in een willekeurige of pseudo-willekeurige reeks discrete stappen.

 

"Frequentiesynthesizer" (3): elke soort frequentiebron of signaalgenerator, ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek, die een veelheid aan uitgangsfrequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan één of meer uitgangen, en die worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard- (of basis-) frequenties.

 

"Frequentiewisseltijd" (3 5): de maximale tijd (d.w.z. vertraging) welke bij het overschakelen van de ene gekozen uitgangsfrequentie naar een andere benodigd is voor het bereiken van:

a.

een frequentie binnen 100 Hz van de uiteindelijke frequentie; of

b.

een uitgangsniveau liggende binnen 1 dB van het uiteindelijke uitgangsniveau.

 

"Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek" (ATN NTN). Experimenteel of theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en dat in eerste instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk.

 

"Garen" (1): een bundel getwijnde "strengen"

NB:"streng": een bundel "monofilamenten" (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen.

 

"Gebruik" (ATN NTN Alle). Bediening, installatie (met inbegrip van installatie ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie, revisie en opknappen.

 

"Geïnstrumenteerd bereik" (6): het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik van een radar.

 

"Geïntegreerde schakeling van het filmtype" (3): een reeks ‧schakelelementen‧ en metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van een dikke of dunne laag op een isolerend "substraat".

NB: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

 

"Geïsoleerde levende culturen" (1): hieronder vallen levende culturen waarvan de organismen zich in een ruststadium bevinden en levende culturen in gedroogde preparaten.

 

"Gekwalificeerd voor gebruik in de ruimte" (3 6): producten die zijn ontworpen, vervaardigd en getest volgens speciale elektrische, mechanische en omgevingseisen voor gebruik bij het lanceren en opstellen van satellieten of vluchtsystemen die opereren op hoogten van 100 km of meer.

 

"Geleidingssysteem" (7): systemen waarin de meting en berekening van de positie en snelheid van een voertuig (navigatie) worden gecombineerd met de berekening en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van het voertuig om de baan te corrigeren.

 

"Geografisch gespreid" (6): sensoren worden geacht "geografisch gespreid" te zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen op een afstand van meer dan 1 500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd beschouwd als "geografisch gespreid".

 

"Halffabrikaten (‹preforms›) voor koolstofvezels" (1): een geordende verzameling vezels, met of zonder deklaag, bestemd om een raamwerk van een deel te vormen alvorens de "matrix" wordt ingebracht, teneinde een "composiet" te vormen;

 

"Heet isostatisch verdichten" (2): een proces waarbij op een gietstuk bij een temperatuur van meer dan 375 K (102 °C) in een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle richtingen gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden verminderd of geëlimineerd.

 

"Hoekafwijking" (2): het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten hoekpositie nadat de houder van het werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is weggedraaid. (Referentie: VDI/VDE 2617, concept "Draaitafels op coördinaten-meetmachines".)

 

"Hybride computer" (4): apparatuur die alle volgende functies kan verrichten:

a.

gegevens opnemen;

b.

gegevens verwerken, zowel analoge als digitale voorstelling, en

c.

gegevens afgeven.

 

"Hybride geïntegreerde schakeling" (3): elke willekeurige combinatie van geïntegreerde schakelingen, ‧schakelelementen‧ of ‧discrete onderdelen‧ die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en met alle volgende kenmerken:

a.

met tenminste één niet-omhuld element;

b.

onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden voor geïntegreerde schakelingen;

c.

als eenheid vervangbaar; en

d.

gewoonlijk niet demonteerbaar.

NB 1: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

NB 2: Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.

 

"Immunotoxine" (1): een samenvoeging van een celspecifieke monoklonale antistof en een "toxine" of een "sub-eenheid van een toxine" die zieke cellen selectief aantast.

 

"Impulscompressie" (6): codering en verwerking van een radarsignaalimpuls met een lange duur tot een kortstondige impuls, met behoud van de voordelen van een hoge impulsenergie.

 

"Inclusief alle compensaties" (2): nadat alle uitvoerbare maatregelen waarover de fabrikant beschikt om alle systematische instelfouten voor het betrokken werktuigmachinemodel tot een minimum te beperken, bekeken zijn.

 

"Informatiebeveiliging" (4 5): alle middelen en functies ter verzekering van de toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van gegevens of communicaties, zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als beveiliging tegen storingen. Het begrip omvat o.a. "cryptografie", ‧cryptanalyse‧, bescherming tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging.

NB:‧Cryptanalyse‧: de analyse van een cryptografisch systeem of de in- en uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke variabelen of gevoelige gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst.

 

"Intrinsieke magnetische gradiëntmeter" (6): één enkel waarnemingselement voor de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.

NB: Zie ook "magnetische gradiëntmeter".

 

"Isolatie" (9): de isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling, straalpijp, inlaten en afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of half-gevulkaniseerd samengesteld rubber plaatmateriaal dat een isolerend of hittebestendig materiaal omvat. Isolatie kan ook zijn aangebracht in de vorm van moffen of flappen om spanningen te ontlasten.

 

"Isostatische persen" (2): apparatuur, geschikt voor het onder druk brengen van een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een werkstuk of materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend.

 

"Kantelspil" (2): een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de hoek van zijn hartlijn ten opzichte van een andere as kan wijzigen.

 

"Kernreactor" (0): een kernreactor omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd aan het reactorvat, de uitrusting die het vermogensniveau in de kern regelt, alsmede de onderdelen die gewoonlijk het primaire koelmiddel van de reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren.

 

"Kritische temperatuur" (1 3 6): de "kritische temperatuur" (ook wel overgangstemperatuur genoemd) van een bepaald "supergeleidend" materiaal is de temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt.

 

"Laser" (0 2 3 5 6 9): een samenstelling van componenten welke zowel in de ruimte als in de tijd coherent licht produceert dat is versterkt door de gestimuleerde emissie van straling.

NB: zie ook:

 

"chemische laser"

 

"Q-switched laser",

 

"Super High Power Laser",

 

"Transfer laser".

 

"Lineariteit" (2) (gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit): dit is de maximale positieve of negatieve afwijking van het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte lijn die zo is geplaatst dat de maximale afwijkingen gelijk worden gemaakt en geminimaliseerd.

 

"Lint" (1): een bundel "monofilamenten", die gewoonlijk ongeveer parallel lopen.

 

"Lokaal netwerk" (4): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande kenmerken combineert:

a.

het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke ‧datatoestellen‧ in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en

b.

het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bijvoorbeeld een kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn).

NB: Een ‧datatoestel‧ is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale informatie.

 

"Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen" (7): systemen die gebruik maken van lucht die over aërodynamische vlakken wordt geblazen om de door deze oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen.

 

"Magnetische gradiëntmeters" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van de ruimtelijke variaties van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit verscheidene "magnetometers" en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld.

NB: Zie ook "intrinsieke magnetische gradiëntmeter".

 

"Magnetometers" (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit één enkel sensorelement voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van het magnetisch veld.

 

"Materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" (O): koper, roestvrij staal, aluminium, aluminiumoxide, aluminiumlegeringen, nikkel of een legering met 60 of meer gewichtspercenten nikkel en UF6-bestendige gefluoreerde koolwaterstofpolymeren, naar gelang van het soort scheidingsproces.

 

"Matrix" (1 2 8 9): een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes, whiskers of vezels vult.

 

"Mechanisch legeren" (1): een legeringsproces door middel van het binden, breken en opnieuw binden van elementaire of moederlegeringspoeders met behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de legering worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders.

 

"Meetonzekerheid" (2): de kenmerkende parameter die specificeert binnen welk bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde van de te meten variabele ligt met een betrouwbaarheidsniveau van 95 procent. Deze omvat de ongecorrigeerde systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige afwijkingen. (Referentie: ISO 10360-2, of VDI/VDE 2617)

 

"Met opgeslagen programma bestuurd" (2 3 8): een besturing die gebruik maakt van instructies die zijn opgeslagen in een elektronisch geheugen, welke instructies door een processor kunnen worden uitgevoerd om de uitvoering van vooraf bepaalde functies te sturen.

NB: Apparatuur kan "met opgeslagen programma bestuurd" zijn, ook al bevindt het elektronisch geheugen zich niet in het apparaat zelf.

 

"Microcomputer-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit te voeren op basis van gegevens opgeslagen in het interne geheugen.

NB: Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extra geheugen.

 

"Micro-organismen" (1 2): bacteriën, virussen, mycoplasma’s, rickettsiae, chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet.

 

"Microprocessor-microschakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "multichip geïntegreerde schakeling" met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene opdrachten uit te voeren.

NB 1: De "microprocessor-microschakeling" bevat gewoonlijk geen toegankelijkheid van het interne geheugen voor de gebruiker, hoewel op de "chip" aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor uitvoering van de logische functie.

NB 2: Hieronder vallen tevens "chip sets" die zijn ontworpen om samen de functie van een "microprocessor microschakeling" te leveren.

 

"Momentele bandbreedte" (3 5 7): de bandbreedte waarover het uitgangsvermogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van andere werkparameters.

 

"Monofilament" (1) of filament: de kleinste maat vezel, gewoonlijk enkele micrometers in diameter.

 

"Monolithische geïntegreerde schakeling" (3): een combinatie van passieve en/of actieve ‧schakelelementen‧ welke:

a.

wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde ‹chip›;

b.

wordt beschouwd als een ondeelbaar iets; en

c.

de functie(s) uitvoer(t)(en) van een schakeling.

NB: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

 

"Monospectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het vergaren van beeldgegevens van één afzonderlijke spectrumband.

 

"Multichip geïntegreerde schakeling" (3): twee of meer "monolithische geïntegreerde schakelingen", verbonden op een gemeenschappelijk "substraat".

 

"Multispectrale beeldsensoren" (6): deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer afzonderlijke spectrumbanden. Sensoren met meer dan twintig afzonderlijke spectrumbanden worden ook wel hyperspectrale beeldsensoren genoemd.

 

"Natuurlijk uraan" (0): uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur voorkomt.

 

"Navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand" ("DBRN-systemen"): systemen die gebruik maken van verschillende bronnen van eerder gemeten gegevens die aan een geografische referentie zijn toegewezen, welke zijn geïntegreerd om onder dynamische omstandigheden accurate navigatie-informatie te verstrekken. De gegevensbronnen omvatten bathymetrische kaarten, sterrenkaarten, zwaartekrachtkaarten, magnetische kaarten of 3-D digitale terreinkaarten.

 

"Nauwkeurigheid" (6) (gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid): de maximale positieve of negatieve afwijking van een aangegeven waarde ten opzichte van een erkende norm of zuivere waarde.

 

"Netwerktoegangsbesturingseenheid" (4): een fysieke verbinding met een gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een gemeenschappelijk medium dat steeds met dezelfde "digitale overbrengsnelheid" werkt en voor de transmissie gebruikt maakt van ‹arbitration› (bijvoorbeeld ‹token› of ‹carrier sense›). (Dit houdt in dat het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het medium, zodanig dat de apparaten elkaar niet hinderen, bv. door onderlinge toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is). Geheel onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten of gegevensgroepen (bv. IEEE 802). Het is een samenstelling die in computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd om toegang tot de communicatie te verschaffen.

 

"Neurale computer" (4): een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor nabootsing van het gedrag van een neuron of een verzameling neuronen, d.w.z. een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn apparatuur om aan de hand van eerdere gegevens het gewicht en aantal van de onderlinge verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen.

 

"Noodzakelijk" (ATN 1-9): met betrekking tot "technologie" of "programmatuur" wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel van de "technologie" of "programmatuur" dat in het bijzonder verantwoordelijk is voor het bereiken of te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, kenmerken of functies. Verschillende producten kunnen dergelijke noodzakelijke "technologie" of "programmatuur" gemeen hebben.

 

"Numerieke besturing" (2): de automatische besturing van een proces, uitgevoerd door een apparaat dat gebruik maakt van numerieke gegevens die gewoonlijk worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie ISO 2382)

 

"Objectcode" (4 5 9): een door apparatuur uitvoerbare vorm van een geschikte expressie van één of meer processen ("broncode" (brontaal) die door een programmeersysteem is omgezet).

 

"Onafgewerkte substraten" (6): monolithische verbindingen met afmetingen die geschikt zijn voor de productie van optische elementen zoals spiegels of optische vensters.

 

"Onderling verbonden radarsensoren" (6): twee of meer radarsensoren zijn onderling verbonden wanneer zij tijdgebonden onderling gegevens uitwisselen.

 

"Ontwikkeling" (ATN NTN Alle). Dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan serieproductie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek, ontwerpanalyse, ontwerpideeën, assemblage en testen van prototypen, proefproductieplannen, ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een product, ontwerp van configuraties, integratieontwerp, opmaak.

 

"Onvertraagde verwerking" («real time processing») (6 7): het verwerken van gegevens door een computersysteem dat afhankelijk van de beschikbare middelen een bepaalde prestatie levert binnen een gewaarborgde responsietijd als reactie op een externe gebeurtenis, ongeacht de belasting van het systeem.

 

"Optimalisering van de vliegroute" (7): een procedure waarmee afwijkingen van een vierdimensionale gewenste vliegroute (tijd en ruimte), gebaseerd op de maximalisering van de prestaties of doeltreffendheid van de taken van een missie, zo klein mogelijk worden gehouden.

 

"Optisch sensor-array voor vluchtregeling" (7): met elkaar verbonden optische sensoren waarbij "laser"-bundels worden gebruikt om real-time vluchtregelingsgegevens te verkrijgen, die aan boord worden verwerkt.

 

"Optische computer" (4): een computer, ontworpen of aangepast voor het gebruik van licht voor de weergave van gegevens en waarvan de logische rekenelementen zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen.

 

"Optische geïntegreerde schakeling" (3): een "monolithische geïntegreerde schakeling" of "hybride geïntegreerde schakeling" die één of meer delen bevat die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om één of meer optische of elektro-optische functies te vervullen.

 

"Optische versterking" (5): een bij optische communicatie gebruikte versterkingstechniek die een versterking bewerkstelligt van optische signalen die zijn voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in elektrische signalen, bijvoorbeeld door gebruik te maken van optische halfgeleiderversterkers, of luminescerende versterkers van glasvezels.

 

"Optisch schakelen" (5): bepaling van de route of schakelen van optische signalen zonder omzetting in elektrische signalen.

 

"Persoonsgebonden slimme kaart" (5): een slimme kaart die een microschakeling bevat die voor een specifieke toepassing is geprogrammeerd en door de gebruiker niet opnieuw kan worden geprogrammeerd voor een andere toepassing.

 

"Piekvermogen" (6): energie per impuls in joules gedeeld door de "pulsduur" in seconden.

 

"Primaire vluchtregeling" (7): een voorziening voor het regelen van de stabiliteit of de besturing van een vliegtuig waarbij gebruik wordt gemaakt van kracht-/moment-generatoren, d.w.z. aërodynamische stuurvlakken of koersbepaling door middel van stuwkrachtregeling.

 

"Productie" (ATN NTN Alle): hieronder vallen alle productiestadia, zoals bouw, productie, ‹engineering›, fabricage, integratie, assemblage (monteren), inspectie, testen, kwaliteitsborging.

 

"Productieapparatuur" (1 7 9): gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen, matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen, testapparatuur, andere apparatuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene dat speciaal is ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".

 

"Productiefaciliteiten" (7 9): apparatuur en speciaal ontworpen "programmatuur", samengesteld tot installaties voor de "ontwikkeling" of voor een of meer fasen van de "productie".

 

"Programma" (26): een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling in een vorm, of om om te zetten in een vorm, die voor de uitvoering door een elektronische computer geschikt is.

 

"Programmatuur" (APN Alle): een verzameling van één of meer "programma’s" of ‧microprogramma’s‧, vastgelegd op enig tastbaar medium.

NB:‧Microprogramma‧: een reeks elementaire instructies die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het instructieregister.

 

"Pulsduur" (6): duur van een "laser" impuls, gemeten over volle breedte bij halve intensiteit (‹Full Width Half Intensity› - FWHI).

 

"Q-switched laser" (6): een "laser" waarbij de energie wordt opgeslagen in de populatie-inversie of in de optische resonator en vervolgens wordt uitgezonden in een impuls.

 

"Radar «frequency agility»" (6): iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie van een gepulseerde radarzender in een pseudo-willekeurige volgorde van impuls tot impuls of van de ene groep impulsen tot de volgende groep kan veranderen met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de impuls.

 

"Radar «spread spectrum»" (6): iedere modulatietechniek voor het spreiden van energie afkomstig van een signaal met een relatief smalle frequentieband over een veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of pseudo-willekeurige codering.

 

"Raketten" (1 3 6 7 9): complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van tenminste 300 km.

 

"Reactietijdconstante" (6): de tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat de stroomtoename een waarde heeft bereikt van 1-1/e maal de eindwaarde (d.w.z. 63% van de eindwaarde).

 

"Rekenelement" (CE) (4): de kleinste rekeneenheid die een rekenkundig of logisch resultaat voortbrengt.

 

"Resolutie" (2): de kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten het minst significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12).

 

"Robot" (2 8): een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een continu pad aflegt of van een type dat van punt naar punt gaat, eventueel voorzien van "sensoren", en dat alle volgende kenmerken heeft:

a.

multifunctioneel;

b.

geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte;

c.

met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus waarbij inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en

d.

met "toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" door middel van de leer-en-terugspeelmethode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie.

NB: Bovenstaande definitie slaat niet op de volgende toestellen:

1.

manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandsbediening te regelen zijn;

2.

manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar zijn;

3.

mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in één of meer bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden;

4.

niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaatsbare aanslagen verlopen;

5.

stapelkranen, waaronder te verstaan met Cartesische coördinaten werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen.

 

"Rondloopnauwkeurigheid" («run-out») (2): radiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de hartlijn van de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelingsoppervlak. (Referentie ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61)

 

"Roterend verstuiven" (1): een proces voor het verdelen van een stroom of een plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van centrifugale kracht.

 

"Roving" (1): een bundel (normaal 12-120) van ongeveer evenwijdige ‧strengen‧.

NB:‧Streng‧: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen.

 

Ruimtevaartuig (7 9): actieve en passieve satellieten en ruimtesondes.

 

"Ruisniveau" (6): een elektrisch signaal, uitgedrukt in spectrale vermogensdichtheid. De verhouding van "ruisniveau" van piek-tot-piek wordt gegeven met S2 pp = 8N0 (f2-f1), waarbij Spp de piek-tot-piekwaarde is van het signaal (bv. nanotesla), N0 de spectrale vermogensdichtheid (bv. (nanotesla)2/Hz) en (f2-f1) de desbetreffende bandbreedte definieert.

 

"Samengestelde draaitafel" (2): een tafel waarop het werkstuk kan draaien en kantelen rond twee niet parallelle assen, die tegelijkertijd kunnen samenwerken voor "contourbesturen".

 

"Samenstelling" (3 4 5): een aantal elektronische componenten (bijvoorbeeld ‧schakelelementen‧, ‧discrete onderdelen‧, geïntegreerde schakelingen, enz.) die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en die als een eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar is.

NB 1: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

NB 2: een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.

 

"Schaalfactor" (gyroscoop of versnellingsmeter) (7): de verhouding tussen de uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinstekwadraten-methode past bij de invoer-uitvoergegevens, verkregen door cyclische variatie van de invoer over het ingangstraject.

 

"SHPL" staat voor "Super High Power Laser".

 

"Signaalanalysatoren" (3): instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden van de basiseigenschappen van de individuele frequentiecomponenten van meervoudige-frequentiesignalen.

 

"Signaalverwerking" (3 4 5 6): het verwerken van elders verkregen informatiedragende signalen met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de snelle Fourier-transformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh-transformatie (‹Walsh transform›)).

 

"Smeltextractie" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ en extraheren van een lintvormig legeringsproduct door een kort segment van een ronddraaiend gekoeld blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen.

NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/sec.

 

"Speciale splijtstoffen" (0): plutonium-239, uraan-233, "uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233", en elk materiaal dat het voorgaande bevat.

 

"Specifieke modulus" (0 1 9): Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijke gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ±2 K (23 ±2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ±5%.

 

"Specifieke treksterkte" (0 1 9): de breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortgelijk gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van 296 ±2 K (23 ±2 °C) en een relatieve vochtigheid van 50 ±5%.

 

"Spinnen uit de smelt" (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een stroom gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend gekoeld blok, waardoor een schilfer-, lint- of staafvormig product ontstaat.

NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde.

 

"Spread spectrum" (5): de techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal met een relatief smalle band wordt gespreid over een veel breder energiespectrum.

 

"Spread spectrum" radar (6): zie "Radar ‹spread-spectrum›".

 

"Stabilisatietijd" (‹settling time›) (3): de tijd die nodig is om binnen een halve bit van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen tussen twee willekeurige niveaus van de omzetter.

 

"Stabiliteit" (7): standaardafwijking (1 sigma) van de miswijzing van een bepaalde parameter van de ijkwaarde, gemeten bij stabiele temperatuuromstandigheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd.

 

"Stapel- en continuvezelmateriaal" (0 1 2 8).

Dit omvat:

a.

continumonofilamenten;

b.

continugarens en "‹rovings›";

c.

banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden;

d.

op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens;

e.

whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte;

f.

aromatische polyamidepulp.

 

"Staten die (geen) partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens": staten waarvoor het Verdrag tot verbod van de ontwikkeling, de productie, de aanleg van voorraden en het gebruik van chemische wapens (niet) in werking is getreden. (Zie www.opcw.org)

 

"Storingstolerantie" (4): het vermogen van een computersysteem om, na een storing in een onderdeel van zijn apparatuur of "programmatuur", zonder ingrijpen van de mens te blijven functioneren op een bepaald niveau waardoor de ononderbroken werking, gegevensintegriteit en herstel van alle functies binnen een bepaalde tijd worden gegarandeerd.

 

"Substraat" (3): een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbindingsstructuur waarop of waarin ‧discrete onderdelen‧ of geïntegreerde schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn.

NB 1: Een ‧discreet onderdeel‧ is een afzonderlijk omhuld ‧schakelelement‧ met eigen uitwendige aansluitingen.

NB 2: Een ‧schakelelement‧ is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronisch circuit, bv. één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz.

 

"Sub-eenheid van toxine" (1): een structureel en functioneel losstaand bestanddeel van een hele "toxine".

 

"Supergeleidend" (1 3 6 8): materialen, d.w.z. metalen, legeringen of verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan worden, d.w.z. dat zij een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote stromen kunnen geleiden zonder joule-opwarming.

NB: De "supergeleidende" toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt gekenmerkt door een "kritische temperatuur", een kritisch magnetisch veld, dat een functie is van de temperatuur, en een kritische stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch veld als de temperatuur.

 

"Super High Power Laser" (SHPL) (6): een "laser" die geschikt is voor het afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de uitgangsenergie van meer dan 1 kJ binnen 50 ms of met een gemiddeld of CW-(continugolf-) vermogen van meer dan 20 kW.

 

"Superlegeringen" (2 9): legeringen op basis van nikkel, kobalt of ijzer, met sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens de AISI 300 bij temperaturen boven 922 K (649 °C) onder zware omgevings- en gebruiksomstandigheden.

 

"Superplastisch vormen" (1 2): een vervormingsproces waarbij warmte wordt gebruikt om voor metalen die gewoonlijk weinig rek (minder dan 20%) hebben bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van een conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere rekwaarden te bereiken dan genoemde waarden.

 

"Symmetrisch algoritme" (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie dezelfde sleutel gebruikt wordt als voor decryptie.

NB:"Symmetrische algoritmen" worden vaak voor vertrouwelijke gegevens gebruikt.

 

"Systeemsporen" (6): verwerkt, gecorreleerd (samenvoeging van radardoelgegevens en vliegplanpositie) en met de laatste informatie bijgewerkt rapport dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het Luchtverkeersleidingscentrum.

 

"«Systolic array»-computer" (4): een computer waarbij de gegevensstroom en wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd door de gebruiker op het niveau van de logische poort.

 

"Technologie" (ATN NTN Alle): specifieke informatie die nodig is voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van een product. De informatie is in de vorm van ‧technische gegevens‧ of ‧technische bijstand‧.

NB 1:‧Technische bijstand‧ kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden, opleiding, praktijkkennis, advies e.d. en kan gepaard gaan met de overdracht van ‧technische gegevens‧.

NB 2:‧Technische gegevens‧ kunnen o.m. bestaan uit blauwdrukken, tekeningen, schema’s, modellen, formules, tabellen, technische ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven vorm of vastgelegd op andere media of apparaten zoals schijf, magneetband, leesgeheugens (ROM’s).

 

"Tijdgebonden bandbreedte" (real time bandwidth) (2 3): voor "dynamische signaalanalysatoren" is dit het grootste frequentiebereik dat de analysator kan uitvoeren naar beeldscherm of massageheugen zonder dat daardoor de analyse van de invoer-gegevens wordt onderbroken. Bij analysatoren met meer dan één kanaal dient bij de berekening die kanaalconfiguratie te worden gehanteerd die de breedste "tijdgebonden bandbreedte" oplevert.

 

"Tijdgemoduleerde ultrabreedband-techniek" (5): techniek waarbij zeer korte radiopulsen op een zeer nauwkeurige tijdintervalbasis worden gemoduleerd overeenkomstig de communicatiegegevens door de pulsposities te verschuiven (gewoonlijk puls code modulatie (PCM) genoemd), gekanaliseerd of versleuteld overeenkomstig pseudo-random noise codes door PCM, en vervolgens doorgegeven en ontvangen in de vorm van het directe signaal zonder gebruikmaking van draaggolven, met derhalve een uiterst lage vermogensdichtheid, via laagvermogen breedband/technieken. Wordt ook wel aangeduid als Impulse Radio.

 

"Toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker" (6): de mogelijkheid voor de gebruiker om "programma’s" in te voegen, te veranderen of te vervangen anders dan door middel van:

a.

een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of

b.

het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen.

 

"Totale digitale overbrengsnelheid" (5): het aantal bits, met inbegrip van regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid wordt overgebracht tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem.

NB: Zie ook "digitale overbrengsnelheid"

 

"Totale stroomdichtheid" (3): het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel (d.w.z. de som van het aantal wikkelingen vermenigvuldigd met de maximale stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de totale doorsnede van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix waarin de supergeleidende draden zijn ingebed, het omgevende materiaal, eventuele koelkanalen, enz.).

 

"Totale theoretische prestatie" (CTP) (3 4): een maat voor de rekenprestatie in miljoenen theoretische bewerkingen per seconde (Mtops), berekend door samenvoeging van de "rekenelementen" (‹computing elements› (CE)).

NB: Zie categorie 4, technische noot

 

"Totale vluchtregeling" (7): een geautomatiseerde regeling van de toestandsvariabelen en de vliegbaan van een "vliegtuig" om te voldoen aan de doelstellingen van een missie, waarbij wordt gereageerd op real-time veranderingen in de gegevens betreffende doelstellingen, gevaren en andere "vliegtuigen".

 

"Toxinen" (1 2): toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of mengsels, ongeacht de wijze van bereiding, anders dan toxinen die als contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals pathologische monsters, gewassen, levensmiddelen of culturen van "micro-organismen".

 

"Transfer laser" (6): een "laser" waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt.

 

"Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233" (0): uraan dat de isotopen 235 of 233 of beide bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de verhouding tussen de som van de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter is dan de verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop 238 in natuurlijk uraan (isotoopverhouding: 0,72%).

 

"Vaccin" (1): een medisch preparaat volgens een chemische formule waarvoor een vergunning is afgegeven of waarvoor een vergunning voor het in de handel brengen of voor klinische proeven is afgegeven door de regelgevende instanties van hetzij het land waar het wordt gefabriceerd, hetzij het land waar het wordt gebruikt, en dat strekt tot stimulering van een beschermende immunorespons ter voorkoming van ziekten in de mens of het dier aan wie of waaraan het wordt toegediend.

 

"Vast" (5): het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van buitenaf ontvangen (bv. cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd worden door de gebruiker.

 

"Verarmd uraan" (0): uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is dan in de natuur voorkomt.

 

"Vergruizing" (1): een procédé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door stampen of malen.

 

"Verloopsnelheid" (gyroscopen) (7): de snelheid waarmee de afwijking van de uitvoer ten opzichte van de gewenste uitvoer verandert. Deze bestaat uit willekeurige en systematische componenten en wordt uitgedrukt als een equivalente invoer-hoekverplaatsing per eenheid tijd ten opzichte van de inerte ruimte.

 

"Vermengd" (commingled) (1): het mengen van filamenten van thermoplastische vezels en versterkingsvezels voor de productie van een vezelversterking/-"matrix" mengsel in totaalvezelvorm.

 

"Vermogensaanpassing" (7): een zodanige aanpassing van het uitgezonden vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen signaal op "vliegtuig" hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te bepalen.

 

"Versplintering door snelle afkoeling" (‹splat quenching›) (1): een proces voor het ‧snel stollen‧ van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok, waardoor ‧flakes‧ worden gevormd.

NB:‧Snel stollen‧ is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1 000 K/seconde.

 

"Verstuiving in gas" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaallegering tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van een onder hoge druk staande gasstroom.

 

"Verstuiving in vacuüm" (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder door middel van de snelle uiteenzetting van een opgelost gas bij blootstelling aan een vacuüm.

 

"Vervormbare spiegels" (6): (ook bekend als adaptieve optische spiegels).

Spiegels met:

a.

één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren; of

b.

verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren.

 

"Verwerking van meervoudige stromen van gegevens" (4): de op ‧microprogramma’s‧ of op de architectuur van apparatuur gebaseerde technieken, die het verwerken van twee of meer datareeksen, bestuurd door één of meer opdrachtreeksen, mogelijk maken, bijvoorbeeld door middel van:

a.

«single instruction multiple data» (SIMD) architecturen zoals vector- of arrayverwerkingseenheden;

b.

«multiple single instruction multiple data» (MSIMD) architecturen;

c.

«multiple instruction multiple data» (MIMD) architecturen, met inbegrip van die welke hechtgekoppeld, kortgekoppeld of niet-hechtgekoppeld zijn; of

d.

gestructureerde «arrays» van verwerkingselementen, met inbegrip van systolische «arrays».

NB:‧Microprogramma‧: een reeks elementaire opdrachten die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het opdrachtregister.

 

"Vliegtuigen" (1 7 9): luchtvoertuigen met vaste, draaibare of roterende (hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal opstijgende luchtvoertuigen (met kantelende rotor of vleugel).

NB: Zie ook "civiele vliegtuigen".

 

"Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" (3): de waarde van de voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen een "monolitische geïntegreerde schakeling". Deze kan voor een bepaalde ‧familie‧ van "monolithische geïntegreerde schakelingen" gespecificeerd zijn als de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort binnen die ‧familie‧ of als de typerende voortplantingsvertragingstijd per poort binnen die ‧familie‧.

NB 1: De "voortplantingsvertragingstijd van de basispoort" moet niet worden verward met de in/uitgangsvertragingstijd van een complexe "monolithische geïntegreerde schakeling".

NB 2: Een ‧familie‧ bestaat uit alle geïntegreerde schakelingen waarop alle onderstaande elementen zijn toegepast als fabricagemethoden en -specificaties, met uitzondering van hun respectieve functies:

a.

de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur;

b.

de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en

c.

de gebruikelijke basiskenmerken.

 

"Voor iedereen beschikbaar" (ATN NTN APN). "Technologie" of "programmatuur" die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan beschikbaar zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat "technologie" of "programmatuur" niet langer "voor iedereen beschikbaar" is.)

 

"Voornaamste deel" (4): een deel is een "voornaamste deel" wanneer de vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale waarde van het systeem waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntroduceerd voor het deel is betaald. De totale waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop aan een niet-gelieerde partij af fabriek of bij bevestiging van de verzending.

 

"Werkgeheugen" (4): het primaire geheugen voor gegevens of opdrachten, dat voor de centrale verwerkingseenheid snel toegankelijk is. Het bestaat uit het interne geheugen van een "digitale computer" en elke hiërarchische uitbreiding daarvan, zoals ‹cache›-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke geheugenuitbreidingen.

IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE ACRONIEMEN EN AFKORTINGEN

Een acroniem of afkorting, gebruikt als gedefinieerde term, is te vinden in "Definities van in deze bijlage gebruikte termen".

Acroniem of afkorting

Betekenis

ABEC

Annular Bearing Engineers Committee

AGMA

American Gear Manufacturers’ Association

AHRS

attitude and heading reference systems

AISI

American Iron and Steel Institute

ALU

arithmetic logic unit (logische rekeneenheid)

ANSI

American National Standards Institute

ASTM

the American Society for Testing and Materials

ATC

air traffic control (luchtverkeersleiding)

AVLIS

isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damplasers

CAD

computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen)

CAS

Chemical Abstracts Service

CCITT

Comité consultatif international télégraphique et téléphonique (Internationale Raadgevende Commissie inzake telegrafie en telefonie)

CDU

control and display unit (besturings- en beeldeenheid)

CEP

circular error probability (50%-trefkanscirkel)

CNTD

controlled nucleation thermal deposition (thermische ontleding met beheerste nucleatie)

CRISLA

chemische reactie door selectieve laseractivering van één of meer isotopen

CVD

chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de dampfase)

CW

chemical warfare (chemische oorlogsvoering)

CW (voor lasers)

continuous wave (continugolf)

DME

distance measuring equipment

DS

directionally solidified

EB-PVD

electron beam physical vapour deposition (elektronenstraalverdampen)

EBU

European Broadcasting Union

ECM

electro-chemical machining

ECR

electron cyclotron resonance

EDM

electrical discharge machines (vonkmachines)

EEPROMS

electrically erasable programmable read only memory

EIA

Electronic Industries Association

EMC

elektromagnetische compatibiliteit

ETSI

European Telecommunications Standards Institute (Europees Instituut voor telecommunicatienormen)

FFT

Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie)

GLONASS

global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavigatiesysteem)

GPS

global positioning system

HBT

heterobipolaire transistors

HDDR

high density digital recording (digitale registratie met hoge dichtheid)

HEMT

high electron mobility transistors (tansistors met hoge elektronenmobiliteit)

ICAO

International Civil Aviation Organisation (Internationale Burgerluchtvaartorganisatie)

IEC

International Electrotechnical Commission (CEI - Internationale Elektrotechnische Commissie)

IEEE

Institute of Electrical and Electronic Engineers

IFOV

instantaneous-field-of-view (momenteel gezichtsveld)

ILS

instrument landing system

IRIG

inter-range instrumentation group

ISAR

inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur)

ISO

International Organization for Standardization (Internationale organisatie voor normalisatie)

ITU

International Telecommunication Union (Internationale Telecommunicatie Unie)

JIS

Japanse Industriestandaard

JT

Joule-Thomson

LIDAR

light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepaling)

LRU

line replaceable unit

MAC

message authentication code

Mach

verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de geluidssnelheid (naar Ernst Mach)

MLIS

isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers.

MLS

microwave landing systems (microgolf-landingssystemen)

MOCVD

metal organic chemical vapour deposition (chemisch neerslaan van organometaaldamp)

MRI

magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van magnetische resonantie)

MTBF

mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval)

Mtops

miljoenen technische bewerkingen per seconde

MTTF

mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing)

NBC

nucleair, biologisch en chemisch

NDT

non-destructive test (niet-destructief onderzoek)

PAR

precision approach radar (landingsradarapparatuur)

PIN

persoonlijk identificatienummer

ppm

parts per million (delen per miljoen)

PSD

power spectral density (constante spectrale vermogensdichtheid)

QAM

quadrature-amplitude-modulation (kwadratuuramplitudemodulatie)

RF

radiofrequentie

SACMA

Suppliers of Advanced Composite Materials Association

SAR

synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur)

SC

single crystal (eenkristal)

SLAR

sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in vliegtuigen)

SMPTE

Society of Motion Picture and Television Engineers

SRA

shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar moduul)

SRAM

static random access memory

SRM

SACMA Recommended Methods

SSB

single sideband (enkele zijband)

SSR

secondary surveillance radar

TCSEC

trusted computer system evaluation criteria

TIR

total indicated reading (totale meetklokuitslag)

UV

Ultraviolet

UTS

ultimate tensile strength (eindtreksterkte)

VOR

very high frequency omni-directional range

YAG

yttrium/aluminum garnet

CATEGORIE 0

NUCLEAIRE GOEDEREN

0A
Systemen, apparatuur en onderdelen

0A001
"Kernreactoren" en speciaal ontworpen en gebouwde uitrusting en onderdelen ervan, als hieronder:

a.

"kernreactoren" met een zodanige werking dat zij een beheerste zichzelf onderhoudende kettingreactie van kernsplijting handhaven;

b.

metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen ervan, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een "kernreactor", met inbegrip van het deksel van een reactordrukvat;

c.

bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om splijtstof in een "kernreactor" aan- of af te voeren;

d.

regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van het splijtingsproces in een "kernreactor", de draag- of ophangconstructies daarvoor, mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen voor het geleiden van de regelstaven;

e.

drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als houder van de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een "kernreactor" bij een werkdruk van meer dan 5,1 MPa;

f.

zirkoniummetaal en legeringen in de vorm van buizen of samenstellen van buizen waarin de gewichtsverhouding tussen hafnium en zirkonium minder is dan 1:500, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een "kernreactor";

g.

koelpompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren van het primaire koelmiddel van "kernreactoren";

h.

‧inwendige delen van kernreactoren‧ die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor gebruik in een "kernreactor", met inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstofkanalen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten;

Noot: In 0A001.h wordt onder ‧inwendige delen van kernreactoren‧ verstaan iedere grote structuur binnen een reactorvat die één of meer functies heeft, zoals ondersteuning van de kern, handhaving van de splijtstofafstelling, sturing van het primaire koelmiddel, het verschaffen van stralingsschermen voor het reactorvat, en de besturing van instrumentatie in de kern.

i.

warmtewisselaars (stoomgeneratoren), speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in het primaire koelmiddelcircuit van een "kernreactor";

j.

instrumenten voor neutronenwaarneming en -meting, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van de neutronenflux in de kern van een "kernreactor".

0B
Test-, inspectie- en productieapparatuur

0B001
Fabrieken voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan", en "speciale splijtstoffen" en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

a.

installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" en "speciale splijtstoffen" als hieronder:

1.

gascentrifuges;

2.

gasdiffusiescheidingsinstallaties;

3.

aërodynamische scheidingsinstallaties;

4.

scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars;

5.

scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars;

6.

isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp- "lasers" (AVLIS);

7.

isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire "lasers" (MLIS);

8.

plasmascheidingsinstallaties;

9.

elektromagnetische scheidingsinstallaties;

b.

Gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal ontworpen voor gebruik in gascentrifuges, als hieronder:

Noot: In 0B001.b betekent ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧:

a.

«maraging» — staal met een maximale treksterkte van 2 050 MPa of meer; of

b.

aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 460 MPa of meer; of

c.

"stapel- en continuvezelmateriaal" met een "specifieke modulus" van meer dan 3,18 × 106 m en een "specifieke treksterkte" van meer dan 76,2 × 103 m;

1.

gascentrifuges;

2.

complete rotoren;

3.

rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 400 mm en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

4.

ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

5.

keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding‧;

6.

onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 400 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van ‧materiaal met een hoge sterkte/ dichtheidsverhouding‧;

7.

magnetische lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", bevattende een dempend medium en waarvan de magneet is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd;

8.

speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/lagerkom-samenstel, gemonteerd op een demper;

9.

turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of geextrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal vervaardigde boorgaten;

10.

ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresis-motoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuüm, met een frequentiebereik van 600 Hz tot 2 000 Hz en een vermogensbereik van 50 VA tot 1 000 VA;

11.

centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte uiteinden en vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

12.

inlaatstukken bestaande uit buizen met een binnendiameter tot 12 mm voor de extractie van UF6-gas uit de rotorbuis van een gascentrifuge volgens het principe van een Pitot-buis, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

13.

frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande specificaties voldoen:

a.

een meerfasige elektrische spanning van 600 Hz tot 2 000 Hz,

b.

frequentieafwijkingen van minder dan 0,1 %,

c.

een harmonische vervorming van minder dan 2 %, en

d.

een rendement, hoger dan 80 %;

c.

speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder;

2.

gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

3.

compressoren (verdringer, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 1 m3/min. of meer UF6 en een werkdruk van maximaal 666,7 kPa, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

4.

asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.c.3., ontworpen op een inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1 000 cm3/min;

5.

warmtewisselaars, vervaardigd van aluminium, koper, nikkel of legeringen die meer dan 60 percent nikkel bevatten of combinaties van deze metalen, in de vorm van beklede buizen, ontworpen voor gebruik bij drukken lager dan de atmosferische druk, met een leksnelheid die een drukstijging van minder dan 10 Pa/uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa;

6.

balgafsluiters met een diameter van 40 mm tot 1 500 mm, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

d.

speciaal voor aërodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan 1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt;

2.

tangentiële instroombuizen (cilindrisch of conisch) (vortexbuizen), vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter tussen 0,5 cm en 4 cm en een lengte/diameterverhouding, gelijk aan of kleiner dan 20:1 en met een of meer tangentiële inlaten;

3.

compressoren (verdringer-, centrifugale en axiale typen) of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 2 m3/min of meer, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6" en asafdichtingen daarvoor;

4.

warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

5.

behuizingen van aërodynamische scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten;

6.

balgafsluiters, vervaardigd van of beschermd met "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", met een diameter van 40 tot 1 500 mm;

7.

processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6 of minder, met inbegrip van:

a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

b.

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

c.

scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas;

d.

koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager;

e.

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

pulskolomcontactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);

2.

centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals fluorkoolwaterstofpolymeren of glas);

3.

elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan in valentie te veranderen;

4.

voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd van of beschermd met geschikte materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet);

5.

systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor de reductie van U+6 of U+4 tot U+3;

6.

oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4;

f.

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C);

2.

ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1 000 mm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. titaan of kunststoffen op basis van fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C) en werkdrukken boven 0,7 MPa;

3.

ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades worden gebruikt;

g.

speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met atomaire-damp- "lasers" (AVLIS) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

krachtige ioniserings- of scanning-elektronenkanonnen met een afgegeven vermogen van meer dan 2,5 kW/cm, die worden gebruikt in een systeem om uraan te verdampen;

2.

systemen voor het hanteren van vloeibaar uraanmetaal voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;

NB: ZIE OOK 2A225

3.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of bekleed met materialen die bestand zijn tegen de hitte en de corrosie van uraanmetaaldamp of vloeistof zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

4.

behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten;

5.

"lasers" of "laser"-systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;

NB: ZIE OOK 6A005 EN 6A205

h.

speciaal voor isotopenscheidingsprocessen met moleculaire lasers (MLIS) of met chemische reacties door selectieve laseractivering van een of meer isotopen (CRISLA) ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en transportgas tot 150 K (– 123 °C) of minder en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6";

2.

productopvangsystemen voor uraanpentafluoride (UF5), bestaande uit collectoren van het filter-, impact- of cycloontype of combinaties daarvan en vervaardigd van "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF5/UF6";

3.

compressoren, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6", en asafdichtingen daarvoor;

4.

uitrusting om UF5 (vaste stof) te fluoreren tot UF6 (gas);

5.

processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (bv. stikstof of argon) met inbegrip van:

a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

b.

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (– 120 °C) of lager;

c.

koelvallen voor UF6 die geschikt zijn voor temperaturen van 253 K (– 20 °C) of lager;

6.

"lasers" of " laser"systemen voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisator voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn;

NB: ZIE OOK 6A005 EN 6A205

i.

speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie hoger dan 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW;

2.

RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW;

3.

systemen voor het genereren van een uraanplasma;

4.

systemen voor het hanteren van vloeibaar metaal, voor gesmolten uraan of uraanlegeringen, bestaande uit smeltkroezen, vervaardigd van of beschermd met geschikte corrosie- en hittebestendige materialen (bv. tantaal, met yttriumoxide bedekt grafiet, grafiet, bedekt met andere oxiden van zeldzame aarden of mengsels daarvan) en koelapparatuur voor de smeltkroezen;

NB: ZIE OOK 2A225

5.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandamp, zoals bijvoorbeeld met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

6.

behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequente spoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch materiaal (bv. roestvrij staal);

j.

speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvrij staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer;

2.

ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet of roestvrij staal);

3.

vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv. roestvrij staal) en ontworpen op een werkdruk van 0,1 Pa of lager;

4.

magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m;

5.

hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben:

a.

geschikt voor continubedrijf;

b.

uitgangsspanning 20 000 V of meer;

c.

uitgangsstroom 1 A of meer; en

d.

spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur;

NB: ZIE OOK 3A227

6.

voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen hebben:

a.

geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en

b.

stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur.

NB: ZIE OOK 3A226

0B002
Speciaal voor isotoopscheidingsinstallaties als bedoeld in 0B001 ontworpen of vervaardigde hulpsystemen, uitrusting en onderdelen, als hieronder, vervaardigd van of beschermd door "materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6":

a.

voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces;

b.

desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na verhitting;

c.

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan;

d.

liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen door UF6 samen te persen, af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm;

e.

speciaal ontworpen stelsels van pijpen en «headers» om het UF6 te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aërodynamische cascades;

f.

1.

speciaal ontworpen vacuümspruitstukken en «headers» met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min. of meer, of

2.

vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat;

g.

UF6-massaspectrometers/ionenbronnen, speciaal ontworpen of vervaardigd om «on line» monsters te kunnen nemen van de UF6-voedingsstroom, van verarmde en van verrijkte UF6-gasstromen en die alle onderstaande eigenschappen hebben:

1.

oplossend vermogen 1 a.m.e. voor massa’s groter dan 320 a.m.e.;

2.

ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed met nichroom of monel of vervaardigd van vernikkelde onderdelen;

3.

ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting, en

4.

collectorsysteem, geschikt voor isotoopanalyse.

0B003
Fabrieken voor de omzetting van uraan en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

a.

systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3;

b.

systemen voor de omzetting van UO3 in UF6;

c.

systemen voor de omzetting van UO3 in UO2;

d.

systemen voor de omzetting van UO2 in UF4;

e.

systemen voor de omzetting van UF4 in UF6;

f.

systemen voor de omzetting van UF4 in uraanmetaal;

g.

systemen voor de omzetting van UF6 in UO2;

h.

systemen voor de omzetting van UF6 in UF4;

i.

systemen voor de omzetting van UO2 in UCl4.

0B004
Fabrieken voor de productie of concentratie van zwaar water, deuterium en deuteriumverbindingen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

a.

Installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen, als hieronder:

1.

water-zwavelwaterstof-wisselinstallaties;

2.

ammoniak-waterstof-wisselinstallaties;

b.

Uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1.

water-zwavelwaterstof-wisseltorens, vervaardigd van gezuiverd koolstofstaal (bijvoorbeeld ASTM A516) met een diameter van 6 tot 9 meter, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa of meer en met een corrosietoeslag van 6 mm of meer;

2.

eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van zwavelwaterstofgas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/seconde wanneer er gewerkt wordt bij drukniveaus van ten minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen, ontworpen voor natte H2S-gassen;

3.

ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 meter of hoger met een diameter tussen 1,5 en 2,5 meter die kunnen werken bij een druk van meer dan 15 MPa;

4.

inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van dompelpompen voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé;

5.

ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van 3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé;

6.

infraroodabsorptieanalyseapparatuur die "on line" waterstof-deuterium-verhoudingen kan meten waarbij de deuteriumconcentratie 90 % of meer is;

7.

katalytische branders voor de omzetting van verrijkt deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocédé;

8.

complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar is.

0B005
Fabrieken, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" en speciaal ontworpen of vervaardigde uitrusting daarvoor.

Noot: Een fabriek voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor "kernreactoren" omvat uitrusting die:

a.

in de regel in rechtstreeks contact komt met de productiestroom van nucleair materiaal of deze rechtstreeks verwerkt of reguleert;

b.

zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf;

c.

de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert; of

d.

de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof controleert.

0B006
Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen.

Noot: 0B006 omvat:

a.

fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor "kernreactoren", met inbegrip van uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen;

b.

hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor "kernreactoren";

c.

oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of plaattanks met een kleine diameter), speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van "kernreactoren", die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden kunnen worden;

d.

tegenstroom-vloeistofextractors en ionenwisselapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen";

e.

voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur;

Noot: Voorraad- of opslagvaten kunnen de volgende kenmerken bezitten:

1.

wanden of inwendige structuren met een boorequivalent (berekend voor alle samenstellende delen als gedefinieerd in de noot bij 0C004) van ten minste twee procent;

2.

een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten; of

3.

een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten.

f.

instrumenten voor de regeling van processen, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bewaken of het regelen van de opwerking van bestraald "natuurlijk uraan", "verarmd uraan" of "speciale splijtstoffen".

0B007
Fabrieken voor de omzetting van plutonium en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

a)

systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniumoxide;

b)

systemen voor de productie van plutoniummetaal.

0C
Materialen

0C001
"Natuurlijk uraan" of "verarmd uraan" of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk materiaal dat het voorgaande bevat;

Noot: In 0C001 zijn niet bedoeld:

a.

Vier gram of minder "natuurlijk uraan" of "verarmd uraan", indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten;

b.

"verarmd uraan", speciaal vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:

1.

afschermingsmateriaal;

2.

verpakkingsmateriaal;

3.

ballast met een massa van ten hoogste 100 kg;

4.

contragewichten met een massa van ten hoogste 100 kg;

c.

Legeringen met minder dan 5 % thorium;

d.

Keramische, thorium bevattende producten die zijn vervaardigd voor niet-nucleair gebruik.

0C002
"Speciale splijtstoffen".

Noot: In 0C002 is niet bedoeld vier "effectieve gram" of minder, indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten.

0C003
Deuterium, zwaar water (deuteriumoxide) en andere deuteriumverbindingen, en mengsels en oplossingen die deuterium bevatten, waarin de isotoopverhouding van deuterium tot waterstof groter is dan 1:5 000.

0C004
Grafiet, geschikt voor toepassing in kernreactoren, d.w.z. met een zuiverheidsgraad beter dan 5 delen per miljoen (ppm) ‧boorequivalent‧, en met een dichtheid groter dan 1,5 g/cm3.

NB: ZIE OOK 1C107

Noot 1: is niet van toepassing op:

a.

producten, vervaardigd van grafiet met een massa van minder dan 1 kg en niet speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een kernreactor;

b.

grafietpoeder.

Noot 2: In 0C004 wordt ‧boorequivalent‧ (BE) gedefinieerd als de som van BEZ voor onzuiverheden (met uitzondering van BEkoolstof aangezien koolstof niet wordt beschouwd als een onzuiverheid), met inbegrip van boor, waarbij geldt:

BEZ (ppm) = CF x concentratie van element Z in ppm;

hierin is CF de conversiefactor Formula

en zijn σB en σZ de doorsneden voor de vangst van thermische neutronen (in barn) voor respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z; en zijn AB en AZ de atoommassa’s van respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z.

0C005
Speciaal vervaardigde verbindingen of poeders voor de fabricage van membranen voor gasdiffusie die bestand zijn tegen corrosie door UF6 (b.v. nikkel of een legering met 60 gewichtspercent of meer aan nikkel, aluminiumoxide en volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren), met een zuiverheidsgraad van 99,9 gewichtspercent of meer, met een gemiddelde korrelgrootte, kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens de ASTM B-330-standaard (American Society for Testing and Materials) en met een zeer uniforme deeltjesgrootte.

0D
Programmatuur

0D001
Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in deze categorie.

0E
Technologie

0E001
"Technologie" overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in deze categorie.

CATEGORIE 1

MATERIALEN, CHEMICALIËN, "MICRO-ORGANISMEN", "TOXINES"

1A
Systemen, apparatuur en onderdelen

1A001
Onderdelen vervaardigd van gefluoreerde verbindingen, als hieronder:

a.

afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks («fuel bladders»), welke voor meer dan 50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen;

b.

piëzo-elektrische polymeren en copolymeren gemaakt van vinylideenfluoride als bedoeld in 1C009.a:

1.

in plaat- of folievorm, en

2.

met een dikte van meer dan 200 micrometer;

c.

afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele brandstoftanks («fuel bladders») of membranen bestaande uit fluorelastomeren welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement bevatten, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in "raketten" of in "vliegtuigen".

Noot: In 1A001.c worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan.

1A002
"Composieten" of laminaten, met één of meer van de volgende eigenschappen:

NB: ZIE OOK 1A202, 9A010 EN 9A110

a.

met een organische "matrix" en gemaakt van materialen als bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.e, of

b.

met een metaal- "matrix" of koolstof- "matrix" en gemaakt van:

1.

koolstof- "stapel- en continuvezelmateriaal" met:

a.

een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m, en

b.

een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m, of

2.

materialen als bedoeld in 1C010.c.

Noot 1: 1A002 is niet van toepassing op composieten of laminaten gemaakt van met epoxyhars geïmpregneerd koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten, met een maximale grootte van 1 m2.

Noot 2: 1A002 is niet van toepassing op eindproducten of halffabrikaten die speciaal zijn ontworpen voor zuiver civiele toepassingen, als hieronder:

a.

sportartikelen;

b.

auto-industrie;

c.

werktuigmachine-industrie;

d.

medische toepassingen.

1A003
Producten vervaardigd van niet-gefluoreerde polymere stoffen als bedoeld in 1C008.a.3, in de vorm van film, vellen, band of lint, met een van de onderstaande eigenschappen:

a.

een dikte groter dan 0,254 mm, of

b.

bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties.

Noot: 1A003 is niet van toepassing op producten bekleed of gelamineerd met koper die zijn ontworpen voor de productie van elektronische gedrukte schakelingen.

1A004
Beschermings- en detectie-apparatuur en onderdelen daarvan die niet onder de lijst militaire goederen vallen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B351 EN 2B352

a.

Gasmaskers, filterbussen en decontaminatie-apparatuur daarvoor die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

b.

Beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik of stoffen voor chemische oorlogvoering;

c.

Nucleaire, biologische en chemische (NBC) detectie-apparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of identificatie van biologische of radioactieve stoffen, aangepast voor oorlogsgebruik, of stoffen voor chemische oorlogvoering, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

Noot: 1A004 is niet van toepassing op:

a.

Individuele dosismeters voor stralingscontrole;

b.

Uitrusting die door haar ontwerp of functie beperkt is tot bescherming tegen risico’s die eigen zijn aan civiele industriesectoren, zoals mijnbouw, steengroeven, landbouw, de farmaceutische, medische, diergeneeskundige, milieu-, afvalbeheer- en voedingsindustrie.

1A005
Kogelvrije kleding, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, anders dan vervaardigd volgens militaire normen of specificaties of gelijkwaardige prestatienormen.

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN

NB: Voor "stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt wordt voor de vervaardiging van kogelvrije kleding, zie 1C010.

Noot 1: In 1A005 zijn niet bedoeld kogelvrije kleding en beschermende kleding die de gebruiker bij zich heeft voor zijn eigen bescherming.

Noot 2: In 1A005 is niet bedoeld kogelvrije kleding die bestemd is om uitsluitend frontale bescherming te bieden tegen door niet-militaire explosieven veroorzaakte luchtverplaatsingen of scherven.

1A102
Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-componenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

1A202
Composieten, met uitzondering van de in 1A002 bedoelde composieten, in buisvorm, met beide volgende kenmerken:

NB: ZIE OOK 9A010 EN 9A110

a.

een binnendiameter van 75-400 mm; en

b.

vervaardigd van "stapel- en continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a of b of 1C210.a of met koolstof-«prepreg»-materiaal als bedoeld in 1C210.c.

1A225
Geplatineerde katalysatoren, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bevorderen van de waterstofisotoop-uitwisseling tussen waterstof en water voor het terugwinnen van tritium uit zwaar water of voor de productie van zwaar water.

1A226
Specifieke pakkingen die kunnen worden gebruikt voor de scheiding van zwaar water van gewoon water, met beide volgende kenmerken:

a.

vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behandeld ter verbetering van de bevochtigingsraad); en

b.

ontworpen voor gebruik in vacuüm-distillatietorens.

1A227
Stralingafschermende ramen (van loodglas of ander materiaal) met alle hiernavolgende kenmerken en speciaal ontworpen kozijnen daarvoor:

a.

een ‧koude zone‧ groter dan 0,09 m2

b.

een dichtheid groter dan 3 g/cm3; en

c.

een dikte van 100 mm of meer.

Technische noot:

In 1A227 wordt onder ‧koude zone‧ verstaan de kijkzone van het raam die is blootgesteld aan het laagste stralingsniveau in de constructietoepassing.

1B
Test-, inspectie- en productieapparatuur

1B001
Apparatuur voor de vervaardiging van vezels, geïmpregneerde vezels («prepregs»), beklede vezels («preforms») of "composieten" als bedoeld in 1A002 of 1C010, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

NB: ZIE OOK 1B101 EN 1B201

a.

draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal";

b.

band- of lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden, linten of vellen in twee of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor vliegtuigen en raketten;

Noot: In 1B001.b worden onder "raketten" complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan.

c.

weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van vezelmateriaal ter vervaardiging van "composieten";

Technische noot:

Voor de toepassing van punt 1B001.c houdt de techniek van het dooreenvlechten tevens breien in.

Noot: In 1B001.c zijn niet bedoeld textielmachines die niet voor bovengenoemde eindtoepassingen zijn aangepast.

d.

apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, als hieronder:

1.

apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting;

2.

apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide;

3.

apparatuur voor het natspinnen van vuurvaste keramische materialen (b.v. aluminiumoxide);

4.

apparatuur voor het omzetten van aluminium dat voorlopervezelmaterialen bevat, in aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling;

e.

apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de «prepregs» bedoeld in 1C010.e;

f.

inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet-destructieve technieken (NDT), geschikt voor het driedimensionaal opsporen van gebreken, welke gebruik maakt van ultrasone of röntgentomografie en speciaal is ontworpen voor "composieten".

1B002
Apparatuur voor het vervaardigen van metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, speciaal ontworpen om contaminatie te voorkomen en speciaal ontworpen voor gebruik in één van de in 1C002.c.2 bedoelde procédés.

NB: ZIE OOK 1B102

1B003
Gereedschap, matrijzen, stempels of klemmen voor het "superplastisch vormen" of "diffusielassen" van titaan of aluminium of legeringen daarvan, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van:

a.

constructies voor lucht- of ruimtevaart,.

b.

motoren voor "vliegtuigen" of ruimtevaartuigen, of

c.

speciaal ontworpen onderdelen voor bedoelde constructies en motoren.

1B101
Apparatuur, met uitzondering van de onder 1B001 bedoelde apparatuur voor de vervaardiging van composieten, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

NB: ZIE OOK 1B201

Noot: De in 1B101 bedoelde onderdelen en toebehoren omvatten onder meer matrijzen, doornen, stempels, klemmen en gereedschappen voor het persen van voorvormstukken, of het harden, gieten, sinteren of binden van composieten, laminaten en producten daarvan.

a.

draadwindmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal", alsmede besturingseenheden voor het coördineren en het programmeren daarvan;

b.

bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" voor casco’s en andere delen van vliegtuigen en "raketten";

c.

apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de "productie" van "stapel- of continuvezelmateriaal":

1.

apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting,

2.

apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten,

3.

apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (b.v. aluminiumoxide);

d.

apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels of voor het vervaardigen van de «prepregs» en «preforms», bedoeld in 9C110.

Noot: 1B101.d omvat onder meer rollen, strektoestellen, apparatuur voor het aanbrengen van deklagen, snijapparatuur en stansvormen.

1B102
Andere metaalpoeder- "productieapparatuur" dan die, bedoeld in 1B002 en onderdelen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1B115.b.

a.

metaalpoeder- "productieapparatuur", bruikbaar voor de "productie" in een gecontroleerde omgeving van sferische of vernevelde materialen als bedoeld in 1CO11.a, 1CO11.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 of in de Lijst van militaire goederen;

b.

speciaal ontworpen onderdelen van "productieapparatuur" als bedoeld in 1B002 of 1B102.a.

Noot: 1B102 omvat:

a.

Plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal), bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

b.

«Electroburst»apparatuur, bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

c.

Apparatuur, bruikbaar voor de "productie" van sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een smelt in een inert medium (bijv. stikstof).

1B115
Andere apparatuur dan die, bedoeld in 1B002 en 1B102, voor de productie van stuwstoffen en bestanddelen daarvan, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

a.

"productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren of het keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst van militaire goederen;

b.

"productieapparatuur" voor de "productie", het hanteren, mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuitgieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a, 1C011.b, 1C111 of in de Lijst militaire goederen.

Noot: In 1B115.b zijn niet bedoeld niet-continumengers, continumengers en luchtstraalmolens. Voor de controle daarop zie 1B117, 1B118 en 1B119.

Noot 1: Zie de lijst van militaire goederen voor apparatuur speciaal ontworpen voor de productie van militaire goederen.

Noot 2: In 1B115 is niet bedoeld apparatuur voor het vervaardigen, hanteren en keuren van boorcarbide.

1B116
Speciaal ontworpen spuitmonden voor de "productie" van pyrolytisch gevormde materialen op een as, mal of ander substraat van voorlopergassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900 °C) en een druk van 130 Pa tot 20 kPa.

1B117
Niet-continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met alle navolgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

a.

een totale inhoud van 110 l of meer; en

b.

ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas.

1B118
Continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met een van de volgende kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor:

a.

twee of meer meng- of kneedassen; of

b.

één roterende en oscillerende as met mengtanden/-pennen op de as en de mengkamerwand.

1B119
Luchtstraalmolens die gebruikt kunnen worden om de stoffen, genoemd in 1C011.a, 1C011.b, 1.C.111 of in de Lijst van militaire goederen, te malen of te stampen, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor.

1B201
Draadwindmachines, uitgezonderd machines als bedoeld in 1B001 of 1B101, en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

a.

draadwindmachines met alle volgende kenmerken:

1.

de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen gecoördineerd en geprogrammeerd,

2.

de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging van "composieten" of laminaten uit "stapel- of continuvezelmateriaal"; en

3.

geschikt voor het winden van cilindrische rotoren met een diameter van 75 mm tot 400 mm en een lengte van 600 mm of meer;

b.

besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines;

c.

zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a bedoelde draadwindmachines.

1B225
Elektrolytische cellen voor de productie van fluor met een capaciteit van meer dan 250 g fluor per uur.

1B226
Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren.

Noot: 1B226 omvat tevens scheiders:

a.

geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;

b.

waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden.

1B227
Converters voor ammoniaksynthese of ammoniaksynthese-eenheden waarin het synthesegas (stikstof en waterstof) wordt onttrokken uit een hoge-drukkolom voor de uitwisseling van ammoniak en waterstof en de gevormde ammoniak naar deze kolom wordt teruggevoerd.

1B228
Kolommen voor de cryogene distillatie van waterstof met alle volgende kenmerken:

a.

ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager;

b.

ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa (5-50 atm.);

c.

vervaardigd van

1.

roestvrij staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal of

2.

gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2 verdragen;

d.

met een binnendiameter van 1 m of meer en een nuttige lengte van 5 m of meer.

1B229
Schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling en de interne contactorganen daarvoor, als hieronder:

NB: Voor kolommen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de productie van zwaar water zie 0B004.

a.

schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling, met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of groter;

2.

vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; en

3.

met een diameter van 1,8 m of meer;

b.

de in 1B229.a bedoelde ‧interne contactgroepen‧ voor de schotelkolommen voor de water-zwavelwaterstof-uitwisseling.

Technische noot:

De ‧interne contactgroepen‧ van de kolommen bestaan uit gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van roestvrij staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder. Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels.

1B230
Pompen, geschikt voor de circulatie van geconcentreerde of verdunde oplossingen van de katalysator kaliumamide in vloeibare ammoniak (KNH2/NH3), met alle volgende kenmerken:

a.

luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten);

b.

met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur; en

c.

een van de volgende kenmerken:

1.

voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of

2.

voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %), een werkdruk van 20-60 MPa.

1B231
Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, als hieronder:

a.

installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium;

b.

apparatuur voor titriuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:

1.

waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (– 250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit van meer dan 150 W; of

2.

opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruik maken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium.

1B232
«Turbo expanders» of turbo-expansie/compressiesets met beide volgende kenmerken:

a.

ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van 35 K (– 238 °C) of lager; en

b.

ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1 000 kg/h of meer.

1B233
Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en apparatuur daarvoor, als hieronder:

a.

installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;

b.

apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen, als hieronder:

1.

gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;

2.

kwik- en/of lithiumamalgaampompen;

3.

lithiumamalgaam-elektrolysecellen;

4.

verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen.

1C
Materialen

Technische noot:

Metalen en legeringen:

 

Behoudens andersluidende bepalingen worden in 1C001 tot en met 1C012 onder ‧metalen‧ en ‧legeringen‧: de hierna vermelde ruwe of onbewerkte vormen en halffabrikaten verstaan:

Ruwe of onbewerkte vormen:

 

Anoden, kogels, staven (met inbegrip van gekerfde proefstaven en draadmetaal), knuppels, blokken, blooms, briketten, uitgangsblokken, kathoden, kristallen, kubussen, blokjes, korrels, granules, walsblokken, bobbels, pastilles, gietelingen, poeder, rondellen, schroot, plakken, brokken, sponsen, stiften;

Halffabrikaten (al dan niet bekleed, beplaat, geboord of gestanst):

a.

gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagextrusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk: hoekstaven, gootmetaal, ronde voorprofielen, schijven, stof, vlokken, foelies en bladmetaal, smeedstukken, platen, poeder, geperste stukken allerhande, linten, ringen, staven (met inbegrip van ruwe lasstaven, walsdraad en diverse gewalste draden), profielen, gietvormen, dunne platen, banden en buizen allerhande (met inbegrip van ronde, vierkante en holle pijpen), getrokken of geëxtrudeerde draad;

b.

gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand, metaal, gips of andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van poedermetallurgie vervaardigde producten.

De doelstellingen van de controle mogen niet worden omzeild door de uitvoer van niet gespecificeerde vormen waarvan wordt beweerd dat het om afgewerkte producten gaat, maar die in feite onbewerkte vormen of halffabrikaten zijn.

1C001
Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C101

a.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz;

Noot 1: 1C001.a is niet van toepassing op:

a.

absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie;

b.

absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend oppervlak niet vlak is, zoals pyramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken;

c.

vlakke absorberende materialen die al de onderstaande kenmerken vertonen:

1.

gemaakt van één van de volgende materialen:

a.

kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C) of

b.

keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 800 K (527 °C);

Technische noot:

Monsters voor het testen van de absorptie ten behoeve van 1C001.a. Noot 1.c.l dienen een vierkant te zijn van ten minste vijf golflengten (van de middenfrequentie) aan één zijde en geplaatst in het verre veld van het stralingselement.

2.

met een treksterkte van minder dan 7 × 106 N/m2, en

3.

met een druksterkte van minder dan 14 × 106 N/m2;

d.

vlakke absorberende materialen gemaakt van gesinterd ferriet, met:

1.

een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en

2.

een maximale werktemperatuur van 548 K (275 °C);

Noot 2: Magnetische materialen voor absorptiedoeleinden in verf vallen wel onder 1C001.a.

b.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014 Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten;

c.

intrinsiek geleidende polymere materialen met een ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ groter dan 10 000 S/m (siemens per meter) of een ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ kleiner dan 100 ohm/ vierkant, op basis van één of meer van de volgende polymeren:

1.

polyaniline;

2.

polypyrrool;

3.

polythiofeen;

4.

polyfenyleen-vinyleen; of

5.

polythienyleen-vinyleen.

Technische noot:

De ‧specifieke elektrische volumegeleidbaarheid‧ en de ‧specifieke oppervlakteweerstand‧ dienen te worden bepaald met behulp van ASTM D-257 of nationale gelijkwaardige methoden.

1C002
Metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C202

Noot: In 1C002 worden niet bedoeld: metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, voor het bekleden van substraten.

Technische noten:

1.

De metaallegeringen, bedoeld in 1C002, zijn legeringen waarin het genoemde metaal een hoger gewichtspercentage heeft dan enig ander element.

2.

De levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-139 of gelijkwaardige nationale methoden.

3.

De levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-606 ‧Recommended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue testing‧ of gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen dient axiaal te geschieden met een gemiddelde belastingsverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor (Kt) gelijk aan 1. De gemiddelde belastingsverhouding wordt gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale belasting gedeeld door de maximale belasting.

a.

aluminiden, als hieronder:

1.

nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten aluminium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

2.

titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

b.

metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van materiaal als bedoeld in 1C002.c:

1.

nikkellegeringen met:

a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een spanning van 676 MPa, of

b.

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000of meer belastingscycli met een maximale spanning van 1 095 MPa bij 823 K (550 °C);

2.

niobiumlegeringen met:

a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 1 073 K (800 °C) en een spanning van 400 Mpa, of

b.

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C);

3.

titaanlegeringen met:

a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10 000 uur of meer bij 723 K (450 °C) en een spanning van 200 MPa; of

b.

met een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10 000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C);

4.

aluminiumlegeringen met een treksterkte van:

a.

240 MPa of meer bij 473 K (200 °C), of

b.

415 MPa of meer bij 298 K (25 °C);

5.

magnesiumlegeringen met:

a.

een treksterkte van 345 MPa of meer; en

b.

een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale equivalenten;

c.

metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal, met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen:

Technische noot:

X staat voor één of meer legeringselementen.

a.

nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d. w. z. met minder dan drie niet-metallieke deeltjes (verontreinigingen van het fabricageproces) groter dan 100 micrometer op 109 legeringsdeeltjes;

b.

niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti);

c.

titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al);

d.

aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe), of

e.

magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al);

2.

vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procédés:

a.

"verstuiving in vacuüm";

b.

"verstuiving in gas";

c.

"roterend verstuiven";

d.

"versplintering door snelle afkoeling" («splat quenching»);

e.

"spinnen uit de smelt" en "vergruizing";

f.

"smeltextractie" en "vergruizing", of

g.

"mechanisch legeren"; en

3.

in staat in 1C002.a of 1C002.b bedoelde materialen te vormen;

d.

gelegeerde materialen met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenstellingssystemen;

2.

in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven, en

3.

vervaardigd in een beheerst milieu door middel van een van de volgende procédés:

a.

"versplintering door snelle afkoeling";

b.

"spinnen uit de smelt", of

c.

"smeltextractie".

1C003
Magnetische metalen van alle soorten, ongeacht de vorm, met een of meer van de volgende kenmerken:

a.

een relatieve beginpermeabiliteit van 120 000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder;

Technische noot:

De beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is.

b.

magnetostrictieve legeringen met:

1.

een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4, of

2.

een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8; of

c.

strips van amorfe of ‧nanokristallijne‧ legeringen met de volgende eigenschappen:

1.

een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel, en

2.

een magnetische verzadigingsinductie (BS) van 1,6 T of meer, en

3.

een of meer van de volgende eigenschappen

a.

een stripdikte van 0,02 mm of minder, of

b.

een elektrische soortelijke weerstand van 2.10-4 ohm cm of meer.

Technische noot:

‧Nanokristallijne‧ materialen in 1C003.c zijn materialen met een kristalkorrelgrootte van hoogstens 50 nm, bepaald door middel van röntgendiffractie.

1C004
Uraan-titaanlegeringen of wolfraamlegeringen met een "matrix" op basis van ijzer, nikkel of koper, met de volgende eigenschappen:

a.

een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3;

b.

een elastische rekgrens groter dan 880 MPa;

c.

een breukspanning groter dan 1 270 MPa, en

d.

een rek groter dan 8 %.

1C005
"Supergeleidende""composiet"-geleiders in lengten groter dan 100 m of met een massa groter dan 100 g, als hieronder:

a.

"supergeleidende""composiet"-geleiders met verscheidene filamenten welke een of meer niobium-titaanvezels bevatten:

1.

ingebed in een "matrix" anders dan een koper- "matrix" of in een op koper gebaseerd "matrix"-mengsel, of

2.

met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2 (d.w.z. 6 micrometer diameter voor ronde draad);

b.

"supergeleidende""composiet"-geleiders, bestaande uit één of meer "supergeleidende" filamenten, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:

1.

een "kritische temperatuur" bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K (– 263,31 °C) doch lager dan 24 K (– 249,16 °C);

2.

een doorsnedeoppervlakte kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2; en

3.

in een "supergeleidende" toestand blijvend bij een temperatuur van 4,2 K (– 268,96 °C) bij blootstelling aan een magnetisch veld dat overeenstemt met een magnetische inductie van 12 T.

1C006
Vloeistoffen en smeermiddelen, als hieronder:

a.

hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of materialen:

1.

oliën van synthetische silakoolwaterstoffen met:

Technische noot:

Voor de toepassing van 1C006.a.1 bevatten oliën van silakoolwaterstoffen uitsluitend silicium, waterstof en koolstof.

a.

een vlampunt hoger dan 477 K (204 °C);

b.

een vloeipunt bij 239 K (– 34 °C) of lager;

c.

een viscositeitsindex van 75 of hoger, en

d.

een thermische stabiliteit bij 616 K (343 °C) of hoger, of

2.

chloorfluorkoolstoffen met:

Technische noot:

Voor de toepassing van 1C006.a.2 bevatten chloorfluorkoolstoffen uitsluitend koolstof, fluor en chloor.

a.

geen vlampunt;

b.

een autogene ontbrandingstemperatuur hoger dan 977 K (704 °C);

c.

een vloeipunt bij 219 K (– 54 °C) of lager;

d.

een viscositeitsindex van 80 of hoger; en

e.

een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger;

b.

smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende verbindingen of materialen:

1.

fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan; of

2.

gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5 000 mm2/s (5 000 centistokes), gemeten bij 298 K (25 °C);

c.

dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met een zuiverheid groter dan 99,8 % en met minder dan 25 deeltjes van 200 micrometer of groter per 100 ml, gemaakt van ten minste 85 % van één of meer van onderstaande verbindingen of materialen:

1.

dibroomtetrafluorethaan;

2.

polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties); of

3.

polybroomtrifluoretheen;

d.

fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische systemen met de volgende eigenschappen:

1.

minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of mengsels daarvan:

a.

monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of perfluoralifatische ethers;

b.

perfluoralkylaminen;

c.

perfluorcycloalkanen, of

d.

perfluoralkanen;

2.

een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 °C);

3.

vloeibaar bij 273 K (0 °C); en

4.

minstens 60 gewichtspercenten fluor.

Technische noot:

Voor de toepassing van 1C006:

a.

wordt het vlampunt bepaald door gebruik te maken van de Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale equivalenten;

b.

wordt het vloeipunt bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-97, of nationale equivalenten;

c.

wordt de viscositeitsindex bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-2270, of nationale equivalenten;

d.

wordt de thermische stabiliteit bepaald volgens onderstaande testprocedure of nationale equivalenten: 20 ml van de te testen vloeistof wordt gebracht in een roestvrij stalen kamer (type 317) van 46 ml, die de volgende kogels met een (nominale) diameter van 12,5 mm bevat: één van M-10 gereedschapsstaal, één van 52100-staal en één van bronstobin (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 % Sn).

De kamer wordt gespoeld met stikstofgas, bij atmosferische druk luchtdicht afgesloten en verhit tot 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) en gedurende zes uur op deze temperatuur gehouden. Het monster wordt geacht thermisch stabiel te zijn indien bij het beëindigen van bovengenoemde procedure aan alle volgende voorwaarden wordt voldaan:

1.

het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel;

2.

de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder dan 25 %; en

3.

het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40;

e.

wordt de autogene ontbrandingstemperatuur bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM E-659, of nationale equivalenten daarvan.

1C007
Keramische basismaterialen, keramische materialen die geen "composieten" zijn, "composieten" met een keramische "matrix", en voorlopermaterialen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C107

a.

basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5 000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 micrometer, terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer;

b.

keramische materialen die geen "composieten" zijn in ruwe vorm of als halffabrikaat samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of hoger;

Noot: In 1C007.b zijn niet bedoeld slijpmiddelen.

c.

keramisch-keramische "composieten" met een glas- of oxide- "matrix" en versterkt met vezels, met alle volgende kenmerken:

1.

gemaakt van een van de volgende materialen

a.

Si-N;

b.

Si-C;

c.

Si-Al-O-N; of

d.

Si-O-N; en

2.

met een specifieke treksterkte van meer dan 12,7 × 103m;

d.

keramisch-keramische "composieten", met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de "matrix" vormen;

e.

voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen, bedoeld in 1C007.c, als hieronder:

1.

polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide);

2.

polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride); of

3.

polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten);

f.

keramisch-keramische "composieten" met een oxide- of glas- "matrix", versterkt met continuvezels van één van de volgende systemen:

1.

Al203; of

2.

Si-C-N.

Noot: 1C007.f is niet van toepassing op "composieten" die vezels bevatten van deze systemen met een vezeltreksterkte van minder dan 700 MPa bij 1 273 K (1 000 °C) of een trek-krimpweerstand van meer dan 1 % krimp bij een belasting van 100 MPa bij 1 273 K (1 000 °C) gedurende 100 uren.

1C008
Niet-gefluoreerde polymeren, als hieronder:

a.

1.

bismaleimiden;

2.

aromatische polyamidimiden;

3.

aromatische polyimiden;

4.

aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 513 K (240 °C) gemeten volgens de in ASTM D 3418 beschreven droge methode;

Noot: In 1C008.a zijn niet bedoeld onsmeltbare perspoeders of gevormde (eind) producten.

b.

thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmtevervormingstemperatuur hoger dan 523 K (250 °C), gemeten volgens ASTM D-648, methode A, of nationale equivalenten, bij een belasting van 1,82 N/mm2 en samengesteld uit:

1.

één van beide volgende groepen materialen:

a.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen, of

b.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie, en

2.

één van de volgende zuren:

a.

tereftaalzuur;

b.

6-hydroxy-2-naftoëzuur; of

c.

4-hydroxybenzoëzuur;

c.

polyaryleenetherketonen, als hieronder:

1.

polyetheretherketonen (PEEK),

2.

polyetherketonketonen (PEKK),

3.

polyetherketonen (PEK),

4.

polyetherketonenetherketonketonen (PEKEKK);

d.

polyaryleenketonen;

e.

polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifenyleen, trifenyleen of combinaties daarvan;

f.

polybifenyleenethersulfonen.

Technische noot:

De glastemperatuur (Tg) voor de in 1C008 bedoelde materialen wordt bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D 3418, met gebruikmaking van de droge methode.

1C009
Onbewerkte fluorverbindingen, als hieronder:

a.

copolymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta kristallijnstructuur zonder strekken;

b.

gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten;

c.

gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten.

1C010
"Stapel- en continuvezelmateriaal" dat gebruikt kan worden in "composieten" of laminaten met een organische "matrix", metallische "matrix" of koolstof- "matrix", als hieronder:

NB: ZIE OOK 1C210

a.

organisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende eigenschappen:

1.

een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en

2.

een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m;

Noot: 1C010.a is niet van toepassing op polyethyleen.

b.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof met de volgende eigenschappen:

1.

een "specifieke modulus" groter dan 12,7 × 106 m, en

2.

een "specifieke treksterkte" groter dan 23,5 × 104 m;

Noot: 1C010.b is niet van toepassing op weefsels, gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten, als de afzonderlijke vellen niet groter zijn dan 50 cm × 90 cm.

Technische noot:

De eigenschappen van materialen als bedoeld in 1C010.b dienen te worden bepaald met gebruik van aanbevolen methoden SRM 12 t/m 17 van Suppliers of Advanced Composite Materials Association (SACMA) of nationale trektests, zoals de Japanse industriestandaard JIS-R-7601, paragraaf 6.6.2, en dienen te zijn gebaseerd op de gemiddelde waarden van een partij.

c.

anorganisch "stapel- en continuvezelmateriaal" met de volgende eigenschappen:

1.

en "specifieke modulus" groter dan 2,5 × 106 m; en

2.

een smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1 922 K (1 649 °C) in een inerte atmosfeer;

Noot: in 1C010.c zijn niet bedoeld:

1.

discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxide-vezels als stapelvezels of als onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een "specifieke modulus" kleiner dan 10 × 106 m;

2.

vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen;

3.

boorvezels;

4.

discontinue keramische vezels met een smelt-, verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2 043 K (1 770 °C) in een inerte atmosfeer;

d.

"stapel- of continuvezelmateriaal":

1.

samengesteld uit een of meer van de volgende materialen:

a.

polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a, of

b.

materialen, als bedoeld in 1C008.b t.em. f, of

2.

samengesteld uit andere materialen als bedoeld in 1C010.d.1.a, of 1C010d.1.b, en "vermengd" («commingled») met andere vezels als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c;

e.

met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde vezels («prepregs»), met metaal of koolstof beklede vezels («preforms») of "halffabrikaten voor koolstofvezels", zoals:

1.

gemaakt van "stapel- of continuvezelmateriaal" als bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.c;

2.

gemaakt van organisch "stapel- of continuvezelmateriaal" of "stapel- of continuvezelmateriaal" van koolstof:

a.

met een "specifieke treksterkte" groter dan 17,7 × 104 m,

b.

met een "specifieke modulus" groter dan 10,15 × 106 m,

c.

niet bedoeld in 1C010.a of 1C010.b, en

d.

wanneer geïmpregneerd met materialen bedoeld in 1C008 of 1C009.b met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 383 K (110 °C) of met fenol- of epoxyharsen met een glastemperatuur (Tg) hoger dan 418 K (145 °C).

Noot: 1C010.e is niet van toepassing op

a.

met epoxyhars geïmpregneerd koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" («prepregs») voor de reparatie van vliegtuigcasco’s of laminaten als de afzonderlijke «prepreg»-vellen niet groter zijn dan 50 cm × 90 cm.

b.

«prepregs», geïmpregneerd met fenol- of epoxyharsen met een glastemperatuur (Tg) van minder dan 433 K (160 °C) en een hardingstemperatuur die lager ligt dan de glastemperatuur.

Technische noot:

De glastemperatuur (Tg) voor de onder 1C010.e. vallende materialen wordt bepaald met de droge methode, volgens de in ASTM D 3418 beschreven methode. De glastemperatuur voor fenol- en epoxyharsen wordt bepaald volgens de methode die is beschreven in ASTM D 4065 bij een frequentie van 1 Hz en een verwarmingssnelheid van 2 K (°C) per minuut, met toepassing van de droge methode.

1C011
Metalen en verbindingen, als hieronder:

NB: ZIE OOK LIJST MILITAIRE GOEDEREN en 1C111

a.

Metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 micrometer, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, vervaardigd uit materiaal dat voor 99 % of meer bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan;

Technische noot:

Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

Noot: De metalen of legeringen in 1C011.a vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.

b.

Boor of boorcarbide met een zuiverheidsgraad van minstens 85 % en een deeltjesgrootte van hoogstens 60 micrometer;

Noot: De metalen of legeringen in 1C011.b vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.

c.

Guanidinenitraat;

d.

Nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).

1C012
Materialen, als hieronder:

Technische noot:

Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmtebronnen gebruikt.

a.

plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent;

Noot: 1C012.a is niet van toepassing op:

a.

zendingen die hoogstens 1 % plutonium bevatten;

b.

zendingen van hoogstens 3 "effectieve grammen" in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten.

b.

"door opwerking verkregen" neptunium-237 in iedere vorm.

Noot: 1C012.b. is niet van toepassing op zendingen die hoogstens 1 gram neptunium-237 bevatten.

1C101
Materialen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in "raketten" en subsystemen daarvan.

Noot 1: 1C101 omvat:

a.

constructiematerialen en deklagen, speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken;

b.

deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen.

Noot 2: 1C101 omvat niet deklagen die speciaal bedoeld zijn om de thermische stabiliteit van satellieten te regelen.

1C102
Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-materialen bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104.

1C107
Niet in 1C007 beschreven grafiet en keramische materialen, als hieronder:

a.

geherkristalliseerd grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een deeltjesgrootte van 100 micrometer of minder, geschikt voor "raket"straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen, als hieronder:

1.

Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

2.

Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

3.

Blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm.

NB: Zie ook 0C004

b.

pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor "raket"straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen;

NB: Zie ook 0C004

c.

keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij frequenties van 100 Hz tot 10 000 MHz), geschikt voor "raket"radarkoepels;

d.

zgn. groene, bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor "raket"neuskegels.

1C111
Niet in 1C011 beschreven stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen, als hieronder:

a.

stoffen die stuwkracht leveren:

1.

bolvormig aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, met deeltjes met een uniforme diameter kleiner dan 200 micrometer en een aluminiumgehalte van 97 gewichtspercenten of meer, indien ten minste 10 % van het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 63 micrometer overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale equivalenten;

Technische noot:

Een deeltjesgrootte van 63 micrometer (ISO R-565) stemt overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard E-11).

2.

metaalbrandstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst van militaire goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 60 micrometer, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, welke 97 gewichtspercenten of meer van één van onderstaande stoffen bevatten:

a.

zirkonium;

b.

beryllium;

c.

magnesium, of

d.

legeringen van de onder a tot en met c genoemde metalen;

Technische noot:

Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

3.

de volgende vloeibare oxidatoren:

a.

distikstoftrioxide;

b.

stikstofdioxide/distikstoftetraoxide;

c.

distikstofpentoxide;

d.

mengsels van stikstofoxiden (mixed oxides of nitrogen, MON);

Technische noot:

Mengsels van stikstofoxiden (MON) zijn oplossingen van stikstofoxide (NO) in distikstoftetraoxide/stikstofdioxide (N2O4 /NO2) die in raketsystemen kunnen worden gebruikt. Er bestaan diverse verbindingen die als MONi of MONij kunnen worden aangeduid, waarbij i en j hele getallen zijn die het percentage stikstofoxide in het mengsel weergeven (zo bevat MON3 3 % stikstofoxide en MON25 25 %. Een bovengrens is MON40, d.w.z. 40 gewichtsprocent).

e.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR geïnhibeerd roodrokend salpeterzuur (Inhibited Red Fuming Nitric Acid, IRFNA);

f.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C238 VOOR verbindingen bestaande uit fluor en een of meer andere halogenen, zuurstof of stikstof.

b.

polymeren:

1.

polybutadieen met carboxy-eindgroep (CTPB);

2.

polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB), anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen;

3.

polybutadieen-acrylzuur (PBAA);

4.

polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN);

c.

andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:

1.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR carboranen; decaboranen; pentaboranen en derivaten;

2.

triethyleenglycoldinitraat (TEGDN);

3.

2-nitrodifenylamine;

4.

trimethylethaantrinitraat (TMETN);

5.

diethyleenglycoldinitraat (DEGDN).

6.

Ferroceenderivaten, als hieronder .

a.

zie lijst militaire goederen voor catoceen

b.

ethylferroceen

c.

propylferroceen

d.

zie lijst militaire goederen voor n-butylferroceen

e.

pentylferroceenferroceen

f.

dicyclopentylferroceen

g.

dicyclohexylferroceen

h.

diethylferroceen

i.

dipropylferroceen

j.

dibutylferroceen

k.

dihexylferroceen

l.

acetylferroceen

m.

zie lijst militaire goederen voor ferroceencarboxylzuren

n.

zie lijst militaire goederen voor butaceen

o.

andere ferroceenderivaten die kunnen worden gebruikt als verbrandingssnelheidsmodificatoren voor raketstuwstoffen, die niet onder de lijst militaire goederen vallen.

Noot: Zie voor andere niet in 1C111 vermelde stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen de lijst militaire goederen.

1C116
Maragingstaal (staalsoorten die gewoonlijk door een hoog nikkelgehalte, een zeer laag koolstofgehalte en het gebruik van vervangende elementen of precipitaten voor het tijdharden worden gekenmerkt) met een eindtreksterkte (UTS) van 1 500 MPa of meer bij 293 K (20 °C) in de vorm van plaat of buis met een wand- of plaatdikte van 5 mm of minder.

NB: ZIE OOK 1C216

1C117
Wolfraam, molybdeen en legeringen daarvan in de vorm van uniform bolvormige of verstoven deeltjes met een diameter van 500 micrometer of minder en met een zuiverheid van 97 % of meer voor de productie van raketmotoronderdelen, d. w. z. hitteschilden, straalpijpsubstraten, straalpijpkelen en regeloppervlakken voor de stuwstraal.

1C118
Duplex roestvast staal met titaanstabilisatie (Ti-DSS), met de volgende eigenschappen:

a.

met alle navolgende kenmerken:

1.

het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-7,0 gewichtspercenten nikkel;

2.

het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten; en

3.

een ferritisch-austenitische microstructuur (ook twee-fasenmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste 10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87 of nationale equivalenten); en

b.

in een van de volgende vormen:

1.

walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in elke richting;

2.

platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte van 3 mm of minder; of

3.

buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en een wanddikte van 3 mm of minder.

1C202
Legeringen, anders dan bedoeld in 1C002.b.3 of 1C002.b.4, als hieronder:

a.

aluminiumlegeringen met beide volgende kenmerken:

1.

‧geschikt voor‧ een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

2.

buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm;

b.

titaanlegeringen met beide volgende kenmerken:

1.

‧geschikt voor‧ een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

2.

buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm.

Technische noot:

De zinsnede legeringen ‧geschikt voor‧ omvat legeringen zowel voor als na warmtebehandeling.

1C210
"Stapel- en continuvezelmateriaal" of «prepregs», anders dan bedoeld in 1C010.a, 1C010.b of 1C010.e, als hieronder:

a.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of aramide met een van de volgende kenmerken:

1.

een "specifieke modulus" van 12,7 × 106 m of groter: of

2.

een "specifieke treksterkte" van 235 × 103 m of meer;

Noot: 1C210.a. is niet van toepassing op "stapel- en continuvezelmateriaal" van aramide dat ten minste 0,25 gewichtspercent bevat van een op een ester gebaseerde vezeloppervlakmodificator.

b.

"stapel- en continuvezelmateriaal" van glas met beide volgende kenmerken:

1.

een "specifieke modulus" van 3,18 × 106 m of meer: en

2.

een "specifieke treksterkte" van 76,2 × 104 m of meer;

c.

thermogeharde met hars geïmpregneerde continu- "garens", — "rovings", — "linten" of "banden" met een breedte van 15 mm of minder («prepregs»), vervaardigd uit "stapel- en continuvezelmateriaal" van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a of 1C210.b.

Technische noot:

Het hars vormt de matrix van de composiet.

Noot: In 1C210 is "stapel- en continuvezelmateriaal" beperkt tot continue "monofilamenten""garens", «rovings», "linten" of "banden".

1C216
Maragingstaal, anders dan bedoeld in 1C116, ‧geschikt voor‧ een treksterkte van 2 050 MPa of meer bij 293 K (20 °C).

Noot: 1C216 is niet van toepassing op maragingstaal in een vorm waarin geen enkele lineaire maat groter is dan 75 mm.

Technische noot:

De zinsnede maragingstaal ‧geschikt voor‧ omvat maragingstaal zowel voor als na warmtebehandeling.

1C225
Boor, verrijkt in de boor-10-isotoop (10B) tot meer dan de natuurlijke abundantie, in de hiernavolgende vormen: elementair boor, boorverbindingen, boorhoudende mengsels, fabrikaten daarvan, afval en schroot van deze stoffen.

Noot: De in 1C225 bedoelde boorhoudende mengsels omvatten met boor beladen materialen.

Technische noot:

De natuurlijke abundantie van boor-10 is ongeveer 18,5 gewichtspercenten (20 percent op atomaire basis).

1C226
Wolfraam, wolfraamcarbide en legeringen die meer dan 90 gewichtspercenten wolfraam bevatten, met beide volgende kenmerken:

a.

in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en

b.

met een massa groter dan 20 kg.

Noot: 1C226 is niet van toepassing op fabrikaten die speciaal ontworpen zijn als gewicht of collimator voor gammastralen.

1C227
Calcium met beide volgende kenmerken:

a.

bevat minder dan 1 000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan magnesium; en

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

1C228
Magnesium met beide volgende kenmerken:

a.

bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan calcium; en

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

1C229
Bismut met beide volgende kenmerken:

a.

een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en

b.

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen zilver.

1C230
Beryllium, als hierna metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten beryllium bevatten, berylliumverbindingen, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C230 is niet van toepassing op:

a.

vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal;

b.

vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of halffabrikaat, speciaal ontworpen voor elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen;

c.

beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van smaragden of aquamarijnen.

1C231
Hafnium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, verbindingen van hafnium die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

1C232
Helium-3 (3He), mengsels die helium-3 bevatten, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.

Noot: 1C232 is niet van toepassing op een product of apparaat dat minder dan 1 g helium-3 bevat.

1C233
Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen, lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabrikaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C233 is niet van toepassing op thermoluminescentie-stralingsmeters.

Technische noot:

De natuurlijk abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer 6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis).

1C234
Zirkonium met een hafniumgehalte van minder dan 1 gewichtsdeel hafnium op 500 gewichtsdelen zirkonium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten zirkonium bevatten, verbindingen, fabrikaten daarvan, afval of schroot van deze stoffen.

Noot: 1C234 is niet van toepassing op zirkonium in de vorm van folie met een dikte van 0,10 mm of minder.

1C235
Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten, waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal waterstofatomen groter is dan 1: 1000, en producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten,

Noot: 1C235 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium in welke vorm dan ook bevat.

1C236
Alfastralers met een alfahalveringstijd van tien dagen of langer doch korter dan 200 jaar, in de volgende vormen:

a.

de elementaire vorm;

b.

verbindingen met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

c.

mengsels met een totale alfa-activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

d.

producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten.

Noot: 1C236 is niet van toepassing op een product of toestel dat minder dan 3,7 GBq (100 millicurie) alfa-activiteit bevat.

1C237
Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringen, radium-226-verbindingen, mengsels die radium-226 bevatten, fabrikaten daarvan, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten.

Noot: 1C237 is niet van toepassing op:

a.

medische middelen;

b.

een product of toestel dat minder dan 0,37 GBq (10 millicurie) radium-226 bevat.

1C238
Chloortrifluoride (ClF3)

1C239
Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan 2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid groter dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8 000 m/s.

1C240
Nikkelpoeder en poreus nikkelmetaal, anders dan bedoeld in OC005, zoals:

a.

nikkelpoeder met beide volgende kenmerken:

1.

een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer; en

2.

een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 micrometer, gemeten volgens ASTM Standaard B330;

b.

poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal, bedoeld in 1C240.a.

Noot: 1C240 is niet van toepassing op:

a.

vezelvormige nikkelpoeders;

b.

enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een oppervlakte per plaat van 1 000 cm2 of minder.

Technische noot:

1C240.b heeft betrekking op poreus metaal dat gevormd is door samenpersing en sintering van de materialen in 1C240.a, om een materiaal van metaal te vormen met fijne poriën die door de gehele structuur heen onderling verbonden zijn.

1C350
Chemische stoffen, geschikt voor het vervaardigen van toxische stoffen, als hieronder, en "chemische mengsels" die een of meer van deze stoffen bevatten:

NB: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C450

1.

Thiodiglycol (111-48-8);

2.

Fosforoxychloride (10025-87-3);

3.

Dimethylmethylfosfonaat (765-79-6);

4.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Methylfosfonyldifluoride (676-99-3);

5.

Methylfosfonyldichloride (676-97-1);

6.

Dimethylfosfiet (868-85-9);

7.

Fosfortrichloride (7719-12-2);

8.

Trimethylfosfiet (121-45-9);

9.

Thionylchloride (7719-09-7);

10.

3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);

11.

2-Diisopropylaminoethylchloride (96-79-7);

12.

2-Diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9);

13.

Chinuclidine-3-ol (1619-34-7);

14.

Kaliumfluoride (7789-23-3);

15.

2-Chloorethanol (107-07-3);

16.

Dimethylamine (124-40-3);

17.

Diethylethylfosfonaat (78-38-6);

18.

Diethyl-N, N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07);

19.

Diethylfosfiet (762-04-9);

20.

Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);

21.

Dichloorethylfosfine (1498-40-4);

22.

Ethylfosfonyldichloride (1066-50-8);

23.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR Ethylfosfonyldifluoride (753-98-0);

24.

Waterstoffluoride (7664-39-3);

25.

Methylbenzilaat (76-89-1);

26.

Dichloormethylfosfine (676-83-5);

27.

2-Diisopropylaminoethanol (96-80-0);

28.

Pinacolylalcohol (464-07-3);

29.

ZIE LIJST MILITAIRE GOEDEREN VOOR O-Ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (57856-11-8);

30.

Triethylfosfiet (122-52-1);

31.

Arseentrichloride (7784-34-1);

32.

Benzilzuur (76-93-7);

33.

Diethylmethylfosfoniet (15715-41-0);

34.

Dimethylethylfosfonaat (6163-75-3);

35.

Difluorethylfosfine (430-78-4);

36.

Difluormethylfosfine (753-59-3);

37.

Chinuclidine-3-on (3731-38-2);

38.

Fosforpentachloride (10026-13-8);

39.

Pinacolon (75-97-8);

40.

Kaliumcyanide (151-50-8);

41.

Kaliumbifluoride (7789-29-9);

42.

Ammoniumbifluoride (1341-49-7);

43.

Natriumfluoride (7681-49-4);

44.

Natriumbifluoride (1333-83-1);

45.

Natriumcyanide (143-33-9);

46.

Triethanolamine (102-71-6);

47.

Fosforpentasulfide (1314-80-3);

48.

Diisopropylamine (108-18-9);

49.

2-Diethylaminoethanol (100-37-8);

50.

Natriumsulfide (1313-82-2);

51.

Zwavelmonochloride (10025-67-9);

52.

Zwaveldichloride (10545-99-0);

53.

Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);

54.

2-Chloorethyldiisopropyl-ammoniumchloride (4261-68-1).

Noot 1: Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36 en .54 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 2: Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C350 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36 en .54 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 3: In 1C350 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52 en .53 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 4: In 1C350 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik.

1C351
Humane pathogenen, zoönosen en "toxinen", als hieronder:

a.

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Chikungunyavirus;

2.

Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus);

3.

Denguevirus;

4.

Eastern equine encefalitisvirus;

5.

Ebolavirus;

6.

Hantaanvirus;

7.

Juninvirus;

8.

Lassavirus;

9.

Lymfocytaire-choriomeningitisvirus;

10.

Machupovirus;

11.

Marburgvirus;

12.

Apenpokkenvirus;

13.

Rift Valleyvirus;

14.

Tekenencephalitisvirus (RSSE-virus);

15.

Variolavirus;

16.

Venezuelan equine encefalitisvirus;

17.

Western equine encefalitisvirus;

18.

Witte-pokkenvirus;

19.

Gele-koortsvirus;

20.

Japanse-encefalitisvirus;

21.

Kyasanur Forest-virus;

22.

Louping ill-virus;

23.

Murray Valley-encefalitisvirus;

24.

Omsk hemorragische-koortsvirus;

25.

Oropouche-virus;

26.

Powassan-virus;

27.

Rocio-virus;

28.

Saint-Louis-encefalitisvirus;

29.

Hendra-virus (Equine-morbillivirus);

30.

Zuid-Amerikaanse hemorragische koorts (Sabia, Flexal, Guanarito);

31.

Virussen die een hemorragische koorts met pulmonair en renaal syndroom veroorzaken (Seoul, Dobrava, Puumala, Sin Nombre);

32.

Nipah-virus

b.

rickettsiën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Coxiella burnetii;

2.

Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana);

3.

Rickettsia prowasecki;

4.

Rickettsia rickettsii;

c.

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Bacillus anthracis;

2.

Brucella abortus;

3.

Brucella melitensis;

4.

Brucella suis;

5.

Chlamydia psittaci;

6.

Chlostridium botulinum;

7.

Francisella tularensis;

8.

Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);

9.

Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);

10.

Salmonella typhi;

11.

Shigella dysenteriae;

12.

Vibrio cholerae;

13.

Yersinia pestis;

14.

Clostridium perfringens epsilontoxine-producerende types;

15.

Enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxine-producerende serotypes.

d.

"toxinen", als hieronder, alsmede "sub-eenheden van toxinen" daarvan:

1.

Botulinum toxinen;

2.

Clostridium perfringens toxinen;

3.

Conotoxine;

4.

Ricine;

5.

Saxitoxine;

6.

Shigatoxine;

7.

Staphylococcus aureus toxinen;

8.

Tetrodotoxine;

9.

Verotoxine;

10.

Microcystine (Cyanginosine);

11.

Aflatoxinen;

12.

Abrine;

13.

Choleratoxine;

14.

Diacetoxyscirpenol;

15.

T-2-toxine;

16.

HT-2-toxine;

17.

Modeccine;

18.

Volkensine;

19.

Viscum album lectine 1 (Viscumine).

Noot: 1C351.d. is niet van toepassing op botulinum toxinen of conotoxinen als product dat aan alle navolgende criteria voldoet:

1.

het gaat om farmaceutische formules, ontwikkeld om aan de mens te worden toegediend bij de behandeling van een aandoening;

2.

zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te worden verhandeld;

3.

een overheidsinstantie heeft een vergunning afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel te brengen.

Noot: 1C351 is niet van toepassing op "vaccins" of "immunotoxinen".

1C352
Dierpathogenen, als hieronder:

a.

virussen, natuurlijk versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Afrikaanse varkenspestvirus;

2.

Aviaire-influenzavirus, hetzij:

a.

niet-gekarakteriseerd, hetzij

b.

zoals omschreven in Richtlijn 92/40/EEG (PB nr. L 167 van 22.6.1992, blz. 1) met een hoge pathogeniteitsindex, als hieronder:

1.

type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer dan 1,2, of

2.

type A-virussen, subtype H5 of H7, waarvoor door middel van «sequencing» van de nucleotiden is aangetoond dat verschillende basische aminozuren aanwezig zijn aan de breukzijde van het hemaglutinine;

3.

Bluetonguevirus;

4.

Mond- en klauwzeervirus;

5.

Geitenpokkenvirus;

6.

Virus van de ziekte van Aujeszky;

7.

Klassieke-varkenspestvirus;

8.

Lyssavirus;

9.

Virus van de ziekte van Newcastle (pseudovogelpestvirus);

10.

Virus van de kleine-herkauwerspest;

11.

Porcien enterovirus type 9 (vesiculaire-varkensziektevirus);

12.

Runderpestvirus;

13.

Schapenpokkenvirus;

14.

Virus van de ziekte van Teschen;

15.

Vesiculaire-stomatitisvirus;

16.

Virus van de nodulaire dermatose bij runderen;

17.

Afrikaanse-paardenpestvirus.

b.

mycoplasma mycoides, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met mycoplasma mycoides is geïnoculeerd of besmet.

Noot: 1C352 is niet van toepassing op "vaccins".

1C353
Genetische elementen en genetisch gemodificeerde organismen, als hieronder:

a.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die de nucleïnezuursequenties bevatten die de pathogeniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a t/m 1C351.c, 1C352 of 1C354;

b.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die nucleïnezuursequenties bevatten die coderen voor een van de "toxinen" bedoeld in 1C351.d of "sub-eenheden van toxinen" daarvan.

Technische noot:

Genetische elementen omvatten, onder andere, chromosomen, genomen, plasmiden, transposons en vectoren, al dan niet genetisch gemodificeerd.

Noot: 1C353 is niet van toepassing op nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxine-producerende stammen dan die welke coderen voor verotoxine of subeenheden daarvan.

1C354
Plantpathogenen, als hieronder:

a.

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Potato Andean latent tymovirus;

2.

Potato spindle tuber viroid;

b.

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Xanthomonas albilineans;

2.

Xanthomonas campestris pv. citri., met inbegrip van stammen, aangeduid als Xanthomonas campestris pv. citri types A, B, C, D, E of anderszins ingedeeld als Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia of Xanthomonas campestris pv. citrumelo;

3.

Xanthomonas oryzae pv. Oryzae (Pseudomonas campestris pv. Oryzae);

4.

Clavibacter michiganensis subsp. Sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. Sepedonicum of Corynebacterium Sepedonicum);

5.

Ralstonia solanacearum Rassen 2 en 3 (Pseudomonas solanacearum Rassen 2 en 3 of Burkholderia solanacearum Rassen 2 en 3);

c.

schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van "geïsoleerde levende culturen" of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1.

Colletotrichum coffeanum var. virulans (colletotrichum kahawae);

2.

Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);

3.

Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);

4.

Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. tritici);

5.

Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);

6.

Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia oryzae).

1C450
Giftige chemische stoffen en voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder, en "chemische mengsels" die een of meer van deze stoffen bevatten:

NB: ZIE OOK 1C350, 1C351.d EN DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN

a.

Giftige chemische stoffen, als hieronder:

1.

amiton: O,O-diethyl-S-[2-(diethylamino) ethyl]fosforthiolaat (78-53-5) en de overeenkomstige gealkyleerde of geprotoneerde zouten;

2.

PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen (382-21-8);

3.

ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2);

4.

fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5);

5.

chloorcyaan (506-77-4);

6.

cyaanwaterstof (74-90-8);

7.

chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2);

Noot 1: Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.1 en .a.2 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 1 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 2: Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.1 en .a.2 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 3: In 1C450 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.a.4, .a.5,. a.6 en .a.7 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

b.

Voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder:

1.

stoffen, behalve die welke zijn opgenomen in de Lijst van militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl- of (normale of iso-) propylgroep maar geen andere koolstofatomen;

Noot: 1C450.b.1. is niet van toepassing op Fonofos: O-ethyl-S-fenylethyl-fosfonthiolthionaat (944-22-9);

2.

N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidodihalogeniden;

3.

andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]-N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]fosforamidaten dan diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat, dat genoemd wordt in 1C350;

4.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]aminoethyl-2-chloriden en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amionoethylchloride - hydrochloride, die genoemd worden in 1C350;

5.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]aminoethaan-2-olen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-800), en N,N-diethylaminoethanol (100-37-8) die genoemd worden in 1C350;

Noot: 1C450.b.5. is niet van toepassing op:

a)

N,N-dimethylaminoethanol (108-01-0) en overeenkomstige geprotoneerde zouten;

b)

geprotoneerde zouten van N,N-diethylaminoethanol (100-37-8);

6.

andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso-) propyl]aminoethaan-2-thiolen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350;

7.

ethyldiethanolamine (139-87-7);

8.

methyldiethanolamine (105-59-9).

Noot 1: Voor uitvoer naar "Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 en .b.6 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 2: Voor uitvoer naar "Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens" worden in 1C450 niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 en .b.6 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot 3: In 1C450 worden niet bedoeld "chemische mengsels" die een of meer van de in de punten 1C450.b.7 en .b.8 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt.

Noot: In 1C450 worden niet bedoeld producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik.

1D
Programmatuur

1D001
"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1B001, 1B002 en 1B003.

1D002
"Programmatuur" voor de "ontwikkeling" van laminaten of "composieten" met een organische "matrix", een metaal- "matrix" of een koolstof- "matrix".

1D101
"Programmatuur", speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van de in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 of 1B119 bedoelde goederen.

1D103
"Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor de analyse van de beperking van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld.

1D201
"Programmatuur", speciaal ontwikkeld voor het "gebruik" van de in 1B201 bedoelde goederen.

1E
Technologie

1E001
"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" of "productie" van apparatuur of materialen, bedoeld in 1A001.b, 1A001.c, 1A002 tot en met 1A005, 1B en 1C.

1E002
Andere "technologie", als hieronder:

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van polybenzothiazolen of polybenzoxazolen;

b.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermonomeer bevatten;

c.

"technologie" voor het ontwerpen of de "productie" van de volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde "composieten":

1.

basismaterialen met alle volgende kenmerken:

a.

met een van de onderstaande samenstellingen:

1.

enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of aluminium;

2.

enkelvoudige nitriden van boor (de kubusvormige kristalvormen);

3.

enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of

4.

enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium;

b.

met een totale hoeveelheid metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan:

1.

1 000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of

2.

5 000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden; en

c.

zijnde een van de navolgende materialen:

1.

zirkoonoxide met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 1 micrometer terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 5 micrometer;

2.

andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 micrometer terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 micrometer; of

3.

met alle navolgende eigenschappen:

a.

plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5;

b.

whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner dan 2 micrometer, en

c.

continu- of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 micrometer;

2.

keramische materialen, niet zijnde "composieten", samengesteld uit de materialen omschreven in 1E002.c.1;

Noot: 1E002.c.2 is niet van toepassing op de "technologie" voor het ontwerpen of vervaardigen van slijpmiddelen.

d.

"technologie" voor de "productie" van aromatische polyamidevezels;

e.

"technologie" voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen, bedoeld in 1C001;

f.

"technologie" voor het repareren van "composieten", laminaten of materialen, bedoeld in 1A002, 1C007.c of d.

Noot: 1E002.f is niet van toepassing op technologie voor de reparatie van casco’s van "civiele vliegtuigen" met koolstof- "stapel- of continuvezelmateriaal" en epoxyharsen, die is vermeld in de handleidingen van de vliegtuigfabrikant.

1E101
"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 tot en met 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 tot en met 1C117, 1D101 of 1D103.

1E102
"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D001, 1D101 of 1D103.

1E103
"Technologie" voor het regelen van de temperatuur, druk of atmosfeer in autoclaven of hydroclaven indien gebruikt voor de "productie" van composieten of halffabrikaten van composieten.

1E104
"Technologie" voor de "productie" van pyrolytisch gevormde materialen op een mal, doorn of ander substraat van gassen die ontleden bij temperaturen van 1 573 K (1 300 °C) tot 3 173 K (2 900 °C) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa.

Noot: 1E104 omvat tevens "technologie" voor het samenstellen van voorlopergassen, schema’s en gegevens in verband met stroomsnelheden en procesregeling.

1E201
"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende het "gebruik" van goederen, bedoeld in 1A002, 1A202, 1A225, 1A226, 1A227, 1B201, 1B225 t/m 1B233, 1C002.a.2.c of d, 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 t/m 1C240 of 1D201.

1E202
"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" of "productie" van goederen, bedoeld in 1A202, 1A225 tot en met 1A227.

1E203
"Technologie" overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de "ontwikkeling" van "programmatuur", bedoeld in 1D201.

CATEGORIE 2

MATERIAALBEWERKING

2A
Systemen, apparatuur en onderdelen

NB: voor stillopende rollagers, zie Lijst militaire goederen.

2A001
Wrijvingsloze rollagers of rollagersystemen, als hieronder, en onderdelen daarvan:

Noot: 2A001 is niet van toepassing op kogels met toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens klasse 5 ISO-norm 3290 of slechter.

a.

kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 4 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-7 of RBEC-7, of andere nationale equivalenten), of beter, en met zowel ringen als rolelementen (ISO 5593) gemaakt van monel of beryllium;

Noot: 2A001.a is niet van toepassing op kegelvormige rollagers.

b.

andere kogellagers of lagers met rollers uit één stuk met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO 492 tolerantieklasse 2 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-9 of RBEC-9, of andere nationale equivalenten), of beter;

Noot: 2A001.b is niet van toepassing op kegelvormige rollagers.

c.

actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van:

1.

materialen met fluxdichtheden van 2.0 T of groter en een vloeigrens van meer dan 414 MPa; of

2.

volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom — ontwerpen voor aandrijvers; of

3.

positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K (177 °C) en hoger).

2A225
Kroezen vervaardigd van metalen die bestand zijn tegen vloeibare actinidemetalen, als hieronder:

a.

kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 150 cm3 tot 8 000 cm3; en

2.

vervaardigd van of bekleed met een van onderstaande materialen, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger:

a.

calciumfluoride (CaF2);

b.

calciumzirkonaat (metazirkonaat) (CaZrO3);

c.

ceriumsulfide (Ce2S3);

d.

erbiumoxide (Er2O3);

e.

hafniumoxide (HFO2);

f.

magnesiumoxide (MgO);

g.

legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);

h.

ytttriumoxide (Y2O3); of

i.

zirkoniumoxide (ZrO2);

b.

kroezen met beide hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3; en

2.

vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 99,9 gewichtspercenten of hoger;

c.

kroezen met alle hiernavolgende kenmerken:

1.

een inhoud van 50 cm3 tot 2 000 cm3;

2.

vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger; en

3.

bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht welke combinatie hiervan.

2A226
Afsluiters met alle volgende kenmerken:

a.

een ‧nominale afmeting‧ van 5 mm of groter;

b.

met balgafdichting; en

c.

geheel vervaardigd van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een nikkellegering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat.

Technische noot:

Voor afsluiters met verschillende inlaat- en uitlaatopeningen heeft de in 2A226 bedoelde ‧nominale afmeting‧ betrekking op de kleinste diameter.

2B
Test-, inspectie- en productieapparatuur

Technische noten:

1.

Parallelle hulpcontourassen, bijvoorbeeld de w-as op horizontale kotterbanken of een tweede roterende hulpas waarvan de hartlijn parallel loopt met de roterende hoofdas, worden niet bij het totale aantal contourassen gerekend. Roterende assen hoeven niet over 360° draaibaar te zijn. Een roterende as kan worden aangedreven door een lineair mechanisme (bijvoorbeeld een draadspil of een tandheugel met rondsel).

2.

Voor de toepassing van 2 B is het aantal assen dat gelijktijdig kan samenwerken voor "contourbesturen" het aantal assen die de relatieve beweging tussen een werkstuk en een gereedschap, snijkop of slijpschijf dat/die materiaal van het werkstuk snijdt of verwijdert, beïnvloeden. Dit omvat niet eventuele extra assen die andere relatieve bewegingen in de machine beïnvloeden. Voorbeelden van zulke assen:

a.

steenrechtsystemen in slijpmachines;

b.

evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werkstukken te bevestigen;

c.

collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te bewerken door het aan verschillende kanten in een klauwplaat te klemmen.

3.

De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn met de internationale norm ISO 841 — Machines met numerieke besturing — benamingen van assen en bewegingen.

4.

Voor de toepassing van 2B001 tot en met 2B009 wordt een "kantelspil" beschouwd als een roterende as.

5.

Aangegeven instelnauwkeurigheidsniveaus op grond van metingen overeenkomstig norm ISO 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten mogen voor elk model werktuigmachine in plaats van individuele machinetests worden gebruikt. Aangegeven instelnauwkeurigheid betekent de nauwkeurigheidswaarde die wordt meegedeeld aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur is gevestigd als representatieve waarde voor de nauwkeurigheid van een machinemodel.

Bepaling van de aangegeven waarden

a.

Selecteer vijf machines van een bepaald model voor beoordeling;

b.

Meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeenkomstig ISO 230/2 (1988)  (2);

c.

Bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De methode voor de berekening van de A-waarde is beschreven in de ISO-norm;

d.

Bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke as. Deze gemiddelde waarde  wordt de aangegeven waarde van elke as van het model (Âx, Ây, …);

e.

Aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als lineaire assen zijn;

f.

Indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c of 2B201 bedoeld machinemodel, een aangegeven nauwkeurigheid  van 6 micrometer of nauwkeuriger bij machines voor slijpen en 8 micrometer of nauwkeuriger bij machines voor frezen of draaien heeft, moet de fabrikant het nauwkeurigheidsniveau om de achttien maanden opnieuw bevestigen.

2B001
Werktuigmachines en combinaties daarvan, voor het verspanen (of snijden) van metalen, keramische materialen of "composieten", die, volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor "numerieke besturing" en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B201.

Noot 1: In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van tandwielen. Zie voor dergelijke machines 2B003.

Noot 2: In 2B001 zijn niet bedoeld werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen:

a.

krukassen of nokkenassen;

b.

gereedschappen of frezen;

c.

extrusiewormen;

d.

gegraveerde of geslepen delen van juwelen.

Noot 3: Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001 a.,b., of c worden beoordeeld.

a.

werktuigmachines voor draaien met de volgende eigenschappen:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

2.

twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

Noot: 2B001.a is niet van toepassing op machines voor draaien die speciaal zijn ontworpen voor de productie van contactlenzen.

b.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

met alle volgende eigenschappen:

a.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

b.

drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

2.

vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; of

3.

een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as;

4.

Machines die gebruik maken van een slagmes («fly cutters») met alle volgende kenmerken:

a.

een "rondloopnauwkeurigheid" («run out») en "axiale slag" van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en

b.

een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR);

c.

werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

met alle volgende eigenschappen:

a.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; en

b.

drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; of

2.

vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

Noot: In 2B001.c zijn niet bedoeld slijpmachines als hieronder:

1.

Uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:

a.

beperkt tot rondslijpen; en

b.

een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm.

2.

Machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines en een of meer van de volgende kenmerken bezitten:

a.

de c-as wordt gebruikt om de slijpschijf in een loodrechte positie ten opzichte van het werkoppervlak te houden; of

b.

de a-as is geconfigureerd voor het slijpen van onronde schijven.

3.

Vlakslijpers.

d.

vonkmachines (EDM) van het draadloze type, met twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen";

e.

werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische materialen of "composieten", met de volgende eigenschappen:

1.

verspanen van materiaal met een of meer van de volgende middelen:

a.

waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen;

b.

een elektronenbundel; of

c.

een laserstraal; en

2.

twee of meer roterende assen die:

a.

gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturing", en

b.

een instelnauwkeurigheid hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003°;

f.

langgatboormachines of machines voor draaien die zijn aangepast voor langgatboren, met een maximum boordiepte van meer dan 5 000 mm, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

2B002
Numeriek bestuurde werktuigmachines die gebruik maken van een magnetoreologisch- afwerkingsprocédé (MRF).

Technische noot:

Voor de toepassing van 2B002 is MRF een materiaalverwijderingsprocédé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve magnetische vloeistof waarvan de viscositeit via een magnetisch veld wordt gecontroleerd.

2B003
"Numeriek bestuurde" en handgestuurde werktuigmachines en speciaal ontworpen onderdelen, regelapparatuur en toebehoren daarvoor, speciaal ontworpen voor het snijden, afwerken, slijpen of wetten van geharde (Rc = 40 of meer) rechte, schroef- en dubbelgeschroefde tandwielen met een steekdiameter groter dan 1 250 mm en een kopbreedte gelijk aan of groter dan 15 % van de steekdiameter, afgewerkt tot een kwaliteit gelijk aan of beter dan AGMA 14 (gelijkwaardig aan ISO-norm 1328, klasse 3).

2B004
Hete "isostatische persen", met alle hieronder vermelde kenmerken, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor:

NB: ZIE OOK 2B104 EN 2B204

a.

met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en

b.

met een van de onderstaande eigenschappen:

1.

een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa;

2.

een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1 773 K (1 500 oC); of

3.

de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten.

Technische noot:

De binnenmaat betreft de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komt en omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt.

NB: Voor speciaal ontworpen matrijzen, mallen en gereedschappen, zie 1B003, 9B009 en de Lijst militaire goederen.

2B005
Speciaal ontworpen apparatuur voor de afzetting, verwerking en procesbesturing van anorganische deklagen, bekledingen en oppervlakmodificaties, als hieronder, voor niet-elektronische substraten door middel van de in de tabel en bijbehorende noten na 2E003.f omschreven procédés en speciaal daarvoor ontworpen geautomatiseerde onderdelen voor de hantering, positionering, manipulatie en besturing:

a.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle onderstaande mogelijkheden:

NB: ZIE OOK 2B105

1.

aangepast procédé voor een van onderstaande technieken:

a.

pulserende CVD;

b.

thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD), of

c.

met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD, en

2.

met een van beide onderstaande eigenschappen:

a.

omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of

b.

omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;

b.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger;

c.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat, met een van de volgende kenmerken:

1.

een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert, of

2.

een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert;

d.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van beide volgende kenmerken:

1.

werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer geschikt voor het bereiken van een druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces; of

2.

omvat in situ regulering van de dikte van de bekledingslaag;

e.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 micrometer/uur of meer;

f.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode;

g.

"met opgeslagen programma bestuurde" productieapparatuur voor «ion plating» met de mogelijkheid van het in situ meten van ofwel:

1.

de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting, of

2.

optische kenmerken.

Noot: 2B005 is niet van toepassing op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, «ion-plating», of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines.

2B006
Maatinspectie- , meetsystemen of -apparatuur, als hieronder:

a.

computergestuurde, "numeriek bestuurde" of "met opgeslagen programma bestuurde" coördinatenmeetmachines (CMM), met een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare indicatiefout (maximum permissible error of indication, MPEF) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1 000) micrometer (L is de gemeten lengte in mm), getest overeenkomstig ISO 10360-2 (2001);

NB: ZIE OOK 2B206

b.

meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als hieronder:

1.

meetinstrumenten voor lineaire verplaatsingen met een of meer van de volgende kenmerken:

Technische noot:

In punt 2B006.b.1 moet onder "lineaire verplaatsing" worden verstaan de verandering van de afstand tussen de meetpen en het gemeten voorwerp.

a.

meetsystemen van het contactloze type met een "resolutie" gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 micrometer binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm;

b.

lineaire spanningsverschilomzetters met beide volgende kenmerken:

1.

"lineariteit" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % binnen een meetgebied tot en met 5 mm; en

2.

verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevingstemperatuur in de testruimte ± 1 K; of

c.

meetsystemen met alle volgende kenmerken:

1.

zij bevatten een "laser", en

2.

zij handhaven, bij een standaardomgevingstemperatuur ± 1 K en bij een standaarddruk, gedurende ten minste 12 uur:

a.

een "resolutie" over hun volledige schaal van 0,1 micrometer of kleiner (beter), en

b.

een "meetonzekerheid" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (0,2 + L/2 000) micrometer (L is de gemeten lengte in mm);

Noot: 2B006.b.1 is niet van toepassing op interferometermeetsystemen, zonder open of gesloten terugkoppeling, die een "laser" bevatten voor het meten van fouten in de sledebeweging van machinewerktuigen, meetmachines of dergelijke apparatuur.

2.

meetinstrumenten voor hoekverplaatsingen met een "hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025o;

Noot: In 2B006.b.2 zijn niet bedoeld optische instrumenten, zoals autocollimatoren, die gebruik maken van gecollimeerd licht (bv. laserlicht) voor de bepaling van hoekverplaatsingen van een spiegel.

c.

apparatuur voor het meten van ongelijkmatigheden in oppervlakken met een gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z. nauwkeuriger), door het meten van optische verstrooiing als een functie van de hoek.

Noot: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie.

2B007
"Robots", met een of meer van de hieronder vermelde kenmerken, en speciaal ontworpen besturingsapparatuur en "eindeffectoren" daarvoor:

NB: ZIE OOK 2B207

a.

geschikt voor tijdgebonden («in real time»), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale ‧beeldanalyse‧ voor het maken of wijzigen van "programma's" of voor het maken of wijzigen van numerieke programmagegevens;

Technische noot:

Deze beperking van de ‧beeldanalyse‧ sluit een bepaling van de derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 1/2 D).

b.

speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met explosieven;

c.

speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan 5 × 103 Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking; of

Technische noot:

De term Gray (silicium) verwijst naar de energie in Joules per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermd siliciummonster dat aan ioniserende straling wordt blootgesteld.

d.

speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan 30 000 meter.

2B008
Samenstellingen of eenheden, speciaal ontworpen voor werktuigmachines, maatinspectie-, meetsystemen of -apparatuur, als hieronder:

a.

lineaire plaatsbepalers, bijvoorbeeld plaatsbepalers van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een lineaire verplaatsing die een totale "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L × 10 –3)) nm (waarbij L de effectieve lengte is in mm);

NB: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.

b.

roterende plaatsbepalers, bijvoorbeeld van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen, of "laser"-systemen, voor terugkoppeling van een hoekverdraaiing die een "nauwkeurigheid" hebben kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°;

NB: Voor "laser"-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.

c.

"samengestelde draaitafels" of "kantelspillen" die volgens de technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B.

2B009
Forceer-(«spin-forming») of vloei-(«flow-forming») draaibanken die, volgens de technische specificaties van de fabrikant, kunnen worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing, en die de volgende eigenschappen bezitten:

NB: ZIE OOK 2B109 EN 2B209

a.

twee of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen"; en

b.

een walskracht van meer dan 60 kN.

Technische noot:

Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor de toepassing van 2B009 beschouwd als vloeidraaibanken.

2B104
"Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004, met alle volgende eigenschappen:

NB: ZIE OOK 2B204

a.

een maximale werkdruk van 69 MPa of meer;

b.

ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en

c.

met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer.

2B105
CVD-ovens, anders dan bedoeld in 2B005.a, ontworpen of aangepast voor het verdichten van koolstof-koolstofcomposieten.

2B109
Vloeidraaibanken («flow-forming-machines») die niet onder 2B009 vallen, en speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B2092

a.

vloeidraaibanken die de volgende eigenschappen bezitten:

1.

volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met "numerieke besturings"-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en

2.

meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor "contourbesturen".

b.

speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a bedoelde vloeidraaibanken.

Noot: In 2B109 worden niet bedoeld machines die niet kunnen worden gebruikt voor de productie van onderdelen en uitrusting (b.v. motorhuizen) voor voortstuwingssystemen als bedoeld in 9A005, 9A007.a of 9A105.a.

Technische noot:

Machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, worden voor de toepassing van 2B109 beschouwd als vloeidraaibanken.

2B116
Systemen en apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen en componenten daarvoor, als hieronder:

a.

systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met 10 g RMS (eff.) of meer over de gehele frequentieband van 20 Hz tot 2 000 Hz en die krachten kunnen overbrengen van 50 kN of meer, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten;

b.

digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een "real-time-bandbreedte" van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116.a;

c.

trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht van 50 kN of meer uit te oefenen, met ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a;

d.

beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht van 50 kN of meer uit te oefenen, met een ‧onbelaste tafel‧ gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a.

Technische noot:

In 2B116 betekent ‧onbelaste tafel‧ een vlakke tafel of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken.

2B117
Apparatuur en procesregeleenheden, met uitzondering van die bedoeld in 2B004, 2B005.a, 2B104 of 2B105, ontworpen of aangepast voor de verdichting en pyrolyse van composiet raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen («re-entry»).

2B119
Balanceermachines en aanverwante uitrusting, als hieronder:

NB: ZIE OOK 2B219

a.

balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten:

1.

niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg;

2.

geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12 500 t.p.m.;

3.

geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en

4.

geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht;

Noot: 2B119.a is niet van toepassing op balanceermachines die ontworpen of aangepast zijn voor tandheelkundige of andere medische uitrusting.

b.

indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119.a aangegeven machines.

Technische noot:

Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd.

2B120
Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels die alle navolgende kenmerken hebben:

a.

twee of meer assen;

b.

sleepringen geschikt om elektrisch vermogen en/of signaalinformatie over te brengen; en

c.

een of meer van de navolgende kenmerken hebben:

1.

voor elke aparte as alle navolgende kenmerken hebben:

a.

geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en

b.

een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s;

2.

met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of

3.

een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden.

Noot: 2B120 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of voor medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008.

2B121
Andere dan de in 2B120 aangegeven insteltafels (apparatuur, geschikt voor precieze roterende instelling in elke as), die alle navolgende kenmerken hebben:

a.

twee of meer assen; en

b.

een instelnauwkeurigheid gelijk aan of beter dan 5 boogseconden.

Noot: 2B121 is niet van toepassing op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008.

2B122
Centrifuges die versnellingen van meer dan 100 g kunnen overbrengen en sleepringen bezitten die elektrisch vermogen en signaalinformatie kunnen overbrengen.

2B201
Werktuigmachines, anders dan bedoeld in 2B001, voor het verspanen of snijden van metalen, keramische materialen of "composieten", die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor gelijktijdig "contourbesturen" in twee of meer assen, als hieronder:

a.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

2.

twee of meer roterende contourassen;

Noot: 2B201.a is niet van toepassing op werktuigmachines voor frezen met de volgende kenmerken:

a.

axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 meter; en

b.

totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 micrometer;

b.

werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende kenmerken:

1.

een instelnauwkeurigheid, "inclusief alle compensaties", die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 micrometer overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) (2) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

2.

twee of meer roterende contourassen;

Noot: 2B201.b is niet van toepassing op de volgende werktuigmachines voor slijpen:

a.

uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende kenmerken:

1.

beperkt tot rondslijpen;

2.

een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm;

3.

niet meer dan twee assen kunnen gelijktijdig samenwerken voor "contourbesturen"; en

4.

geen c-contouras;

b.

pasmal slijpmachines met assen die beperkt blijven tot x, y, c en a; de c-as wordt gebruikt om de slijpschijf in een loodrechte positie ten opzichte van het werkoppervlak te houden en de a-as is geconfigureerd voor het slijpen van onronde schijven;

c.

gereedschapsslijpmachines met "programmatuur" die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van gereedschappen of frezen; of

d.

krukassenslijpmachines of nokkenassenslijpmachines.

2B204
"Isostatische persen", anders dan bedoeld in 2B004 of 2B104 en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

a.

"isostatische persen" met beide volgende kenmerken:

1.

geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en

2.

met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm;

b.

matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor "isostatische persen", bedoeld in 2B204.a.

Technische noot:

In 2B204 betreft de binnenmaat de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komen en zij omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt.

2B206
Niet onder 2B006 opgenomen meetmachines, -instrumenten of -systemen, als hieronder:

a.

computergestuurde of numeriek bestuurde meetmachines met beide volgende kenmerken:

1.

twee of meer assen; en

2.

een eendimensionale "meetonzekerheid" gelijk aan of kleiner (nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1 000) micrometer, getest met een sonde met een "nauwkeurigheid" kleiner (nauwkeuriger) dan 0,2 micrometer (L is de gemeten lengte in mm) (ref. VDI/VDE 2617 delen 1 en 2);

b.

systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende kenmerken:

1.

"meetonzekerheid" langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 micrometer per 5 mm; en

2.

"hoekafwijking" gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02°.

Noot 1: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter zijn dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie.

Noot 2: Indien een machine als omschreven in 2B206 op enig punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt de machine bedoeld.

Technische noten:

1.

De bij de bepaling van de "meetonzekerheid" van een maatinspectiesysteem gebruikte sonde dient te voldoen aan de omschrijving in VDI/VDE 2617, delen 2, 3 en 4.

2.

Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoordigen plus/minus-waarden, niet het totale meetbereik.

2B207
"Robots", "eindeffectoren" en besturingseenheden, anders dan bedoeld in 2B007, als hierna vermeld:

a.

"robots" of "eindeffectoren", speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante springstoffen);

b.

besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a vermelde "robots" of "eindeffectoren".

2B209
Vloei- («flow-forming») draaibanken, forceer- («spin-forming») draaibanken die vloeidraaifuncties kunnen verrichten, anders dan bedoeld in 2B009 of 2B109, en spillen, als hieronder:

a.

machines met beide volgende kenmerken:

1.

drie of meer rollen (actieve of leirollen); en

2.

volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met "numerieke besturings"-eenheden of computerbesturing;

b.

spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm-400 mm.

Noot: 2B209.a omvat machines die slechts één enkele rol hebben die ontworpen is om metaal te vervormen, plus twee hulprollen ter ondersteuning van de spil, die echter niet rechtstreeks deelnemen aan het vervormingsproces.

2B219
Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in verscheidene vlakken, vast of draagbaar, horizontaal of verticaal, als hieronder:

a.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende kenmerken:

1.

een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm;

2.

geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en

3.

geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5 000 t.p.m.;

b.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle volgende kenmerken:

1.

een tapdiameter groter dan 75 mm;

2.

geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg;

3.

geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en

4.

van het type met riemaandrijving.

2B225
Op afstand bediende manipulatoren die kunnen worden aangewend voor het doen verrichten van handelingen op afstand bij radiochemische scheidingswerkingen of in hete cellen, met een van de volgende kenmerken:

a.

geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of

b.

geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen).

Technische noot:

Op afstand bediende manipulatoren zorgen voor het mechanisch overbrengen van handelingen van een bediener naar een bedieningsarm en eindklem. Deze kunnen van het zgn. meester/slaaf-type zijn of worden bediend via een joystick of een toetsenbord.

2B226
Inductieovens, werkend met beheerste atmosfeer (vacuüm of inert gas) en stroombronnen daarvoor, als hieronder:

NB: ZIE OOK 3B

a.

ovens met alle volgende kenmerken:

1.

geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1 123 K (850 °C);

2.

met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en

3.

ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer;

b.

speciaal voor in 2B226.a omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer.

Noot: Ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken («wafers») zijn niet bedoeld in 2B226.a.

2B227
Metallurgische smelt- en gietovens met vacuüm of op een andere wijze beheerste atmosfeer en bijbehorende apparatuur, als hieronder:

a.

vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende kenmerken:

1.

met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1 000 en 20 000 cm3; en

2.

geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 973 K (1 700 °C);

b.

ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende kenmerken:

1.

een vermogen van 50 kW of meer; en

2.

geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1 473 K (1 200 °C);

c.

computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227.a en 2B227.b bedoelde ovens.

2B228
Apparatuur voor de vervaardiging of assemblage van rotoren, rotorrichtapparatuur, spillen en matrijzen voor het vormen van balgen, als hieronder:

a.

rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentrifuges;

Noot: 2B228.a omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen;

b.

rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as;

Technische noot:

Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt.

c.

balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding.

Technische noot:

De in 2B228.c bedoelde balgen hebben alle volgende kenmerken:

1.

binnendiameter van 75 mm tot 400 mm,

2.

lengte van 12,7 mm of meer,

3.

dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en

4.

vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of "stapel- en continuvezelmateriaal" met een hoge sterkte.

2B230
"Drukomzetters", geschikt voor het meten van de absolute druk op elk punt in het traject van 0 tot en met 13 kPa, met beide hiernavolgende kenmerken:

a.

drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel, en

b.

een van de twee hiernavolgende kenmerken:

1.

een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of

2.

een volledig bereik van 13 kPa of groter en een ‧nauwkeurigheid‧ beter dan ± 130 Pa.

Technische noot:

Voor de toepassing van 2B230 houdt ‧nauwkeurigheid‧ in non-lineariteit, hysteresis en herhaalbaarheid bij omgevingstemperatuur.

2B231
Vacuümpompen met alle volgende kenmerken:

a.

een toevoerhals van 380 mm of groter;

b.

een pompsnelheid van 15 000 liter/seconde of meer; en

c.

geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa.

Technische noten:

1.

De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met stikstofgas of lucht.

2.

De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten.

2B232
Meertrapskanonnen voor lichte gassen of andere kanonsystemen voor hoge snelheden (spoel-elektromagnetische en thermo-elektrische types en andere geavanceerde systemen) die projectielen kunnen versnellen tot een snelheid van 2 km per seconde of meer.

2B350
Chemische productieapparatuur en onderdelen daarvan, als hieronder:

a.

reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20 000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5.

tantaal of tantaallegeringen;

6.

titaan of titaanlegeringen; of

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

b.

roerwerken voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350.a, en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5.

tantaal of tantaallegeringen;

6.

titaan of titaanlegeringen; of

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

c.

opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5.

tantaal of tantaallegeringen;

6.

titaan of titaanlegeringen; of

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

d.

warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

grafiet of "koolstofgrafiet";

5.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

6.

tantaal of tantaallegeringen;

7.

titaan of titaanlegeringen;

8.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

9.

siliciumcarbide; of

10.

titaancarbide;

e.

distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, dampverdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

grafiet of "koolstofgrafiet";

5.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

6.

tantaal of tantaallegeringen;

7.

titaan of titaanlegeringen; of

8.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

f.

op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of

2.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

g.

kleppen met een nominale afmeting van meer dan 10 mm en de voor die kleppen ontworpen omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5.

tantaal of tantaallegeringen;

6.

titaan of titaanlegeringen; of

7.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

h.

dubbelwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

fluorpolymeren;

3.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

4.

grafiet of "koolstofgrafiet";

5.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

6.

tantaal of tantaallegeringen;

7.

titaan of titaanlegeringen; of

8.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

i.

balg- of diafragmapompen met meervoudige afdichting, met ingekapselde rotor of magnetisch aangedreven, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa), en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

keramiek;

3.

ferrosilicium;

4.

fluorpolymeren;

5.

glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding («lining»);

6.

grafiet of "koolstofgrafiet";

7.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

8.

tantaal of tantaallegeringen;

9.

titaan of titaanlegeringen; of

10.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

j.

verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1 273 K (1 000oC), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen:

1.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2.

keramiek; of

3.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten.

Technische noot:

"Koolstofgrafiet" is een composiet bestaande uit amorf koolstof en grafiet, met 8 of meer gewichtspercenten grafiet.

2B351
Controleapparatuur voor giftige gassen, als hieronder, vermeld en speciaal daarvoor ontworpen detectoren:

a.

geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram per m3 lucht, of

b.

geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen.

2B352
Uitrusting, geschikt voor het manipuleren van biologische stoffen, als hieronder:

a.

complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4;

Technische noot:

P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (2e editie, Genève 1993).

b.

fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene "micro-organismen" of virussen of de productie van "toxinen", zonder aërosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer;

Technische noot:

Fermentoren omvatten bioreactoren, chemostaten en continustroomsystemen.

c.

centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aërosolvorming, met alle volgende kenmerken:

1.

een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur;

2.

met componenten gemaakt van gepolijst roestvrij staal of titaan;

3.

met een of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en

4.

geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand;

Technische noot:

Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen.

d.

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder:

1.

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-organismen, virussen, toxines of celculturen zonder aërosolvorming, met beide volgende kenmerken:

a.

een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer; en

b.

in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden;

Technische noot:

In 2B352.d.1.b. slaat gesteriliseerd op het verwijderen van alle levensvatbare bacteriën uit de apparatuur door middel van fysieke (bv. stoom) of chemische agentia. Gedesinfecteerd betekent dat iedere mogelijke bacteriële infectiviteit in de apparatuur door middel van chemische agentia met een kiemdodende werking volledig is uitgeschakeld. Desinfectie en sterilisatie zijn te onderscheiden van reiniging, waarmee schoonmaakprocédés worden bedoeld die het bacteriële gehalte van de apparatuur verminderen zonder de bacteriële infectiviteit of levensvatbaarheid noodzakelijkerwijze volledig uit te schakelen.

2.

Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352 vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur.

Noot: In 2B352.d wordt niet bedoeld apparatuur voor omgekeerde osmose, zoals gespecificeerd door de fabrikant.

e.

vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1 000 kg ijs per 24 uur;

f.

beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder:

1.

pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe luchttoevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen

Noot: Pakken die zijn ontworpen om met onafhankelijke ademhalingsapparatuur te worden gedragen, vallen niet onder 2B352.f.1.

2.

biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen;

Noot: De isolerende systemen in 2B352.f.2 omvatten flexibele isolatoren, droge kasten, anaërobe kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met laminaire stroming (gesloten met verticale stroming).

g.

aërosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met "micro-organismen", virussen of "toxinen" met een capaciteit van 1 m3 of meer.

2C
Materialen

Geen.

2D
Programmatuur

2D001
"Programmatuur" die verschilt van de in 2D002 bedoelde programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2A001 of 2B001 t/m 2B009.

2D002
"Programmatuur" voor elektronische toestellen, ook wanneer geïntegreerd in een elektronisch toestel of systeem, waardoor dergelijke toestellen of systemen kunnen functioneren als "numerieke besturings"-eenheid, en geschikt om meer dan vier assen gelijktijdig te laten samenwerken voor "contourbesturen".

Noot 1: 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" die speciaal is ontworpen of aangepast voor de bediening van werktuigmachines die niet zijn vermeld in categorie 2.

Noot 2: 2D002 is niet van toepassing op "programmatuur" voor goederen die zijn vermeld in 2B002. Zie 2D001 voor programmatuur voor goederen vermeld in 2B002.

2D101
"Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 of 2B119 tot en met 2B122.

Opmerking: ZIE OOK 9D004

2D201
"Programmatuur" speciaal ontworpen voor het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 of 2B227.

2D202
"Programmatuur" speciaal ontworpen of aangepast voor de "ontwikkeling", de "productie" of het "gebruik" van apparatuur, bedoeld in 2B201.

2E
Technologie

2E001
"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "ontwikkeling" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2A, 2B of 2D.

2E002
"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor de "productie" van apparatuur, bedoeld in 2A of 2B.

2E003
Andere "technologie", als hieronder:

a.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in "numerieke besturings"-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma's;

b.

"technologie" voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder:

1.

technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen:

a.

"superplastisch vormen";

b.

"diffusielassen"; of

c.

"direct hydraulisch persen";

2.

technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van:

a.

"superplastisch vormen" van aluminium-, titaan- en "superlegeringen":

1.

oppervlaktevoorbehandeling;

2.

reksnelheid;

3.

temperatuur;

4.

druk;

b.

"diffusielassen" van "superlegeringen" en titaanlegeringen:

1.

oppervlaktevoorbehandeling;

2.

temperatuur;

3.

druk;

c.

"direct hydraulisch persen" van aluminium en titaanlegeringen:

1.

druk;

2.

cyclustijd;

d.

"heet isostatisch verdichten" van titaan- , aluminium- en "superlegeringen":

1.

temperatuur;

2.

druk;

3.

cyclustijd;

c.

"technologie" voor de "ontwikkeling" of "productie" van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies;

d.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van generatoren van instructies voor werktuigmachines (b.v. werkstukprogramma's) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in "numerieke besturings"-eenheden;

e.

"technologie" voor de "ontwikkeling" van integratie-"programmatuur" voor het inbouwen van expertsystemen in "numerieke besturings"-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer;

f.

"technologie" voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op nieţ-elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procédés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten.

Noot: De tabel en de technische noot zijn opgenomen na punt 2E301.

2E101
"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116 2B119 tot en met 2B122 of 2D101.

2E201
"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van apparatuur of "programmatuur", bedoeld in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 t/m 2B232, 2D201 of 2D202.

2E301
"Technologie" volgens de algemene technologienoot voor het "gebruik" van goederen bedoeld, in 2B350 t/m 2B352.

Tabel

Afzettingstechnieken

1.

Bekledingsprocédé (1) (3)

2.

Substraat

3.

Resulterende deklaag

A.

chemische afzetting uit de dampfase (CVD)

"superlegeringen"

Aluminiden voor inwendige kanalen

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

Siliciden

carbiden

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

Siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

siliciumcarbide (18)

Carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

Diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamant

diamantachtige koolstof (17)

B.

thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen)

 

 

B.1.

elektronenstraalverdampen (EB-PVD)

"superlegeringen"

Gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

McrAlX (5)

Gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

siliciden

aluminiden

mengsels daarvan (4)

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

Diëlektrische lagen (15)

roestwerend staal (7)

McrAlX (5)

Gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

"composieten" met een koolstof-koolstof- , keramische of metaal "matrix"

Siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

siliciumcarbide (18)

Carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

Diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

diëlektrische lagen (15)

boriden

beryllium

sensorvenstermaterialen (9)

Diëlektrische lagen (15)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

B.2.

Afzetting uit de dampfase: ion-plating

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

Siliciden

Diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

Diëlektrische lagen (15)

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide

Diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

Diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

Diëlektrische lagen (15)

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige kodstof koolstof (17)

B.3.

Afzetting uit de dampfase: "laser"-verdamping

keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

Siliciden

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

Diëlektrische lagen (15)

gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide

Diëlektrische lagen (15)

molybdeen en molybdeenlegeringen

Diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

Diëlektrische lagen (15)

sensorvenstermaterialen (9)

Diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

B.4.

Afzetting uit de dampfase: boogverdampen

"superlegeringen"

Gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

McrAlX (5)

polymeren (11) en "composieten" met een organische "matrix"

Boriden

carbiden

nitriden

diamantachtige koolstof (17)

C.

«Pack» cementering (zie A hierboven voor «out-of-pack» cementering (10)

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

Siliciden

carbiden

mengsels daarvan (4)

titaanlegeringen (13)

Siliciden

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

Siliciden

oxiden

D.

plasmaspuiten

"superlegeringen"

McrAlX (5)

Gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

slijtbaar nikkelgrafiet

slijtbare materialen met Ni-Cr-Al

slijtbaar Al-Si-polyester

gelegeerde aluminiden (2)

aluminiumlegeringen (6)

McrAlX (5)

Gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

siliciden

mengsels daarvan (4)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

Aluminiden

siliciden

carbiden

roestwerend staal (7)

MCrAIX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

mengsels daarvan (4)

titaanlegeringen (13)

carbiden

aluminiden

siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

slijtbaar nikkelgrafiet

slijtbare materialen met Ni-Cr-A1

slijtbaar A1-Si-polyester

E.

Afzetting uit suspensie en legeringen

vuurvaste metalen en legeringen (8)

ineengesmolten siliciden

ineengesmolten aluminiden met uitzondering van weerstandsverhittingselementen

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

mengsels daarvan (4)

F.

Afzetting door middel van sputteren

"superlegeringen"

gelegeerde siliciden

gelegeerde aluminiden (2)

aluminiden gemodificeerd met edele metalen (3)

MCrAlX (5)

gemodificeerd zirkoniumoxide (12)

platina

mengsels daarvan (4)

keramische materialen en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14)

siliciden

platina

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

oxiden

siliciden

aluminiden

gelegeerde aluminiden (2)

carbiden

"composieten" met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal "matrix"

siliciden

carbiden

vuurvaste metalen

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

siliciumcarbide (18)

carbiden

wolfraam

mengsels daarvan (4)

diëlektrische lagen (15)

boriumnitride

molybdeen en molybdeenlegeringen

diëlektrische lagen (15)

beryllium en berylliumlegeringen

boriden

diëlektrische lagen (15)

beryllium

sensorvenstermaterialen (9)

diëlektrische lagen (15)

diamantachtige koolstof (17)

vuurvaste metalen en legeringen (8)

aluminiden

siliciden

oxiden

carbiden

G.

ionenimplantatie

hoge temperatuur lagerstaalsoorten

toevoeging van chroom, tantaal of niobium (columbium)

titaanlegeringen (13)

boriden

nitriden

beryllium en berylliumlegeringen

boriden

gecementeerde wolfraamcarbide (16)

carbiden

nitriden

Tabel — Afzettingstechnieken — noten

1.

‧Bekledingsprocédé‧ behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oorspronkelijke deklaag.

2.

Eénfasige of meerfase-bekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocédé worden afgezet, mede begrepen onder de term ‧bekleding met gelegeerde aluminide‧; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige «pack» cementeringsprocédés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen.

3.

Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocédé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term ‧met edelmetaal gemodificeerde aluminide‧-bekleding.

4.

Het begrip ‧mengsels daarvan‧ omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocédés.

5.

Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van:

a.

CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium;

b.

CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium; of

c.

NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium.

6.

Met ‧aluminiumlegeringen‧ worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C).

7.

Met ‧roestwerend staal‧ wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten.

8.

‧Vuurvaste metalen en legeringen‧ omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal.

9.

"Sensorvenstermaterialen", als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride.

10.

Technologie voor het in één fase «pack» cementeren van massieve aërodynamische vlakken wordt niet bedoeld in deze categorie.

11.

‧Polymeren‧, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen.

12.

‧Gemodificeerd zirkoniumoxide‧ verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, b.v. calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld.

13.

Met ‧titaanlegeringen‧ worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 oC).

14.

Met ‧glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt‧ worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10–7 K– 1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C).

15.

‧Diëlektrische lagen‧ zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of "composiete" diëlektrische/metaallagen.

16.

Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de ‧gecementeerde wolfraamcarbide‧ in de tabel.

17.

Niet bedoeld wordt "technologie" die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen:

 

magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % beryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic.

18.

‧Siliciumcarbide‧ omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen.

19.

Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie.

De definities van de in kolom 1 van de tabel vermelde procédés luiden als volgt:

a.

Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procédé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, "composiet", diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door "laser"-bestraling.

NB 1: CVD omvat de volgende procédés: «out-of-pack»-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procédés.

NB 2:«Pack» geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel.

NB 3: Het bij het «out-of-pack»-procédé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het «pack» cementeringsprocédé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel.

b.

Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procédé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat.

De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocédé voor het opbouwen van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procédé.

Het gebruik van een ionen of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procédés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag.

Specifieke TE-PVD-procédés verlopen als volgt:

1.

bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruik gemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

2.

bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruik gemaakt van elektrische weerstandsverwarmingsbronnen in combinatie met een of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren;

3.

bij "laser"-verdamping wordt gebruik gemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue "laser"-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

4.

Boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen.

NB: Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet mede begrepen in deze definitie.

5.

«Ion-plating» is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procédé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische kenmerken en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het procédé.

c.

«Pack» cementering is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn. «pack», dat bestaat uit:

1.

de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan);

2.

een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en

3.

een inert stof, meestal aluminiumoxide.

Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1 030 K (757 °C) à 1 375 K (1 102 °) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag.

d.

Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocédé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid.

NB 1: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk.

NB 2: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa.

e.

Afzetting uit suspensie is een procédé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen.

f.

Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocédé dat is gebaseerd op een verschijnsel van impulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de tre